H01L — Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам

Страница 36

Криостат для охлаждаемого приемника лучистой энергии

Загрузка...

Номер патента: 453539

Опубликовано: 15.12.1974

Авторы: Буткевич, Васильев, Кдзандед, Полищук

МПК: F25D 3/10, H01L 23/34

Метки: криостат, лучистой, охлаждаемого, приемника, энергии

...50 - 200 мкм, ц надежно охлаждап чувствительный элемент. 25На чертеже показан описываемый криостат.Чувствительный элемент 1 приемника лучистой энергии защищен окном 2 и укреплен на дне 3 наружной оболочки сосуда Дьюара. Упругий холодопровод 4 обеспечивает тепло вои контакт наружнои оболочки с дном 5 внутренней оболочки и размещен внутри вакуумной полости 6. Снаружи криостат окружен защитным корпусом 7, через стенки которого пропущены токовводы 8. Источник холода находится в полости 9.При работе криостата дно 5 внутренней оболочки охлаждается источником холода, размещенным в полости 9. По холодопроводу 4 через окно 2 тепловое возмущение проникает к чувствительному элементу 1, охлаждая последний. Так как чувствцтельныц элемент...

Бесконтактный термопреобразователь для измерения тока

Загрузка...

Номер патента: 453640

Опубликовано: 15.12.1974

Авторы: Бадинтер, Гелль, Кишиневский, Любчак, Старуш

МПК: G01R 19/03, H01L 35/00

Метки: бесконтактный, термопреобразователь

...оттоком тепла по проводам термопары.Это достигается тем, что в предлагаемом термопреобразователе на прилегающих к термопаре участках нагревателя стеклянная изоляция заменена покрытием из металла с высокой теплопроводностью, например серебра, на поверхность которого нанесено второе покрытие из диэлектрического материала,На чертеже показан описываемый термопреобразователь.На резистивную жилутеля нанесено покрытиекой теплопроводностью,Проводящий матер иатермопары 4 и 5 не имее такта с покрытием 2, Стеклянная изоляция 6 нанесена на резистивную жилу в месте сная термопары. Защитный слой диэлектрического материала 7 нанесен на покрытие 2.5 При прохождении электрического тока через нагреватель термопреобразователя в месте сная термопары...

Охлаждаемый токоввод

Загрузка...

Номер патента: 453764

Опубликовано: 15.12.1974

Автор: Нов

МПК: F17C 3/02, H01L 39/00, H02G 1/00 ...

Метки: охлаждаемый, токоввод

...Это достигается тем, что корпус токоввода снабжен приводом для сообщения ему вращательного движения, а завихрители выполнены в виде плоских лопаток и закреплены на корпусе.Турбулизация охлаждающего газового потока лопатками при вращении корпуса увеличивает теплоотвод от поверхности токонесущего элемента.На фнг. 1 показан предлагаена фиг. 2 - то же, разрез поТоковвод содержит корпус 1,го размещен токонесущии элевки 3, завихряющие поток газа,крепленный на корпусе. Уплотни5 и б предотвращают утечку газкриогенного устройства 7 с устанем опорой вращения 8. Электрдается к токовводу через шинучерез шину 10.Корпус 1 токоввода приводитс10 ние при помощи шкива 4. Упузел 5, одновременно являющийсдает возможность корпусу вращтельно неподвижного...

Сверхпроводящее коммутирующее устройство

Загрузка...

Номер патента: 454624

Опубликовано: 25.12.1974

Авторы: Алексеев, Веденов, Мельникова

МПК: H01F 6/00, H01L 39/12

Метки: коммутирующее, сверхпроводящее

...для размыкателя использованы керметы на основе сверхпроводящего металла и высокоогнеупорного диэлектрика, например на основе МЬ и А 1,0 з, Как показали проведенные исследования, такие керметы обладают сверхпроводящими свойствами и большим удельным сопротивлением перед сверхпроводящим переходом. Это позволяет значительно снизить расход дорогостоящей металлической проволоки из сверхпроводящего металла при изготовлении сверхпроводящего размыкателя, а также значительно упростить переход размыкателя из сверхпроводящего состояния в нормальное вследствие уменьшения размеров размыкателя. Сверхпроводящие свойства керметов на основе сверхпроводящего металла и высокоогнеупорного диэлектрика, например на основе Ю и АгОз приведены в таблице.454624...

Устройство для измерения концентрации носителей тока в полупроводниках

Загрузка...

Номер патента: 456203

Опубликовано: 05.01.1975

Авторы: Лауринавичюс, Пожела

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: концентрации, носителей, полупроводниках

...15 резонанса и помещенного между полюсами 14,15 электромагнита.При измерении концентрации носителей тока с помощью электромагнита в исследуемом образце 1 создают магнитное поле, а через су женный коленец прямоугольного волновода 5возбуждают геликонную волну в определенном месте образца 1. Изменяя напряженность магнитного поля, добиваются возникновения геликонного резонапса в образце 1, что прояв ляется в уменьшении сигнала, отраженного отобразца, до минимального значения. Отраженный сигнал через ответвитель 7 поступает к детектору 10, где детектируется и подается па вход усилителя 11. С выхода усилителя 30 сигнал поступает на У-вход двухкоординатно456203 го самописца 12, На Х-вход самописца пода- рядок геликонного резонанса; вт,...

Устройство для измерения кривой эффекта электромагнитного поля на поверхности полупроводников

Загрузка...

Номер патента: 457941

Опубликовано: 25.01.1975

Авторы: Левитас, Рагаускас

МПК: H01L 21/66

Метки: кривой, поверхности, полупроводников, поля, электромагнитного, эффекта

...последовательно с выходом генератора сигнала и полевым электродом.На чертеже изображена функциональнаясхема устройства.5 Предлагаемое устройство состоит из полевого электрода 1, расположенного вблизи поверхности полупроводникового образца 2, который подключен к источнику постоянного тока 3 и одному входу двухмерного выходного О прибора 4, и генератора сигнала 5, соединенного последовательно с отрицательной емкостью б и полевым электродом 1, а также со вторым входом выходного прибора 4.Предлагаемое устройство действует следу ющим образом.При подаче сигнала генератора 5 на полевой электрод 1 через поверхность образца 2 протекает ток сигнала, Падения напряжения на отрицательной емкости б и на емкости за зора между полевым...

Зонд для измерения емкостных характеристик диэлектрических и полупроводниковых структур

Загрузка...

Номер патента: 458062

Опубликовано: 25.01.1975

Авторы: Морозов, Петров

МПК: G01R 1/067, G01R 31/26, H01L 21/66 ...

Метки: диэлектрических, емкостных, зонд, полупроводниковых, структур, характеристик

...лемент 3, с 2. аботает сл я емкостных харак х и полупроводник полусферу 1, втулк оединяющий полусф м образом,Изобретение относится к электронике и может использоваться для исследования полупроводниковых и диэлектрических структур.В настоящее время С(Р) -характеристики снимаются при помощи контактных металлических пленок, напыленных или осажденных на поверхность структуры полупроводник-диэлектрик.Однако использование известных контактных пленок не обеспечивает контроля пара метров образца до напыления в процессе обработки и невозможность снятия С-характеристик в любой точке образца. Помимо этого, сам процесс напыления пленочного контакта может изменять свойства структуры, что 1 затрудняет процесс исследования.Целью...

Раствор для матирования поверхности кварца

Загрузка...

Номер патента: 458904

Опубликовано: 30.01.1975

Авторы: Васина, Колмакова, Раснецова

МПК: H01L 21/465

Метки: кварца, матирования, поверхности, раствор

...кварца с повышенным классом чистоты (10 - 12), увеличение выхода годных изделий по фотоэлектрическим т 1 араметрам, 30 Предлагаемыи раствор, не о я разрушительным действием на фоторе р, позволяет получить штрихи до 0,03 м беспечивает высокую однородность мат р иной поверхности.Раствор для матирования приготовляют дующим образом.Концентрированную (35 - 377 о-ную) соляную кислоту разбавляют водой в два раза и заливают в два сосуда (фторопластовые стаканы) по 100 - 120 мл. Небольшими порциями при помешивании в один сосуд добавляют 90 - 100 г фтористого калия и в другой 180 - 200 г фтористого аммония, далее содержимое обоих сосудов сливают, получая насыщенный раствор фторидов с большим количеством извести, равномерно распределенной по...

Способ разделения многослойных пластин

Загрузка...

Номер патента: 459817

Опубликовано: 05.02.1975

Авторы: Воинов, Иванов, Сухотерин

МПК: H01L 21/782

Метки: многослойных, пластин, разделения

...структур) защищают химически стойким по крытием 4 и подвергают травлению в травителе, содержащем плавиковую, азотную и уксусную кислоты, до появления на обратной стороне (на поверхности поликристаллического слоя) рисок 5,20 Установлено, что риски расположены строгопод дорожками на лицевой стороне, по которым проводят скрайбирование известным способом.Появление рисок в результате травления 25 можно предположительно объяснить различной плотностью поликристаллической подложки, Как известно, при изготовлении интегральных схем на поверхности исходной монокристаллической пластины изготавливают систему 30 разделительных каналов, а затем после окисления рельефа производят наращивание поликристаллического слоя. Поскольку осаждение происходит...

Способ определения величины объемного заряда перехода

Загрузка...

Номер патента: 465602

Опубликовано: 30.03.1975

Авторы: Евстропов, Именков, Попов, Царенков

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: величины, заряда, объемного, перехода

...изоб ения Способ определения велич 10 заряда р - п-перехода путем экспериментальной зависимос кающего в прямом направле переход, от времени в интер ном моментом включения ток 15 реход и моментом окончания ной емкости, о т л и ч а ю щ и " целью снижения трудоемкос тегрирования, регистрируют ния зарядки барьерной емко 20 во времени током по момент минесцентного излучения р -Изобретение относится к способам определения величины объемного заряда.Известен способ определения величины объемного заряда р - п-перехода путем интегрирования зависимости тока от времени при изменении напряжения на р - и-переходе.Недостатком известного способа является невозможность фиксации момента равенства нулю объемного заряда по моменту начала уменьшения...

Устройство для контроля неоднородности полупроводников

Загрузка...

Номер патента: 468198

Опубликовано: 25.04.1975

Авторы: Алиев, Амурбеков, Крылов, Митрофанов

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: неоднородности, полупроводников

...попадает на третью ПТК 12,При наложении на образец импульсного магнитного поля с частотой 50 гц в каждой точке исследуемого полупроводника происходит поворот плоскости поляризации 15 проходящего излучения. Угол поворота плоскости поляризации пропорционален локальным концентрациям свободных носителей в зондируемом объеме. В результате на третью ПТК 12 попадает излучение, моду- р) лированное в плоскости, перпендикулярной оптической оси, по интенсивности, несущее информацию о координатном распределении свободных носителей в образце. На первую ПТК 7 попадает излучение, несущее информацию об отражении, а на вторую ПТК 8- о поглощении в исследуемом образце.При включении трехконтактнцио включателя 18 сигналы с выходов ПТК подаются на...

Параметрический усилитель

Загрузка...

Номер патента: 468351

Опубликовано: 25.04.1975

Авторы: Бондаренко, Иванов, Плужников, Стецюк

МПК: H01L 41/047, H03F 7/00

Метки: параметрический, усилитель

...анизотропиу схожести, необходимаи дли точного ВиполнеФйи условкй синхронизма (1), моФет бить вжучена путем изменении поляризации звуйопровода в области взаимодей-Щ ствия. Коэффициент ускиении при етом мак ИМалеп. В предложенном усилителе изменение поыЛЩИЗании ДОСТИГ 86 тСИ ПРИ ПОМОЩИ ДВУХ Домеполнительных систем параллел.ьнйх короткоз а мину тьхж эл ектр О дОВу между котор ым и на"одитси Область взаимодействии ахустических поверхностных Волн сигнала и накачки.Постоанное напряжение, подаваемое на еле%трод, создает требуемую при заданном угле между акустической поверхностной Ва,ной накачки и сигнала анизотропию скорости, Если период системы электродов д удов;летвориет условию БратаЫ 609 АМгде 3 длина водны накачки,угол падении водны,6...

Устройство для подключения электронных приборов к измерителю параметров

Загрузка...

Номер патента: 473132

Опубликовано: 05.06.1975

Авторы: Касперович, Пыж

МПК: H01L 21/66

Метки: измерителю, параметров, подключения, приборов, электронных

...соединены с логическим устройством.Схема предложенного устройства пр а 5 на чертеже.Исследуемый прибор (ИП) устанавливается в узел подключения 1. 11 ри этом электроды 2 и 3 прибора замыкают рабочий контакт 4 с контрольным контактом 5, а рабочий кон такт б - с контрольным контактом 7. Логическое устройство 8 подает запускающий сигнал на вход первого усилителя-формирователя 9, С выхода усилителя-формирователя 9 сигнал через импульсный трансформатор 10, 15 разделительные диоды 11, 12, контакты 4, 5 иэлектрод 2 поступает на вход второго усилителя-формирователя 13. Прохождение этого сигнала возможно только при наличии электрического контакта между электродом при бора и рабочим контактом. Так же осуществляется связь между вторым 13 и третьим...

Пьезокерамический материал

Загрузка...

Номер патента: 474519

Опубликовано: 25.06.1975

Авторы: Алешин, Гавриляченко, Данцигер, Девликанова, Дудкина, Клевцов, Лаврикова, Панич, Разумовская, Рогач, Фесенко, Чепцов

МПК: C04B 35/491, C04B 35/499, H01L 41/187 ...

Метки: материал, пьезокерамический

...пъезоэлектри)ескиЙ матсриал на основе твердык растворов, содержащих РЬТ)Оз, РЬУгО, и РЬЮ), В)гО-.де В - или Мд, или %, цли Хп.Однако известный материал характеризуется 1)едостаточцо зысокими пьезоэлектрическими параметрами.Целью изобретения является позы пение коэффициента электромеханической связи и пьезомодуля материала.Для этого в материал дополнительно вводят РЬЯЬ)ЮЬ), О, прц следугющем соотно 15 ц)енин компонентов, мол. Оо. РЬТ) О. 40,0 - 50,0 РЬХгОз 38,32 - 48,13РЬЖ) Х)1),0., 4,56 - 1",71 РЬЯ) );.ХЬ), О, 158 - 421 а также в следующем составе:РЬТ 1 О, 37,О - 50,0 РЬХгО. 37,33 - 47.09 РЬ)Хп) О, 5,55 - 15.54РЬ 5 Ь ХЬ,:.(1, 1.57 - 4,13Синтез составов прозодптся )то обычной керамической технологии в защитной атмосфере РЬО....

Патрон для туннельного диода

Загрузка...

Номер патента: 475691

Опубликовано: 30.06.1975

Автор: Коротков

МПК: H01B 5/14, H01L 23/02

Метки: диода, патрон, туннельного

...генерации достигается выполнением контактных элементов в виде колпачков с винтовой нарезкой, установленных ца металлических вкладышах, между которыми размещена токопроводящая шайба, отделенная от одного из вкладышей диэлектрической прокладкой.На чертеже изображен описываемый патдиода в схему, вып3 с винтовой нарезкталлических вкладыудерживаются в обоконтакт между вклада обеспечивается вшами размещена швкладыша 4 диэлекОбкладками кондедиод, служат шайбаАналогично можедля диода, которыйной генерации шунтсопротивлением. тзоб ет Предметр енияПатрон для туннельного диода, выполненный в виде цилиндрической обоймы, с противоположных сторон которого размещены коц- О тактные элементы, служащие для включениядиода, о т л и ч а ю щ и й с я...

Пьезоэлектрический преобразователь

Загрузка...

Номер патента: 476713

Опубликовано: 05.07.1975

Авторы: Ильин, Куров, Салохин, Цветаев

МПК: H01L 41/047, H04R 17/00

Метки: пьезоэлектрический

...полупроводник, изолятор и палевой электрод, подвержены электрическим наводкам и имеют недостаточную чувствительность.Цель изобретения -величение стабиль О ности и чувствительности преобразователя. Это достигается тем, что преобразователь содер;кит металлический экраннр) ОнИЙ электрод, нанесенный на пьезодиэлектрический слой,Г11 я чертеже изобрд)кен цреаарязовя Гель.Г 1 реабразаватель содержит диэлектр 1 иеск 1 О над.10)кк 1, элесктрад затвора 2, слой нзо,151- тора 3, электрод истока 4, электрод стока 5, слой полупроводника 6, диэлектрический слой )О 7, экрянирующий электрод 8, источник управляющего потенциала 9, источник напряжения 10 и нагрузачное сопротивление 11,Преобразователь работает следующим ооразом. Когда между затвором 2...

Способ определения концентрации примесей в полупроводниковой пластине

Загрузка...

Номер патента: 480029

Опубликовано: 05.08.1975

Авторы: Иванов, Манаенков, Седов, Урывский

МПК: H01L 21/66

Метки: концентрации, пластине, полупроводниковой, примесей

...фаз поперечной компоненты отраженной и падающей волны;6- разность фаз параллельной компонентыРаспределение концентрации примеси по толщине полупроводниковой пластины определяют следующим ооразом. Образец с неизвестным распределением примеси помещаюв приставку НПВО и, посылая на образец излучение меняющейся длины волны от мо. нохроматора, регистрируют изменение относительной разности фаз отраженной и падающей волн. Изменение фаз компонент отраженной и падающей волн определяют по форму- лам 25)з 1 п" О, - ии-созе - (2)2 я и 30 б созОпзд 1 яп 6 пд и2 зг иГлубину проникновения излучения можно определить как расстояние от границы раздела двух сред до того уровня, на котором амплитуда электрического поля уменьшается в 1 раз Лггр - (4)2...

Устройство для измерения электрических параметров полупроводниковых приборов на лентоносителе

Загрузка...

Номер патента: 480144

Опубликовано: 05.08.1975

Авторы: Орлов, Пергунов, Симакин, Ушаков

МПК: H01L 21/66

Метки: лентоносителе, параметров, полупроводниковых, приборов, электрических

...головки неподвижно установлен профильный кулачок 6. Предметный столик 7 выполнен с вырубным штампом 8. В столике 7 имеется паз 9 для прохода контролируемого прибора, а перпендикулярно ему в п 10, в котором по шаровым опорам 11 перемещается П-образный упор 12 (фиг. 2), соединенный с рычагом 13 через толкатель 14, взаимодействующий с профильным кулачком 6. Рычаг 13 подпружинен к корпусу посредством пружины 15 (фиг, 3).Для зажима и фиксации лентоносителя в определенном положении на позиции измерения полупроводникового прибора в устройстве используются два механизма зажима.Устройство работает следующим образом.При включении привода перемещения лентоносителя - шагового механизма (на чертежах не показан) полупроводниковый прибор с...

Эталон для проверки измерителя постоянной времени транзисторов

Загрузка...

Номер патента: 481863

Опубликовано: 25.08.1975

Автор: Каплан

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: времени, измерителя, постоянной, проверки, транзисторов, эталон

...Однако ему свойственна низкая точость измерений после проверки из-за еэквивалентности К и С параметрамэт эт ния - повышение точноодиапазона измерений. то тем, что конденсатор1 клеммами коллектора и между клеммами эмиттетного устройства.едена схема эталона, а подключения его к изр ЯЭталон содержтт конденсатор 1, резисто ,2 и контактное устройство 3 (ЕСВ).Контактное устройство 4 измерителя содержит паразитную индуктивность 5,паразитную емкость 6, разъем 7 дляподключения высокочастотного генератора,разъем 8 для подключения вольтметра,контактные гнезда 9 для подключения эталона,Для проверки измерителя эталон подключается к контактному устройству 4.На разъем 7 подается сигнал от генератора. Вольтметром через разъем 8 измеряютсигнал помехи....

Пьезокерамический материал

Загрузка...

Номер патента: 482423

Опубликовано: 30.08.1975

Авторы: Дидковская, Климов, Савенкова

МПК: C04B 35/01, C04B 35/499, H01L 41/18 ...

Метки: материал, пьезокерамический

...имеет сравнительно низкую температуру Кюри (98 - 135 С), что ограничивает область рабочих температур.Целью изобретения является, повышение температуры Кюри, увеличение пьезомодуля А 1 и коэффициента электромеханической связи.Для этого дополнительно вводят ХгОг и, по крайней мере, один окисел трехвалентного эле мента из группы В, А 1, Ста, ЬЬ, В 1, 1.а, Мп, Сг, Со, % при следующем соотношении указанных компонентов, мол, %:РЬО П р и м е р. Для получения 100 г пьезокера ического материала состава РЬО 55,25; ГегО ЬгО, 6,63; Т 10 г 13,81; ХгОг1.40 2,76 готовят шихту сосщих компонентов, г; РЬСОз 82,1 ГегОз 4, МгОв 9, Т 10 г 6,1482423 Предмет изобретения Составитель А. Букуемский Редактор Т, Пилипенко Техред Т. Курилко Корректор Н....

Тиристор

Загрузка...

Номер патента: 482837

Опубликовано: 30.08.1975

Авторы: Думаневич, Челноков

МПК: H01L 21/761

Метки: тиристор

...тем, что структура тиристора изготовлена па кремнии с почти собственной проводимостью. Прилегаюгцпе к широкой базовой области р - и-переходы обладают повышенной скоростью рекомбинации, а следовательно, коэффициенты передачи тока у соответствующих триодов малы. При примыкании области объемного заряда к р - тг-переходу увеличение тока через структуру не происходит, так как имеет место большой ток утечки в р - и-переходе ПзРаспределение напряженности электрического поля в области р - 1 т-перехода, изготовл=нного,на кремнии с собственной проводимостью, почти линейно без четко выраженного максимума (у существующих тиристоров максимум обязательно имеется) .Критическое значение напряженности электрического поля Е,р, при котором наступает...

Способ защиты поверхности карбида кремния при высокотемпературном травлении

Загрузка...

Номер патента: 270080

Опубликовано: 15.10.1975

Автор: Водаков

МПК: H01L 21/306

Метки: высокотемпературном, защиты, карбида, кремния, поверхности, травлении

...Метод вакуумного напыления позволяет получать слои любой толщи 15 ны и на большом числе монокристаллов заодин технологический цикл. Кроме того, используя маски, можно непосредственно принапылении получать слои нужной конфигурации.20 Если необходимо получить очень точный рисунок с резкоочерченными краями (с микронной точностью), его вытравляют фотолитографическим способом. Наиболее прочно скрепленные с поверхностью и плотные слои алю 25 миния (толщиной 1 р и выше) получают привакууме не уже 10 - 4 тор и температуре кристаллов карбида кремния 5700 - 6100 С, причем алюминий в виде гусариков подвешиваютна вольфрамовой спирали, нагреваемой при270080 Предмет изобретения 15 Составитель М, Сорокина текоед Т. Мп;:онова Редактор Б, федотов...

Способ измерения скорости поверхностной рекомбинации носителей тока полупроводников

Загрузка...

Номер патента: 489049

Опубликовано: 25.10.1975

Авторы: Жебрюнайте, Левитас, Пожела, Сталерайтис

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: носителей, поверхностной, полупроводников, рекомбинации, скорости

...поле; .ае 4 гостоянные,Способ измерения скорости поверхности й рекомбинации заключается в следуюшем,Под воздействием силы Лоренц, процор 25 циональной величине силы ток е 7 и и,., ТИ МВГНИ ТНОГО ПОЛЯ .Г И НВПРВВ,.);1 ендйкул)ярно К ГраНЯМ 1 скороСТЬ-"ной рекомбинации на ОднОЙ из ,;ется) а на противополоиной соз);)Вст с болу цюй с: о о)т ю реком ) 5у этих граней происходит о кло:- . ;Ины кс пснтрации носи. елей отНОЙ. 1.".) Е;ПГ 1 ИЕ В ОТК ЛОНЕ Ь.5 и, М 8%С КРатг)Д ЭКСПОЕЬЦИЬНО ): МЕНбидот, апой диффузии,,.и О)В).с;с.Г)рот;:ь),поло;кн)ыми Гэ)ая:;м)р н;" ,.ревышаюшем длину биполярной диф:, ."рость пдве)эхностнОЙ рекскоинВцииГРВН-.Й, ОПРЕДЕЛЯЮИ в ;и ВМЕСТЕ:,)и гарамеграми полупроводника "ной силы Лоренца величину от".онцентрации от...

Устройство для измерения времени рассасывания транзисторов

Загрузка...

Номер патента: 489050

Опубликовано: 25.10.1975

Авторы: Кириллов, Шатило

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: времени, рассасывания, транзисторов

...лабоио.раториях при разработке импульсных схемна транзисторах.1 В известном устройств. при иэм времени рассасывания транзисторов мер, поря;,ка 10 нсек и меньше,фо Р ние подаваемого в базу транзистор да тока с очень малой длительност него фронта сложно. Например, для ния 1 с погрешностью не рвс, напри рмн рова пегепвю передиэмере 10% хуже диего фронта пере нсек. Однако о репвдов базового то ими параметраминьц кв иевозм Цель изобретения - упростить устройст-во для измерения времени рассасываниятрвнзис горов, повысить точность измеренийи уменьшить его габариты и стоимость,Это достигается тем, что б."ок формирования испытательного сигнала выполнен в рЕ виде кольпевого генератора, состоящего изоднотипных логических схем, И-ИЛИ-НЕ,...

Способ определения потенциально-нестабильных полупроводниковых приборов

Загрузка...

Номер патента: 490047

Опубликовано: 30.10.1975

Авторы: Денисюк, Копыл

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: полупроводниковых, потенциально-нестабильных, приборов

...полупроводниковых диодов и транзисторов путем измерения интенсивности шумов. В известном способе измеряется интенсивность шумов в эксплуатационном режиме и при приложении к прибору обратного напряжения, По отношению результатов измерения судят о потенциальной стабильности приборов.Недостатком известного способа является невозможность обнаружения объемных дефектов, например микротрещин, неоднородностей материала и ограниченность применения только для испытаний транзисторов и диодов.Целью изобретения является повышение достоверности и расширение функциональных возможностей измерений.Цель изобретения достигается тем, что после измерения интенсивности шумов в эксплуатационном режиме пропускают через испытуемый прибор импульс тока, в 1,5 - 5...

Автомат подбора варикапов в комплекты

Загрузка...

Номер патента: 494708

Опубликовано: 05.12.1975

Авторы: Лебеденко, Лубяный

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: автомат, варикапов, комплекты, подбора

...устойчивое 5состояние, Если емкость контролируемого варикапа превышает емкость эталонного, в первьш полупериод контроля срабатывает первый триггер 9, во второй полупериод - второй триггер 9; если же емкость эталонного варикапа превышает емкость контролируемого,в первый полупериод контроля срабатываеттретий триггер 9, во второй полупернод -четвертый триггер 9.К прямым и инверсным выходам триггеров 159 подключена группа логических схем И 10и ИЛИ 11 так, что в случае более гысокойемкости контролируемого варикапа сравнительно с емкостью эталонного в первый полупериод или в первьш и второй полупериоды 20возникает сигнал на одном из выходов, к которому подключено одно из исполнительныхустройств 12. Исполнительное устройство направляет этот...

Устройство для измерения удельного сопротивления высокоомных полупроводниковых материалов и времени жизни свободных носителей тока

Загрузка...

Номер патента: 496515

Опубликовано: 25.12.1975

Автор: Наливайко

МПК: H01L 21/66

Метки: времени, высокоомных, жизни, носителей, полупроводниковых, свободных, сопротивления, удельного

...резонансная частота резонатораО(рабочая частота при проведении измерений).В известном устройстве точность измерения снижаетея из за наличия неконтролируемых зазоров между штырем резонатора и исследуемым образцом, которые уменьшают коэффициент включения образца в резонатор.Целью изобретения является повышение точности измерений, Она дос 1 игается тел 1, что торец емкостного штыря в измерительном резонаторе выполнен сферическим,На чертеже изображен измерительный резонатор описываемого устройства с номешенным в него исследуемым образцом,Резонатор образован отрезком волновода 1, емкостным штырем 2, введенным в волновод 1 через его широкую стенку, и снабжен элементами 3 и 4 связи, служашило 1 для ввода и вывода энергии СВЧ колебаний. Торец 5...

Керамический материал

Загрузка...

Номер патента: 497267

Опубликовано: 30.12.1975

Авторы: Вусевкер, Гурвич, Епремян, Крамаров, Морданов, Файнридер

МПК: C04B 35/462, H01L 41/187

Метки: керамический, материал

...и пьезоэлектрических характеристик. Обратимые и необратимые изменения пьезочувствительности при воздействии одноосного механического сжатия, приложенного вдоль оси поляризапии, становятся очень большими и материал полностью теряет пьезоактивность.Цель изобретения - повышение стабильности значений пьезоэлектрического коэффициента Й, при повышенных температурах и механических нагрузках,(53) УДК 666,655(088,8)100 11 11 0,029 0,022 0,025 0,250,450,7 20 Предмет изобретения Составитель Н. Соболева Техред 3. ТараненкоРедактор А. Купрвкова Корректор М. Лейзерман Заказ 62 1, 8 Изд.1077 Тираж 648 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д,...

Электропривод

Загрузка...

Номер патента: 497633

Опубликовано: 30.12.1975

Авторы: Аугустинайтис, Рагульскис, Славенас, Улозас

МПК: H01L 41/09, H02N 2/12

Метки: электропривод

...и соприкасаются с валом 1.Электропривод работает следующим образом,5 Разомкнутые пьезокерамические кольца 2,3 и 4 питаются переменным напряжением,Благодаря обратному пьезоэлектрическомуэффекту свободные концы разомкнутых пьезокерамических колец 2, 3 н 4 колеблются и10 вместе с подвижным узлом в виде вала 1 совершают движения, направленные к касательной окружности подвижного узла в видевала 1 (показать стрелками а, в и с). Во время одного полупериода напряжения получает 15 ся одновременное движение точек, касания А,В и С по направлению, указанному стрелкамиа, в и с, вследствие чего разомкнутые пьезокерамические кольца 2, 3 и 4 свободнымиконцами прижимаются к подвижному узлу20 в виде вала 1 и поворачивают его по направлению,...

Способ микроволнового измерения эффективной массы носителей тока в легированном полупроводнике

Загрузка...

Номер патента: 498576

Опубликовано: 05.01.1976

Автор: Браташевский

МПК: G01R 31/26, H01L 21/66

Метки: легированном, массы, микроволнового, носителей, полупроводнике, эффективной

...- упрощение и повышение точности измерения.Цель изобретения достигается благодаря тому, что исследуемый полупроводник помещают в электрическое циркулярно поляризованное микроволновое поле и направленное перпендикулярно плоскости поляризации постоянное магнитное поле, изменяют напряженцость постоянного магнитного поля до тех пор, пока включение и выключецце модуляции концентрации носителей тока не будет вызывать изменения действительной части диэлектрической постоянной полупроводника, и прц данной величине напряженности определяют эффективную массу.Заказ 229/698 Изд.201 Тираж 1029 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытийТип. Харьк. фпл. пред. сПатент После подстановки выражения...