C23C — Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще

Номер патента: 2005096

Опубликовано: 30.12.1993

Авторы: Алексеев, Быковский, Голота, Кривошеев

МПК: C01G 23/02, C23C 14/24

Метки: вакуумного, испарения, оксида, основе, титана

...истационарного плавления с постепеннымвыводом расплава иэ эоны индукционногонагрева.По отношению к прототипу у заявляемо 20 го изобретения имеются следующие отличительные признаки,Использование монооксида или металлического титана в смеси исходных материалов в качестве стартового материала,25 обеспечивающего возможность получениярасплава при прямом высокочастотном нагреве.Плавление смеси исходных материаловпрямым высокочастотным нагревом в холодном контейнере в режимах стартового истационарного плавления и с постепеннымвыводом расплава из зоны индукционногонагрева, обеспечивающее снятие внутренних.напряжений в плаве материала и пол 35 учение гранул заданного размера,благодаря чему стабилизируется процессиспарения, материал не...

Номер патента: 1401918

Опубликовано: 28.02.1994

Авторы: Лантратова, Любин

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, мишени, распыления, стеклообразных, халькогенидных

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИШЕНИ ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ ХАЛЬКОГЕНИДНЫХ СТЕКЛООБРАЗНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, включающий нанесение на электропроводное основание суспензии порошка халькогенидного материала, сушку, оплавление порошка, отжиг полученной заготовки с последующим ее охлаждением, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей процесса, перед нанесением суспензии порошка халькогенидного материала на часть поверхности основания наносят суспензию порошка оксидного стеклообразного материала с дисперсностью частиц 150 - 200 мкм с последующей сушкой и оплавлением порошка при температуре на 80 - 100oС выше температуры размягчения порошка в течение 30 - 40 мин и охлаждением, нанесение суспензии порошка халькогенидного...

Номер патента: 1492759

Опубликовано: 15.03.1994

Авторы: Бахур, Биргер, Комаров, Поярков, Сипин, Стрекалов, Тычинин, Тюрин

МПК: C23C 2/36

Метки: горячей, длинномерных, металлизации

1. УСТАНОВКА ДЛЯ ГОРЯЧЕЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ДЛИННОМЕРНЫХ ИЗДЕЛИЙ, преимущественно листового материала, содержащая ванну с нагревательными элементами и с проходным отверстием, расположенным в дне ванны, МГД-затвор, расположенный под проходным отверстием, с патрубком, частично введенным внутрь ванны через проходное отверстие, отличающаяся тем, что, с целью повышения надежности в работе установки путем исключения вытекания расплава материала покрытия из ванны, МГД-затвор выполнен в виде двух L-образных магнитопроводов с обмоткой однофазного тока в виде плоских катушек, расположенных на вертикальных стержнях магнитопровода.2. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что патрубок размещен в ванне на глубине 20 - 40 мм от верхнего торца патрубка до...

Номер патента: 1494554

Опубликовано: 15.03.1994

Авторы: Дмитриев, Колпаков, Маслов, Новиков

МПК: C23C 14/00

Метки: абразивный, инструмент

АБРАЗИВНЫЙ ИНСТРУМЕНТ, содержащий металлическую основу и покрытие из алмазоподобного углерода, отличающийся тем, что, с целью повышения качества инструмента за счет увеличения твердости поверхностного слоя покрытия толщиной более 50 мкм, толщина наружного слоя алмазоподобного покрытия составляет 5 - 10 мкм, а между покрытием основы и наружным слоем размещен промежуточный слой из тугоплавкого металла толщиной 0,05 - 0,2 мкм.

Номер патента: 1448750

Опубликовано: 15.03.1994

Авторы: Богомолов, Васильев, Карасов, Кошенков, Поспелов

МПК: C23C 8/56

Метки: жидкостной, нитроцементации, состав, стальных

СОСТАВ ДЛЯ ЖИДКОСТНОЙ НИТРОЦЕМЕНТАЦИИ СТАЛЬНЫХ ИЗДЕЛИЙ, включающий циановокислый калий и углекислый калий, отличающийся тем, что, с целью увеличения срока службы расплава, он дополнительно содержит углекислый литий при следующем соотношении компонентов, мас. % :Циановокислый калий 5 - 95Углекислый литий 3 - 94,5Углекислый калий 0,1 - 90

Номер патента: 1476955

Опубликовано: 15.03.1994

Авторы: Апарин, Грачев, Лубенский, Писаревский, Семиколенова

МПК: C23C 8/08

Метки: высокопрочной, проволоки, стальной

СПОСОБ ОБРАБОТКИ ВЫСОКОПРОЧНОЙ СТАЛЬНОЙ ПРОВОЛОКИ, включающий термообработку, отличающийся тем, что, с целью повышения пластичности проволоки при сохранении на высоком уровне прочностных характеристик, после отпуска дополнительно проводят обработку в водном растворе сероводорода при температуре 80 - 150oС и давлении сероводорода 1,0 - 2,0 МПа или при pH 2,0 - 3,8.

Номер патента: 1737924

Опубликовано: 30.03.1994

Авторы: Власов, Морозов, Толшмяков, Холкин, Щедрин

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, градиентом, плотности, покрытия

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЯ С ГРАДИЕНТОМ ПЛОТНОСТИ В ВАКУУМЕ , включающий последовательный нагpев одним электpонным лучом электpонно-лучевого испаpителя с отклоняющей магнитной системой двух pазноpодных матеpиалов, испаpение этих матеpиалов и конденсацию паpовых потоков на подложке, отличающийся тем, что, с целью pасшиpения технологических возможностей за счет обеспечения возможности плавно изменять плотность наносимого покpытия по ноpмали к повеpхности подложки, испаpение каждого матеpиала ведут с пеpеменной интенсивностью путем изменения вpемени воздействия электpонного луча на каждый матеpиал, пpи этом вpемя воздействия на матеpиал опpеделяют из выpаженияt < ...

Номер патента: 1589672

Опубликовано: 30.03.1994

Авторы: Карпов, Крючков, Малютин, Махмудов, Плотников, Погребняк, Русин, Яновский

МПК: C23C 14/48

Метки: железа, нанесения, образцы, покрытия

СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА ОБРАЗЦЫ ИЗ ЖЕЛЕЗА , включающий очистку повеpхности, нанесение слоя металла и последующее облучение его ионным пучком наносекундной длительности, отличающийся тем, что, с целью уменьшения коэффициента тpения, в качестве слоя металла используют свинец толщиной 1000 - 1500 o А, а облучение пpоводят ионным пучком плотностью потока мощности W = (0,2 - 0,5) 106 Bт/cм2.

Номер патента: 923232

Опубликовано: 15.04.1994

Авторы: Дробышевская, Кастомаров, Кокорин, Мятиев, Нардова, Папков, Пензин, Филиппов, Хохунов

МПК: C23C 18/02

Метки: окисных, покрытий

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОКИСНЫХ ПОКРЫТИЙ, включающий нанесение на поверхность изделия раствора солей карбоновых кислот трех- или четырехвалентных металлов и последующее их разложение за счет нагрева изделия, отличающийся тем, что, с целью повышения равномерности покрытий, на поверхность изделия наносят раствор солей трех- или четырехвалентных металлов смеси -карбоновых кислот типа ВИК-1 с содержанием металла 40 - 60 г/л и нагрев осуществляют в инертной среде в интервале 500 - 600oС в течение 20 - 30 с.

Номер патента: 1809989

Опубликовано: 30.04.1994

Авторы: Олейник, Толочек

МПК: C23C 2/00

Метки: ваннах

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ В ВАННАХ, содержащее колонну, ванны, установленные вокруг колонны консоль, закрепленную на колонне с возможностью поворота и вертикального перемещения, вертикальный вал, закрепленный верхним концом на консоли с возможностью соосного совмещения с геометрическим центром ванн и вращения от привода, контейнер, закрепленный на нижнем конце вертикального вала и крышку из термостойкого материала, закрепленную на приводном валу над контейнером, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности, эксплуатационной надежности и снижения габаритов, оно снабжено элементами фиксации и обечайкой с фланцем, выполненной выше высоты контейнера и установленной в ванне с возможностью вертикального перемещения, при...

Номер патента: 1750270

Опубликовано: 15.05.1994

Авторы: Коржавый, Кучеренко, Цымбаревич

МПК: C23C 14/32

Метки: пленок

1. Способ получения пленок, включающий формирование электронного пучка в вакууме, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком, частичную ионизацию испаряемого материала и его осаждение на подложку, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа и его упрощения, ускоряющее напряжение выбирают большим величины второго критического потенциала.2. Устройство для получения пленок, содержащее кольцевой накаливаемый катод с металлическим экраном, тигель с мишенью из испаряемого материала и кольцевой электрод с источником питания, расположенный между тиглем и катодом соосно с последним и соединенный с положительной клеммой источника питания, отличающееся тем, что...

Номер патента: 1809637

Опубликовано: 30.05.1994

Автор: Руднев

МПК: C23C 14/56

Метки: вакууме

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ В ВАКУУМЕ, включающее вакуумный шлюз-накопитель, содержащий разъемный автономно откачиваемый корпус, снабженный средством герметизации, фланцем для присоединения шлюза к рабочему технологическому объему и размещенными внутри корпуса узлом сборки изделий и механизмом их группового перемещения к фланцу на разгрузочно-нагрузочную позицию, а также включающее привод механизма перемещения изделий и размещенные в рабочем технологическом объеме разгрузочно-загрузочные манипуляторы, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности и качества изделий, узел сборки размещен относительно механизма подачи по разные стороны от разъема корпуса, привод механизма подачи расположен с внешней поверхности корпуса...

Номер патента: 1809988

Опубликовано: 30.05.1994

Авторы: Олейник, Толочек

МПК: C23C 2/00

Метки: ваннах

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ В ВАННАХ, содержащее колонну, ванны, установленные вокруг колонны, консоль, закрепленную на колонне с возможностью поворота и вертикального перемещения, вертикальный вал, закрепленный верхним концом на консоли с возможностью соосного совмещения с геометрическим центром ванн и вращения от привода, контейнер, закрепленный на нижнем конце вертикального вала, и крышку из термостойкого материала, закрепленную на вертикальном валу над контейнером, отличающееся тем, что, с целью повышения эксплуатационной надежности и производительности, оно снабжено крестовиной с втулкой и элементами фиксации положения втулки, втулка расположена соосно геометрическому центру ванны и смонтирована на крестовине, установленной с...

Номер патента: 1723827

Опубликовано: 15.06.1994

Авторы: Горбунов, Кононов, Коськина, Новиков, Шайн

МПК: C23C 14/00

Метки: нанесения, покрытий

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, содержащее корпус и размещенные в нем нагреватель, тигель с исходным материалом наносимого покрытия и выходное сопло, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет уменьшения размеров наносимых частиц, разброса фракционного состава и повышения однородности свойств покрытия, нагреватель выполнен в виде автономного источника высокоэнтальпийного газа или плазмы, а сопло установлено в корпусе с возможностью перемещения относительно источника газа или плазмы.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оно снабжено дополнительным автономным подвижным источником высокоэнтальпийного газа или плазмы, размещенным в корпусе соосно с соплом.

Номер патента: 1658656

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Рубан, Свиридович, Точицкий

МПК: C23C 14/28

Метки: высокотемпературных, металлооксидных, пленок, сверхпроводников

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТАЛЛООКСИДНЫХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ СВЕРХПРОВОДНИКОВ, включающий испарение мишени из наносимого материала в атмосфере кислорода импульсным лазерным излучением, осаждение его на нагретую подложку и охлаждение подложки в два этапа в атмосфере кислорода, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества пленок и повышения технологичности процесса, испарение материала осуществляют при плотности мощности лазерного излучения 107 - 108 Вт/см2, частоте следования импульсов не более 15 Гц и давлении кислорода (0,13-13)Па, температуру подложки в процессе осаждения поддерживают в диапазоне (853-1023)К, охлаждение подложки на первом этапе проводят со скоростью не более 35 К/мин до температуры...

Номер патента: 1552676

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Капустин, Станишевский, Точицкий

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, металлизации, поверхности, полимерных

СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛИМЕРНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, включающий предварительную очистку поверхности, нанесение промежуточного слоя и покрытия, отличающийся тем, что, с целью повышения адгезии покрытия, в качестве промежуточного слоя наносят пленку углерода толщиной 5 - 250 нм со скоростью осаждения 2 - 20 нм/мин.

Номер патента: 1268082

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Зеленковский, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 4/00, H05H 1/24

Метки: возбуждения, генераторе, импульсном, плазмы, разряда, электроэрозионной

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ по авт. св. N N 1168070, отличающееся тем, что, с целью увеличения ресурса путем увеличения срока службы тонкопленочного токопровода, оно содержит дополнительно защитный экран, размещенный на торце цилиндрической втулки с зазором относительно катода, выполненный в виде плоского кольца с каналом для выхода инициирующей плазмы, при этом канал расположен против зоны контакта тонкопленочного токопровода с катодом, а ось катода совпадает с осью экрана.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что внутренний диаметр экрана превышает диаметр катода, но меньше диаметра отверстия поджигающего электрода.3. Устройство по пп.1 и 2, отличающееся тем, что...

Номер патента: 1566777

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Гул, Ряхин

МПК: C23C 14/06

Метки: поверхности, подложки, резисторов, тонкопленочных, чистоты

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ЧИСТОТЫ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ по авт. св. N 1101475, отличающийся тем, что, с целью повышения воспроизводимости способа в материале, выявляющем места загрязнения, компоненты взяты в следующем соотношении, мас.%:Окись кадмия 7,5 - 12,5Алюминий 7,5 - 12,5Окись алюминия 75 - 85причем соотношение окиси кадмия и алюминия в материале составляет 1 : 1, а испарение проводят при температуре испарителя 1080 - 1210oС.

Номер патента: 1453950

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Костылев, Михайлов, Покровский, Шумков

МПК: C23C 16/18

Метки: защитных, нанесения, основе, парогазовая, пиролитического, покрытий, смесь, хрома

ПАРОГАЗОВАЯ СМЕСЬ ДЛЯ ПИРОЛИТИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ ХРОМА, содержащая бис-ареновое соединение хрома, отличающаяся тем, что, с целью повышения коррозионной стойкости и механической прочности покрытий, она дополнительно содержит соединение общей формулы R4M, где R - метил, этил, пропил и бутил, а M - олово, свинец и германий, при мольном соотношении компонентов 1:(0,01-0,15).

Номер патента: 1577675

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Акулич, Зеленковский, Кунавин, Самаль, Селифанов, Хворостина

МПК: C23C 14/34, H05H 1/24

Метки: генератор, импульсный, плазмы, электроэрозионной

1. ИМПУЛЬСНЫЙ ГЕНЕРАТОР ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ, содержащий кольцевой нерасходуемый анод, цилиндрический расходуемый катод с торцевой рабочей поверхностью, кольцевой экран с выступом, расположенный между катодом и изолятором, и систему поджига, включающую эксцентрично расположенный по отношению к оси генератора кольцевой изолятор, на поверхности которого выполнен пленочный токопровод, и кольцевой нерасходуемый электрод поджига, при этом кольцевой изолятор снабжен механизмом перемещения вокруг собственной оси и оси генератора и вдоль оси генератора, причем диаметр отверстия кольцевого изолятора превышает диаметр катода, отличающийся тем, что, с целью увеличения срока службы путем повышения равномерности выработки рабочей поверхности...

Номер патента: 826761

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Дударчик, Кривонощенко, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 14/44

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее осесимметричную формирующую систему, состоящую из полого электрода и средства для возбуждения магнитного поля, встречно расположенные плазменные ускорители, систему питания и подложкодержатель, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий, плазменные ускорители смещены относительно оси формирующей системы и установлены под углом к ней.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что величина угла составляет 30-150o.

Номер патента: 1584433

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Грицкевич, Зыль, Точицкий

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, осаждения, пленок

СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ, включающий испарение осаждаемого материала в тигле, инжекцию пара в вакуум с образованием кластеров, их ионизацию, ускорение и конденсацию на подложке, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей, перед инжекцией пара в вакуум внутреннюю полость тигля герметично соединяют с внутренней полостью замкнутой инжекционной камеры, затем внутреннюю полость тигля отсекают от инжекционной камеры и осуществляют сжатие пара.

Номер патента: 1291009

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Зеленковский, Перекатов, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 14/00, H05H 1/34

Метки: возбуждения, генераторе, импульсном, плазмы, разряда, электроэрозионной

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ по авт. св. N N 1168070, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности устройства и увеличения срока службы, оно дополнительно снабжено сферическим или шарнирным подшипником, одно из колец которого установлено соосно с катодом и закреплено, а держатель изолятора смонтирован на подвижном кольце подшипника соосно с ним и соединен с поджигающим электродом.

Номер патента: 1354761

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Буравцев, Грицкевич, Обухов, Точицкий

МПК: C23C 14/26

Метки: испаритель

ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий тигель для испаряемого материала, нагреватель, паропровод, испарительный элемент, расположенный между тиглем и паропроводом, и поршень для подачи материала из тигля к испарительному элементу, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий и снижения непроизводительных потерь испаряемого материала, испарительный элемент выполнен в виде решетки со стенками ножевидной формы, причем острые концы стенок обращены в сторону тигля.

Номер патента: 1069451

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Селифанов, Станкевич, Точицкий

МПК: C23C 14/46

Метки: вакууме, нанесения, плазменного, покрытий

СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, включающий генерирование встречных потоков плазм исходных материалов, смешивание их в зоне взаимодействия потоков, направление электрическим полем в сторону подложки и их осаждение, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности путем увеличения коэффициента использования массы исходных материалов, при смешивании потоки плазм исходных материалов тормозят в зоне взаимодействия температурным полем на время 101 - 104 мкс.

Номер патента: 1478660

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Буравцев, Обухов, Рубан, Точицкий

МПК: C23C 14/26

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее подложкодержатель, испаритель, установленный напротив подложкодержателя, формирователь потока пара, расположенный на испарителе и выполненный в виде коаксиально расположенных усеченных конусов, стенки которых образуют каналы для выхода пара, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества покрытий и увеличения коэффициента использования материала покрытия, формирователь потока пара размещен так, что его ось совпадает с центром подложкодержателя, а каналы для выхода пара выполнены так, что оси пересекают подложкодержатель в кольцевой зоне с радиусом R, выбираемом из выражения R=(0,6-0,9)R, где R - радиус подложкодержателя, мм, при этом расстояние L от подложкодержателя до...

Номер патента: 1757249

Опубликовано: 15.07.1994

Авторы: Береснев, Гриценко, Кривонос, Лымарь, Толок, Швец

МПК: C23C 14/40

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее рабочую камеру с размещенными в ней электродуговым испарителем и подложкодержателем, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий, в него введен ВЧ-генератор с согласующей системой, состоящей из конденсатора переменной емкости, соединенного с коаксиальным кабелем изменяемой длины, центральная жила которого соединена с подложкодержателем, а экран - с рабочей камерой.

Номер патента: 1163656

Опубликовано: 15.07.1994

Авторы: Колесов, Сейдман

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, плазменного, пленок, реактивного

СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО РЕАКТИВНОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ, включающий напуск потоков инертного и реактивного газов при содержании реактивного газа более 10%, регулирование тока разряда путем изменения напряжения разряда и потоков газов, распыление мишени ионами из плазмы разряда с наложением магнитного поля и осаждение материала на подложку, отличающийся тем, что, с целью повышения воспроизводимости свойств пленок от процесса к процессу, при регулировании тока разряда сначала определяют экстремальные значения тока изменением напряжения, после чего устанавливают минимальное значение тока путем изменения потока реактивного газа и максимальное значение тока путем изменения потока инертного газа.

Номер патента: 1707995

Опубликовано: 30.07.1994

Авторы: Валеев, Глебов, Железнов, Кузьмин, Лезгян, Фишель, Хрусталев

МПК: C23C 14/35

Метки: интегральных, межсоединений, металлизации, схем, формирования

...камере держать относитезльно высокое рабочее давление (7 10 - 1 10) мм рт.ст, и обеспечивать откачку диссорбированных атомов гаэоотделения со стенок рабочей камеры при значительном их нагреве во время процесса распыления сплавной мишени АТ 0,5, для стабильности режимов распыления подбирают размер щели между рабочей и общей камерами или в камере делают калибровочное отверстие, чтобы одновре 10 15 20 25 30 35 40 менно обеспечить сопротивление газовому потоку откачки и выдержать необходимый перепад давлений. При этом необходимо отрегулировать подачу плазмообраэующего Аг и откачку потока газоотделений, при этом необходимым условием является Ррвб.квмерыРдегвзвции+ Р дг где РдгРдегазвций активных примесей, в составе Рдегвзвции пик М 2 должен...

Номер патента: 1297504

Опубликовано: 30.07.1994

Авторы: Колесов, Сейдман

МПК: C23C 14/36

Метки: пленок, соединений, химических

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК ХИМИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ, включающий распыление металлической или полупроводниковой мишени в смеси инертного и активного газов плазмой разряда, имеющего вольт-амперную характеристику с динамическим сопротивлением, большим статического при стабилизации тока и напряжения разряда в процессе распыления, причем один из параметров стабилизируют источником питания, а другой - посредством регулировки потока активного газа, отличающийся тем, что, с целью повышения воспроизводимости свойств пленок за счет повышения устойчивости режима разряда, источником питания стабилизируют ток разряда, а регулировкой потока активного газа - напряжение разряда, при этом в процессе распыления поток инертного газа поддерживают постоянным.