C23C 14/00 — Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие

Номер патента: 189952

Опубликовано: 01.01.1967

МПК: C23C 14/00

Метки: 189952

...поверхность которого до напыления нанего ферромагнитного материала подвергаюттермообработке в вакууме.Металлическую отполированную до 12класса чистоты поверхность покрывают подслоем кремнийорганического лака, содержащего 17 О, сухого продукта, разбавленногосмесью, состоящей из трех частей толуола иодной части этилового спирта, до консистенции, содержащей 5 пп сухого продукта, После сушки в течение 12 час при 20 С толщинаподслоя должна составлять около 0,5 лгк. Затем подслой подвергают термообработке ввакууме при 250 - 350 С-, во время которой наего поверхности образуются микронеровности, 30Не вскрывая вакуумной камеры при температуре подложки - 250 С, на подслой напыляют ферромагнитную (например, пермаллое.вую) пленку...

Номер патента: 197020

Опубликовано: 01.01.1967

Авторы: Савицка, Творогов, Электроники

МПК: C23C 14/00, H01J 9/08

Метки: алундового, нанесения, нокрытия

...алюми соединение и нанесения ктронных п и катодов снижения его механи ением в ва ее органи алундо рибороотлич толщи ческой кууме н ческое Известны способы нанесения алундовых покрытий на подогреватели катодов электронных приборов путем электрофреза, Однако такие способы не позволяют получать покрытия малых толщин (=. 1 р,).Предлагаемый способ нанесения алундового покрытия па детали электронных приборов, например на подогреватели катодов, отличается от известных тем, что на деталь испарением в вакууме наносят алюминийсодержащее органическое соединение и прогревают ее при температуре разложения соединения. При этом толщина покрытия снижается, а его механическая прочность повышается.На деталь испарением в вакууме наносят, например, этилат...

Номер патента: 198086

Опубликовано: 01.01.1967

Авторы: Атрашкевич, Лаптев, Литв

МПК: C23C 14/00, C23C 14/58, C23C 28/00 ...

Метки: металлизации, пенопласта

...ти об овать при а со слож а, основан- алла, отлишения адгености пеночую поверхпрессформу подвергают Известный способ металлизации пенопласта, основанный на вакуумном испарении металла и осаждении его на поверхность пенопласта, не обеспечивает достаточно высокой адгезии металлического слоя к поверхности пенопласта.Описываемый способ заключается в том, что для улучшения адгезии металл, наносимый на пенопласт, напыляют на рабочую поверхность прессформы, заливают в прессформу пенопласт и после прессования подвергают пенопласт отвердению в термостате. В результате на отливке образуется плотный и равномерный по толщине слой металла. Для хорошего отставания напыляемого металла от прессформы ее рабочие поверхно тывают по 8 - 9 классу...

Номер патента: 281102

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Гаврилов, Федотов

МПК: C23C 14/00

Метки: бункерное, вакуумных, установок

...б вертикального перемещения подложкодержателей. В кассетах установлены отсекатели 7, на которых, находится стопа подложкодержателей в момент их горизонтального перемещения. Размеры кассет зависят от объема ват куумного колпака, а длина трактов - личества и конструкции испарителейройство снабжено нагревателями 9, расположенными по пути движения подложек.5 Бункерное устройство работает следующимобразом.Кассеты, верхний и нижний тракт заполняют подложкодержателями с заторепленнызти на них подложками за исключением нижнего 10 места в кассете 2 и верхнего в кассете 1, принеобходимости прогревают, а затем производят напыление на подложки, находящиеся на нихкнем тракте. Механизмы горизонтального перемещения, двигаясь одновременно, произ...

Номер патента: 298673

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Баранов, Баринов, Белый, Зайцев, Йлиал, Камскнй, Коновалов, Краинский, Кукушкин, Пивцов, Платонов, Трегубов, Энман

МПК: C23C 14/00

Метки: вакуумная, электропечь

...действия. Над печью .-, - .я ряс:лдид олова вертикально расцоложе.ы цечь 1 д отжига-очистки ц печь 1 б термообработкц;егы.30 Конструктивно обе псчц выполнены о;ццяково298673 фиг У и представляют собой керамическую трубу с навитым на нее нагревателем, окруженную экранами. Крышка 17 печи для расплава олова с графитовым или кварцевым сектором для направления ленты, плита 18, на которой монтируются печи 15 и 16, а также кронштейн 19 с направляющими роликами 20 и 21 составляют механизм протяжки, смонтированный жестко на штоке 22. Монтаж деталей и узлов механизма протяжки на одном штоке обеспечивает 10 надежное направление обрабатываемой ленты, Верхняя часть штока охлаждается водой, что позволяет снижать температуру обрабатываемой ленты на...

Номер патента: 340129

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Иностранна, Иностранцы, Роберт, Соединенные

МПК: C23C 14/00, C23C 14/02, C23C 14/58 ...

Метки: 340129

...из тунгстена или в другой подходящий сосуд, оснащенный устройством для нагрева лодочки 10 и подложки, на которой конденсируется тонкая пленка.В качестве подложки используют тонкополированную пластину, например, из стекла или кварца, которую предварительно тщатель но очищают, например, промывкой в слабомкислом растворе, а затем - в дистиллированной воде и высушивают в струе инертного газа. Атмосферу колпака разрежают до давления 10 -мм рт. ст.20 Подложку нагревают до температуры 350 С,а лодочку с пятиокисью ванадия - до температуры 650 С. Пятиокись ванадия, испаряясь, осаждается на установленной подложке. Подложку с отложенной на ней тонкой пленкой 25 пятиокиси ванадия удаляют из испарительного колпака и помещают в другой колпак....

Номер патента: 398814

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Бессольцев, Борисов, Гудков

МПК: C23C 14/00, G01B 7/06

Метки: датчик, диэлектрических, напыляемых, толщины

...и чем тоньше подложка, тем меньше степень нескомпенсированности.На фиг. 2 кривые показывают, что емкостьобоих конденсаторов от температуры изме няется в равной степени. Датчик толщины напыляемых диэлектриче 30 ских пленок, содержащий плоский гребенчаПредлагаемое изобретение относится к области радиотехники, к устройствам для измерения толщины тонких диэлектрических пленок в процессе их изготовления.Известны датчики толщины напыляемых диэлектрических пленок, содержащие плоский гребенчатый конденсатор, выполненный в виде диэлектрического основания с нанесенными на одной из его сторон электродами.Основным недостатком известного датчика является большая ошибка измерений из-за нагрева диэлектрического основания в процессе осаждения...

Номер патента: 1167239

Опубликовано: 15.07.1985

Авторы: Абалихин, Зуйков, Курганов, Лебедев, Ромашов

МПК: C23C 14/00

Метки: вольфрама, испаритель

...матовость поверхности, повышается адгезия покрытия. Испаритель изготовлен из монокристаллаили из текстурированного поликристаллатак, что поверхность, контактирующая с испаряемым веществом, соответствует плос - костям 1110 с наибольшей ретикулярнойплотностью. Эти плоскости с плотнейшейупаковкой атомов слабо смачиваются испаряемым веществом, что уменьшает разрушение испарителя. Кроме того, при слабой смачиваемости увеличивается скорость испарения вещества, наносимого на подложку, что приводит к улучшению качества покрытия,Испаритель, выполненный из вольфрамас содержанием примесей 0,15 мас.о/, и более, имеет следующие недостатки:происходит интенсивное испарение примесей с испарителя на подложку, газовыделение из испарителя в зоне контакта...

Номер патента: 1118083

Опубликовано: 30.04.1986

Авторы: Воробьев, Гриднев, Погребняк, Розум, Углов

МПК: C23C 14/00

Метки: вещества, имплантации, материалы

...так,что выполняется условне осевого или плоскостного каналирования электронов,На фиг. 1 схематично изображеноустройство для имплантации, на1 О фиг. 2 - график расчетного распределения плотности локализации потокаэлектронов относительно атомной(грань 110) при энергии электронов10 МэВ на фиг. 3 - график зависимости требуемого времени имплантации от угла ориентации мишени изалюминия относительно направленияэлектронов.2 О Устройство содержит источник ускоренных электронов 1, монокристаллическую фольгу 2 из имплантируемого материала, установленную на обрабатываемом материале 3Монокриср 5 талличес:ая фольга ориентированатак, что ее кристаллографическиеоси совпадаютс направлением пучка,Фольга 2 и материал 3 помещены вохлаждаемый...

Номер патента: 1273402

Опубликовано: 30.11.1986

Авторы: Беляковский, Колотуша, Ларченко, Орлов, Сергеев

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...слое.Так как материал нагрет до температуры испарения германия, происходит более интенсивное испарение легкоплавных 20 примесей. Тугоплавкие примеси не участвуют в процессе образования пленочных покрытий, так как их температура испарения выше температуры испарения германия. 25Для определения степени подготовки материала при нанесении пленочных покрытий в вакууме во время испарения примесей на заслонку 5 производят их нанесение на подложку 7, ЗО которую перемещают с постоянной линейной скоростью 0,5-1 м/ч относительно отверстия 6 в заслонке 5, что приводит к осаждению примесей и германия на поверхности подложки 7,обращенной к тиглю 4. Одновременно происходит непрерывное взаимодействие электромагнитного модулированного излучения,...

Номер патента: 1342942

Опубликовано: 07.10.1987

Авторы: Гаврилов, Жедь, Курбатова, Лукьяненко, Ординарцев, Синельщиков, Уродовских

МПК: C23C 14/00

Метки: инструмент, режущий

...2 обладающем значительнойтвердостью, возникают высокие термические, упругие и пластические напряжения. С помощью переходного термостабильного слоя 4 ани передаютсяболее пластичному материалу осцовы,в которой происходит их релаксация,Этому способствует конструктивноерасположение переходцага слоя междуосновой и подслаем, чта це приводитк появлению дополнительцай грацицыраздела в конструкции устройства, нарушающей ее монолитность, Кроме того, присутствие в составе переходного слоя элементов наделая и накрывгия ведет к появлению химической связи между материалом основы и подслоя, а выполнение переходного слоя с воэможностью плавного возрастания кон 5центрации элементов мариала подслоя и покрытия от содержания их в материале основы до...

Номер патента: 1442080

Опубликовано: 30.11.1988

Авторы: Тацуичиро, Тосинори, Юносюке

МПК: C23C 14/00

Метки: металлического, нанесения, подложку, покрытия

...1, В 2-В 2,Устройство работает следующим образом.В камере 3 парового осаждения поддерживают вакуум в пределах 1,33 10 -1,33 10 Па. С помощью разогретогокатода 8 под действием приложеннойразности потенциалов 0,1-10 кВ междукатодом 8 и тиглем 7 (анодом) происходит его электронная бомбардировкаи тигель 7 нагревается до 200-2500 С.В результате в тигле 7 создаетсяизбыточное давление паров, под действием которого пары материала 12сбрасываются через выходное отверстие, диаметр которого составляет1-ЗОЕ диаметра тигля 7 в виде струи,Образовавшийся за счет адиабатического расширения пучок ионизируется за счет столкновения с электроннымпотоком, который образуется с помощью источника 10 электронов и ионизирующего электрода 9, являющегосяанодом,...

Номер патента: 1458403

Опубликовано: 15.02.1989

Авторы: Кончаковская, Рабинович, Тафт

МПК: C21D 9/22, C23C 14/00

Метки: быстрорежущей, инструмент, стали

...торцовую диаметром 90 мм и высотой 50 мм из быстрорежущей стали.Далее путем термообработки добиваются снижения твердости основы до 56-60 НКС, после чего на инструмент в установке типа "Булат" наносят износостойкое покрытие из нитрида титана толщиной 5-8 мкм и твердостью 2200 НЧ. НТ И 8 БЪ 1 СТГОРЕЖУШЕЙ(5тение Относится к метал,пургии и мОжет быть использовано для изго;Овления металлорежущего ипстру мента методам литья. Целью изобретения является повышение стойкости инструмента. Из быстрорежущей инстр ментальной ;зли методом литья в Фо мь изготовляют торцовые Фоезы авиа метром 90 мм и высотой 50 мм. Пчтем термообработки добиваются твердости Основы инструмента 56-60 НЕС, на которую в установке типа "Булат но ят износостойкое покрытие...

Номер патента: 1097120

Опубликовано: 15.08.1990

Автор: Наталочка

МПК: C23C 14/00, H01J 27/04

Метки: ионов, источник

...достигается тем, что визвестном источнике ионов преимущественно для обработки изделий в вакууме, содержащем магнитную систему тороидальной формы с кольцевым межполюсньй зазором, анод, расположенный внут-Ори магнитной системы эквидистантномежполюсному зазору, катод и источник питания разряда, с одной сторонымагнитной системы установлен плоскийгазораспределитель, а с противоположной - катод кольцевой формы, межполюс.ный зазор магнитной системы обращенвнутрь полости, образованной магнитной системой, газораспределителем икатодом, при этом газораспределител 1 20и катод электрически изолированы отмагнитной системы, кроме мого, имеется по крайнеи мере один дополнительный источник питания разряда.25На фиг,1 показан предлагаемый источник,...

Номер патента: 1452194

Опубликовано: 15.09.1990

Авторы: Байдаровцев, Пономарев, Савенков, Тальрозе, Янчивенко

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, нанесения, покрытий, полимерных

...переменного тока до температуры на 5"о10 С вьппе,температуры йарогенератора1. После .установления теплового режима парогенератора 1 между анодом 3и катодом 4 подают напряжение постоянного тока 2,0 кВ, обеспечивающеевозбуждение в разрядном промежуткесамостоятельного тлеющего разряда. 25При ионизадии в плазме газовогоразряда направляемые в разрядный промежуток жидкофазные частицы заряжаются положительно, в результате этогоони ускоряются из области гаэоразрядной плазмы к катоду 4, проходя зону катодного падения, Принимая во фвнимание, что поток рабочего вещества является вязкостным, ускоряющеедействие в разрядном промежутке испы .Э 5тывают и незаряженные частицы. Следовательно, в плоскости катода име ется нормально направленный,...

Номер патента: 1139170

Опубликовано: 23.11.1990

Авторы: Какурин, Минайчев, Одиноков

МПК: C23C 14/00

Метки: ионно-плазменного, нанесения, покрытий

...магнитную систему с ую с нерабочи, подложкоую магнитнаконечниками ЪУй стороны под. одноименных гнитной сиснаконечниками, размещенн чай стороны катода-мише. держатель и дополнительн ную систему с полюснымиустановленную с нерабоче ложкодержателя напротивполюсных наконечников матемы.В данном устройстве этронов снижается за счет:Редактор Л.Письман Техред Л.Олийнык Корректор Л.Патай Заказ 4343 Тираж 825 ПодписноеВНИИПИ Государств нного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина,101 жения магнитным полем дополнительноймагнитной системы, однако мишень распыляется неравномерно из-за сужениязоны эрозии встречными...

Номер патента: 1144417

Опубликовано: 23.11.1990

Автор: Наталочка

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме

...за счет уменьшения загрязнения поддожек про; дуктами распыления оснастки устройства и повьппение производительности за счет интенсиФикации разряда. Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для обработки изделий в вакууме, содержащем магнитную области скрещенных электрическом меж 25редствепно в разрядную камеру и в раз 30 систему, выполненную в виде коакси- ально расположенных магнитов и полюсных наконечников, размещенную между магнитами тороидальную разрядную камеру с анодом и газовым коллектором, катод, установленный за тороидальной, камерой со стороны выходных отверстий газового коллектора, и систему электропитания, одноименные полюса магнитов ориентированы в одну сторону, полюсные наконечники размещены на...

Номер патента: 1517371

Опубликовано: 07.12.1990

Авторы: Баркалов, Веселовзоров, Владимиров, Гусева, Никольский, Носков, Покровский, Степанчиков, Сулима

МПК: C23C 14/00

Метки: диэлектриков, металлов, поверхности

...ионов азота с энергией 40 кэВи плотностью тока 0,1 мА/см до дозы1)=1 О ион/см. Толщина азотирооанногослоя составляет 50 мкм. 30П р и м е р 2. В поверхность изделий из жаропрочной стали ВЖЛ 12 У имп. лантируют высокоэнергетичные ионы азота с энергией 40 кэВ при плотности7 тока 0,03 мА/см с дозой 0=10 ион/смз 5 Изделия обпучают квазинейтральным плазменным потоком с энергией ионов азота И, равной 0,3 кэВ при плотнос"и готи 5 мА/см до доз 10 -10 ион/см, При этом получены следующие эчацения 40 толщин упрочненных слоев: Способ обработки иэделий 1, Без ионной обработки 2. Квазинейтральныйплазменный потокОбработка по прототипуОбработка по изоб- ретению 14Лоза, ион/см Толщина, мкм110 1,510 610 27Время облучения до дозы 10...

Номер патента: 1641892

Опубликовано: 15.04.1991

Авторы: Гречанюк, Мовчан, Чуйков

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, покрытий, углеродсодержащих

...7 испаряют стержень 6, состоящий из переходного металла. Дляэтого стержень 6 нагревают электронным лучом 10 от пушки 11, осуществ-.,ляя таким образом его испарение.Образующийся паровой поток 9 совместна с паровым потоком 8 углеродаосаждается на подложку 13 с образованием углеродсодержащего покрытия. Состав покрытия можно регулировать,например, изменением соотношения мощ,настей пушек 15 и 11,П р и м е р 1. Способ бып осуществлен на лабораторно-промышленнойустановке УЭМ. В качестве источника углерода бып выбран графит марки МГ, из которого бып изготовленстержень 3 диаметром 68,5 мм и высотой 200 мм, Стержень 3 помещали вмедный водоохлаждаемый тигель 1 свнутренним диаметром 70 мм. В качестве материала ванны-посредника быписпользован...

Номер патента: 1666925

Опубликовано: 30.07.1991

Авторы: Давыдов, Мишин

МПК: C23C 14/00, G01F 11/00

Метки: дозатор, порошкообразного

...врегистры каналов 0 и 1 таймера 15, определяя его рабочую частоту. Сигнал первого канала таймера 15 в виде импульсов напряжения 5 В и частоты, меняющейся в пределах 5-25 Гц, подается нэ вход первого 5 10 15 20 25 30 35 усилителя 16 мощности, где усиливается до значения 15 В, необходимого для запуска электромагнитного вибратора через первый выход блока 13 управления, а сигнал второго канала таймера, являющийся сигналом постоянного регулируемого напряжения, подается на вход второго усилителя 17 мощности, откуда после соответствующего усиления подается на обмотку 9 электромагнита через второй выход блока 13 управления.Дозатор работает следующим образом. Порошкообразный материал загружаютв бункер 4 и он через выходное отверстие 5...

Номер патента: 1394736

Опубликовано: 23.01.1992

Авторы: Диамант, Ждан, Свешникова, Сидорин

МПК: C23C 14/00

Метки: металлических, нанесения, покрытий

...Пластин-. ка пьезоэлектрика осуществляет механическое инициирование реакции раз" ложения рабочего. вещества, легко разлагающегося под действием давления, трения, удара, например, аэидов алюминия или золота.Изобретение осуществляется следующим образом, .Рабочее вещество в дисперсной форме поступает при атмосферном давлении в тепловую зону, созданную на" гревателем. Температура зоны равна температуре инициирования взрыва рабочего вещества, Происходит его , взрывное разложение и осуществляется быстрый массоперенос во взрывной волне металла, содержащегося в раэла-эОгаемом яеществе. Металлическая компонента соединения азха металла (при условии . к м е , где К - расстояние от на" гревателя до подложки; о - линейный размер подложки)...

Номер патента: 1692164

Опубликовано: 30.06.1992

Авторы: Баранник, Коротаев, Помазенко, Савостиков, Табаченко

МПК: C23C 14/00

Метки: поверхности, упрочняющей

...выпол"не(ной иэ химического соединенияту(-оцлавкого металла (титана или гаф"я(я) с бором или углеродом, и облу(е(и урочнлемой повеэхности ускорю(ии зарлженньми (аст ицали Испглъзо"ваие в качестве распыляемой мишени борида или карбида тугоплавкогсл(еталла ихимически активного элемента (бораипи угг(ерода) одновременно повышаетвероятность их синтеза в приповерх 3.настном слое с Образованием высокотвердых иэносостойких соединений.Од(ако из-за разности масс составляющих элеиенгов ионного г(учка исоответственно более высокого зна(0ц" ил проективного пробегг(ег когоэлемента (бора или углерора)в гов(рхностОм слое Облуаемого лгатериала обьемн(г( ко(лцентрзциг атоиовбора или углерода су(цественно меньш(. Обьеиной концентрации атомов...

Номер патента: 1758083

Опубликовано: 30.08.1992

Авторы: Белик, Коржавый, Левин, Прасицкий, Сигов

МПК: C23C 14/00

Метки: декоративных, изделиях, пластмасс, покрытий

...нанесения металла и, как следствие, получение ряда эффектов, связанных с его последующей обработкой,Целью изобретения является снижение себестоимости и получение новых художественных решений декоративных покрытий на изделиях из пластмасс, расширяющих их потребительские свойства.Поставленная цель достигается тем, что в известном способе формирование промежуточного металлического слоя осуществляется методом вакуумного напыления металла в тлеющем разряде при давлении газа 5 10. ;5 10 Па в течение 1030 с и отношении плотности разрядного тока к давлению 10 10Режим получения промежуточного металлического слоя подобран экспериментально. При этом" обнаружено, что при давлении более 5.10 Па вследствие большого количества посторонних частиц...

Номер патента: 1758688

Опубликовано: 30.08.1992

Авторы: Красиков, Трушкин

МПК: C23C 14/00, H01G 13/00

Метки: изделия, нанесения, покрытий

...назад, также перемешивает осадок, а внутренняя ванна 3, наполненная технологической жидкостью, поднимается над поверхностью ванны 1 так, чтобы аноды оказались погружЕнными на заданную глубину. Глубина погружения анодов зависит от высоты подъема ванны 3, которая можетрегулироваться, Излишек жидкости приподъеме ванны 3 сливается через ее край внаружную ванну 1, После этого цикл повто 5 ряется. Поскольку расход технологическойжидкости невелик, достаточно ее в течение.смены несколько раз подливать в ванну 1,Формула изобретения1, Устройство для нанесения покрытий10 на изделия, преимущественно суспензийна аноды оксидно-полупроводниковыхконденсаторов, содержащее наружную ивнутреннюю ванны, кассеты для обрабатываемых изделий,...

Номер патента: 1761814

Опубликовано: 15.09.1992

Авторы: Арешкин, Афанасьев, Гутман, Павлова

МПК: C23C 14/00

Метки: газочувствительного, элемента

...более шероховатой, Сопротивление и поверхностная проводимость такой пленки значительно увеличивается, что повышает ее чувствительность,Несмотря на ионную бомбардировку кислородом свеженапыленной пленки, ощущается его недостаток в структуре пленки - образуется низкоомная пленка с избытком цинка, Для дальнейшего улучшения качества пленки - повышения стабильности электропроводности, снятия механических напряжений и для продолжения процесса окисления, далее проводится отжиг в два этапа,Первый отжиг проводится в вакуумной камере в течение 25-30 минут, при том же давлении и температуре 400-450 С, затем следует охлаждение подложки с газочувствительной пленкой до 20-18 С. Повторный отжиг осуществляется фотонным нагревом в течение 25-30...

Номер патента: 1145690

Опубликовано: 30.10.1992

Авторы: Арустамов, Груич, Пичко, Эстерлис, Юнусов

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...рованный ограничительный экран, торецанода, обращенный к катоду, выполненв виде выступа треугольного профиля,снабженного остриями, а ограничительный экран размещен между анодом истаканами катода и выполнен с отверстиями, совпадающими с местоположениями острий и зазора между внешним ивнутренним стаканами,На чертеже показано устройстводля нанесения покрытий в разрезе.Устройство содержит катод, выполненный в виде соосных разновысокихстаканов 1-3 с центральным стержнемвыполненных иэ тугоплавкого металла и установленных с зазором друг отдруга, полый цилиндрический анод 5 иэлектроизолированный ограничительныйэкран 6, Стаканы катода сообщаютсямежду собой отверстиями 7, выполненными в боковых стенках внутреннихстаканов, и размещены в...

Номер патента: 1776698

Опубликовано: 23.11.1992

Автор: Григорьев

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, износостойких, покрытий, формирования

...а превышение содержания циркония вы1776698 Инструыенталыый материал Состав металлического алая,ыэс. Давление при осаждении ыеталлического слоя, Па Изнасостойкий слойКоэффициент по.выгвения стойко.сти цирконий Известный способ ВК 6 + Аэотирование (А) ВКО+ А То мо.ТМ ТМ ТМ ТМ ТМ ТМ ТМ ТМТМ ТМ П- ЪМ ТЪ 2 гК 07-2 гСМ ТМ ТМ1 0.9 1.1 1,4 1,2 0,9 1,41 1,2 1.1 0,7 1,9 1,51,8 1.0 1,6 2,1 Р 6 Ч 5 в Л(известный способ) Р 6 М 5+ А. Та ме Составитель С.МирошкинТехред М.Моргентал Корректор О.Густи Редактор Т.Иванова Заказ 4101 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, гК-ЗБ, Раушская наб., 4/Б Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 ше 95 снижает...

Номер патента: 1797628

Опубликовано: 23.02.1993

Авторы: Джон, Юджин

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, осаждением, плазменным, пленок, тонких

...с основного энергетического квантового уровня п=1 на более высокий энергетический квантовый уровень п=З. Когда этот возбужденный электрон переходит на соседний, более низ.кий энергетический квантовый уровень п=2, испускается фотон на волне альфа-водорода. Аналогично фотон на волне бета-водорода испускается, когда возбужденный водородный атом после столкновения с 45 электроном, энергия которого больше 12,73 эВ, сходит со своего возбужденного п=4 квантового уровня обратно на энергетический квантовый уровень п=2, Как результат, интенсивности этих эмиссионных линий во дорода оказываются связанными с плотностью электронов в плазме, обладающей этими энергетическими уровнями. Отношение этих интенсивностей водородных эмиссионных линий дает...

Номер патента: 1812236

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Запорожский, Колпаков, Маслов, Сидельников, Стригунов

МПК: C23C 14/00, C23C 14/46

Метки: акустических, диафрагм

...ионов превышает104 см з, то это приводит к чрезмерномуразогреву подложки и возникновениюструктурных дефектов в слое аморфного уг- "0лерода.Соблюдение вышеприведенных режимных параметров. обеспечивает скоростьосаждения аморфного углерода в пределах0,2-0,5 мкм/мин. Снижение скорости осаждения меньше 0,2 мкм/мин не обеспечиваетдостижения поставленной цели в части повышения производительности процесса.Если же реализовать скорость осажденияуглерода больше 0,5 мкм, то формируемая 20пленка обладает неудовлетворительной адгезией к титану и содержит большое количество структурных дефектов. Методосаждения импульсного потока углероднойплазмы по сравнению с используемым в 25способе-прототипе методом испарения углерода в газовой среде...

Номер патента: 1818356

Опубликовано: 30.05.1993

Авторы: Крайнов, Крайнова

МПК: C23C 14/00

Метки: износостойкого, покрытия

...соответствии его критерию "существенные отличия",Предлагаемый способ реализуется следующим образом.В камере установки "Булат-ЗТ" помещают стальной инструмент-калибр. Там же устанавливают 1 или 2 хромовых катода и 2 или 3 титановых катода. Камеру вакуумируют. Напыление проводят за один цикл при подаче в камеру азота. Сначала включают хромовые катоды на 5 - 10 мин, а затем - титановые на 20-30 мин.Готовый инструмент (с покрытием) поступает в работу, Годность его определяется визуально, Проверка размеров его не требуется, После появления на рабочей поверхности белых пятен (полос), свидетельствующих об износе верхнего слоя покрытия, инструмент передается в травительное отделение, где остатки нитрида титана снимаются в следующем растворе:...