C23C 14/40 — с помощью разряда переменного тока, например высокочастотного разряда

Номер патента: 208765

Опубликовано: 01.01.1968

Авторы: Бурда, Кравец, Лившиц, Экспериментальный

МПК: C23C 14/40

Метки: высокочастотной, металлов, электроимпульсной

...качества обработки и снижения энергоемкости процесса, предлагается вместо применяемых при электроискровой вы сокочастотной обработке несимметричных знакопеременных импульсов напряжения и тока применять униполярные импульсы.Величина р на тех же частотах, что и привысокочастотной обработке, имеет значение 25 на один порядок меньший (1 ( р (5) . Вытекающее отсюда отношение длительности импульса к его амплитуде оказывается собственно на один порядок больше. Таким образом, превалирующим процессом является ионный, 30 ., е. тепло выделяется преимущественно за208765 Предмет изобретения Редактор Н. Л. Белявская Техред А. А. Камышникова Корректоры: Е. Н. Гудзова и Г. И. ПлешаковаЗаказ 306/5 Тираж 530 Подписное ЦИИИПИ Комитета по делам...

Номер патента: 273616

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Александров, Шалимов

МПК: C23C 14/38, C23C 14/40

Метки: катодного, распыления

...расположены дисковые подложкодержатели.Такое выполнение повышает к во покрытия и при этом оптимально ьзуется рабочее пространство камеры.На чертеже представлено предлагаемое устройство.Оно состоит из камеры 1 с размещенными внутри нее катодами 2 и подложкодержателями 3. Анодом служит камера. Катоды выполнены в виде гребенки, заполняющей объем камеры, между зубьями которой, имеющими форму дисков, расположены дисковые подложкодержатели.Герметичная камера откачивается до давления не более 5 10мм рт. ст. При помощи натекателя 4 в камеру вводится рабочий газ и давление повышается до 1 10 - з - 2 10 - г м.н ТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ рт. ст. К катодам из распыляемык лов прикладывают потенциал 1 - 6 к симости от заданнык электрофизиче рактеристпк...

Номер патента: 1610927

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Абдуллин, Гафаров, Желтухин, Иванов

МПК: C23C 14/40

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...камер от ее оси.При размещении графитового блока в разрядной камере в зоне максимальной напряженности магнитного поля (т.е, на расстоянии 0,6-0,8 радиуса разрядной камер от ее оси) вихревые токи, возникающие в гра 1610927фиговом блоке, нагревают его и находящиеся на нем подложки, Это позволяет осуществлять очистку поверхности подложки до нанесения покрытия, проводить термообработку полученного покрытия. Выбор зоны размещения графитового блока в разрядной камере, равной 0,6-0,8 радиуса разрядной камеры от ее оси, обусловлен максимальным тепловыделением в данной зоне. При этом одновременно с обычной термообрдботкой 10 происходит и обработка в плазма высокоча-стотного емкостного разряда, что позволяет реализовать комбинированную...

Номер патента: 1070949

Опубликовано: 15.06.1993

Авторы: Бенуа, Гончаренко, Дмитриев, Колпаков, Маслов

МПК: C23C 14/40

Метки: алмазоподобных, покрытий

...потОка плазмы в импульсе, приходящего на подложку (10 -16 щ см ,ч ), позволяет существенно снизить про- . центное содержание примесей в покрытии и таким образом снизить требования к рабочему вакууму (процесс осу" ществляется при давлении аргона 1 х510Па) без заметного снижения микротвердости и увеличения примесей впокрытии, что подтверждается исследованиями на электронном спектрометредля химического анализа (ЭСХА). Подложка изолируется от корпуса вакуумной камеры и электродов генератораплазмы, т.е. находится под потенциалом "плавания". При этом отпадает не,обходимость в применении ВЧ-генерато" 15 ра или иного устройства электроста-,тического ускорения ионов, Ускорениеионов плазмы осуществляется в межэлектродном пространстве...

Номер патента: 1757249

Опубликовано: 15.07.1994

Авторы: Береснев, Гриценко, Кривонос, Лымарь, Толок, Швец

МПК: C23C 14/40

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее рабочую камеру с размещенными в ней электродуговым испарителем и подложкодержателем, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий, в него введен ВЧ-генератор с согласующей системой, состоящей из конденсатора переменной емкости, соединенного с коаксиальным кабелем изменяемой длины, центральная жила которого соединена с подложкодержателем, а экран - с рабочей камерой.

Номер патента: 1707996

Опубликовано: 10.07.1999

Автор: Корж

МПК: C23C 14/40

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, преимущественно диэлектрических материалов, содержащее катодный узел с магнитной системой и мишенью для распыления, анод с выступами и углублениями, увеличивающими площадь анода не менее чем в два раза, и подложкодержатель, установленный напротив мишени, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий и производительности, в выступах и углублениях выполнены сквозные отверстия, заполненные легкоплавким проводящим материалом, температура плавления которого ниже температуры нагрева анода, при этом суммарная площадь отверстий в поперечном сечении больше распыляемой площади поверхности мишени, а диаметр и глубина каждого отверстия выбраны...

Номер патента: 571102

Опубликовано: 27.04.2006

Авторы: Белкин, Кравцов, Лебедева, Пономарев, Столбунов, Шишкин

МПК: C23C 14/40

Метки: нанесения, покрытий

Способ нанесения покрытий путем катодного распыления металлов в вакууме на изделие, служащее анодом, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности процесса и улучшения свойств покрытий, распыление осуществляют импульсным дуговым разрядом при токе 100-200 кa, а эрозированные частицы металла направляют от катода к аноду импульсным магнитным полем, силовые линии которого направляют под углом к горизонтали, причем напряжение магнитного поля уменьшают от центра электродов к их периферии.