Точицкий

Номер патента: 1075867

Опубликовано: 27.11.1996

Авторы: Погоцкий, Полякова, Точицкий

МПК: H01L 21/312

Метки: большой, интегральной, оригинала, рисунка, схемы, топологического

Способ изготовления оригинала топологического рисунка большой интегральной схемы, включающий нанесение на прозрачную подложку маскирующей пленки и получение рельефа в маскирующей пленке, содержащего элементы топологического рисунка и реперные знаки, методом фотолитографии с использованием генератора изображения, отличающийся тем, что, с целью повышения точности взаимного расположения элементов топологического рисунка, при получении рельефа в маскирующей пленке формируют часть топологического рисунка и реперные знаки, после чего на подложку наносят дополнительную маскирующую пленку, прозрачную для видимого света, а затем методом контактной или проекционной фотолитографии в дополнительной маскирующей пленке формируют оставшуюся часть...

Номер патента: 1047326

Опубликовано: 27.11.1996

Авторы: Романова, Сурмач, Точицкий

МПК: H01J 21/10

Метки: активный, вакуумный, запоминающий, элемент

Вакуумный запоминающий активный элемент, содержащий размещенные в вакуумированном корпусе источник электронов, сегнетоэлектрическую пленку и нанесенные на ее поверхности металлические электроды, отличающийся тем, что, с целью повышения быстродействия запоминающего элемента, в сегнетоэлектрической пленке-электроде, обращенном к источнику электронов, выполнены соосные отверстия, а источник электронов размещен соосно с этими отверстиями.

Номер патента: 1155128

Опубликовано: 27.10.1996

Авторы: Врублевский, Кадомский, Календин, Невзорова, Погоцкий, Полякова, Точицкий

МПК: H01L 21/66

Метки: литографических, размеров, слоев, элементов

Способ измерения размеров элементов литографических слоев, включающий формирование увеличенного изображения литографического слоя, измерение параметров увеличенного изображения и преобразование этих параметров в размер элементов, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерения, перед формированием увеличенного изображения в литографическом слое выполняют голографическую решетку и наносят на его поверхность латексные сферы, увеличенное изображение литографического слоя формируют с помощью растрового электронного микроскопа, после чего проводят юстировку микроскопа по латексным сферам, а параметры увеличенного изображения измеряют по форме распределения видеосигнала, при этом определяют расстояние B, соответствующее размеру...

Номер патента: 908113

Опубликовано: 20.10.1996

Авторы: Кривонощенко, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, покрытий

Способ получения покрытия в вакууме, заключающийся в возбуждении дугового разряда в парах материала расходуемого электрода и конденсации пароплазменного потока этого материала на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет снижения капельной фазы пароплазменного потока, на расходуемый электрод воздействуют ультразвуковыми колебаниями.

Номер патента: 1088639

Опубликовано: 20.10.1996

Авторы: Кривонощенко, Точицкий, Тхарев

МПК: H05H 1/00

Метки: плазменный, ускоритель, эрозионный

Эрозионный плазменный ускоритель, содержащий соосно расположенные катод, анод, дополнительный полый кольцевой электрод с отверстиями для подачи плазмообразующего газа, основной источник питания, соединенный с катодом и анодом, и генератор импульсов, соединенный с катодом и дополнительным полым электродом, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности возбуждения разряда, дополнительный полый кольцевой электрод выполнен с вогнутой сферической поверхностью, обращенной к катоду с центром, совмещенным с центром торца катода, отверстия для подачи плазмообразующего газа расположены на вогнутой сферической поверхности, их оси проходят через центр сферической поверхности, размеры рядом расположенных отверстий различны, а симметричных...

Номер патента: 880178

Опубликовано: 20.10.1996

Авторы: Кривоношенко, Селифанов, Точицкий

МПК: H01L 21/285

Метки: покрытий

1. Способ получения покрытий, включающий испарение материала, формирование направленного к подложке потока осаждаемого материала и осаждение его на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения адгезии, на осажденное покрытие воздействуют импульсным магнитным полем непосредственно или через промежуточную среду, обладающую высокой электропроводностью.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что на осажденное покрытие воздействуют импульсным магнитным полем амплитудой 20-28 кЭ и длительностью 120-130 мкс.

Номер патента: 1116967

Опубликовано: 27.05.1995

Авторы: Иванов, Свирин, Селифанов, Точицкий

МПК: H05B 7/18, H05H 1/24

Метки: вакуумное, электроразрядное

ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО по авт. св. N 950167, отличающееся тем, что, с целью улучшения его пусковых характеристик в диапазоне низких разрядных напряжений, оно снабжено дросселем и импульсными высоковольтными трансформатором и конденсатором, первичная обмотка трансформатора включена между отрицательным полюсом вспомогательного источника питания и плазмообразующим электродом системы поджига, первый вывод его вторичной обмотки соединен с плазмообразующим катодом электроразрядной системы, второй с первой обкладкой конденсатора и первым выводом дросселя, второй вывод дросселя соединен с отрицательным полюсом основного источника питания, а вторая обкладка конденсатора с анодом электроразрядной системы.

Номер патента: 950167

Опубликовано: 27.05.1995

Авторы: Акуленок, Григоров, Киселев, Перекатов, Селифанов, Точицкий

МПК: H05H 1/24

Метки: вакуумное, электроразрядное

1. ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО, включающее электроразрядную систему, содержащую анод и плазмообразующий катод, систему поджига, отделенную от катода вакуумным промежутком и содержащую изолятор, снабженный тонкопленочным токопроводом, и два электрода противоположной полярности, контактирующие с токопроводом, и систему питания, состоящую из основного, пускового и вспомогательного источника питания, отличающееся тем, что, с целью повышения его надежности при одновременном улучшении пусковых характеристик в широком диапазоне рабочих напряжений и режимов, система поджига снабжена дополнительным электродом, отделенным вакуумным промежутком от двух других ее электродов и изолятора и соединенным с отрицательным полюсом вспомогательного...

Номер патента: 1551233

Опубликовано: 27.05.1995

Авторы: Кунавин, Селифанов, Тарасик, Точицкий

МПК: H05H 1/24

Метки: вакуумное, электроразрядное

1. ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО по авт. св. N 1116967, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности при одновременном снижении энергозатрат на возбуждение разряда, в нем система питания снабжена дополнительным импульсным источником разряда, один вывод которого подключен к электроду поджига, а второй к шине, между шиной и соединенным с ней выводом вспомогательного источника питания включен дополнительный управляемый коммутатор, при этом средство для управления дополнительным коммутатором установлено в цепи дополнительного импульсного источника питания.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в нем средство для управления дополнительным коммутатором выполнено в виде датчика тока, установленного между электродом...

Номер патента: 1771367

Опубликовано: 10.04.1995

Авторы: Горобец, Петухов, Точицкий, Чураков

МПК: H01S 3/10

Метки: выбранную, генерации, лазера, линию, настройки

СПОСОБ НАСТРОЙКИ CO2 -ЛАЗЕРА НА ВЫБРАННУЮ ЛИНИЮ ГЕНЕРАЦИИ, включающий регистрацию спектра генерации лазера, определение реперной линии и установку селектирующего элемента в заданное положение относительно известной реперной линии, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и упрощения настройки, регистрируют длинноволновую часть спектра генерации, содержащую эквидистантно расположенные линии колебательно-вращательных переходов, варьируют условия возбуждения рабочей среды и потери оптического резонатора до появления в спектре генерации двух линий, расположенных со спектральным интервалом между ними, кратным эквидистантному, при этом линию с большей длиной волны идентифицируют как реперную линию Р(56) полосы 0001...

Номер патента: 1478660

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Буравцев, Обухов, Рубан, Точицкий

МПК: C23C 14/26

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее подложкодержатель, испаритель, установленный напротив подложкодержателя, формирователь потока пара, расположенный на испарителе и выполненный в виде коаксиально расположенных усеченных конусов, стенки которых образуют каналы для выхода пара, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества покрытий и увеличения коэффициента использования материала покрытия, формирователь потока пара размещен так, что его ось совпадает с центром подложкодержателя, а каналы для выхода пара выполнены так, что оси пересекают подложкодержатель в кольцевой зоне с радиусом R, выбираемом из выражения R=(0,6-0,9)R, где R - радиус подложкодержателя, мм, при этом расстояние L от подложкодержателя до...

Номер патента: 1069451

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Селифанов, Станкевич, Точицкий

МПК: C23C 14/46

Метки: вакууме, нанесения, плазменного, покрытий

СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, включающий генерирование встречных потоков плазм исходных материалов, смешивание их в зоне взаимодействия потоков, направление электрическим полем в сторону подложки и их осаждение, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности путем увеличения коэффициента использования массы исходных материалов, при смешивании потоки плазм исходных материалов тормозят в зоне взаимодействия температурным полем на время 101 - 104 мкс.

Номер патента: 1354761

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Буравцев, Грицкевич, Обухов, Точицкий

МПК: C23C 14/26

Метки: испаритель

ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий тигель для испаряемого материала, нагреватель, паропровод, испарительный элемент, расположенный между тиглем и паропроводом, и поршень для подачи материала из тигля к испарительному элементу, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий и снижения непроизводительных потерь испаряемого материала, испарительный элемент выполнен в виде решетки со стенками ножевидной формы, причем острые концы стенок обращены в сторону тигля.

Номер патента: 1291009

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Зеленковский, Перекатов, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 14/00, H05H 1/34

Метки: возбуждения, генераторе, импульсном, плазмы, разряда, электроэрозионной

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ по авт. св. N N 1168070, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности устройства и увеличения срока службы, оно дополнительно снабжено сферическим или шарнирным подшипником, одно из колец которого установлено соосно с катодом и закреплено, а держатель изолятора смонтирован на подвижном кольце подшипника соосно с ним и соединен с поджигающим электродом.

Номер патента: 1584433

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Грицкевич, Зыль, Точицкий

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, осаждения, пленок

СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ, включающий испарение осаждаемого материала в тигле, инжекцию пара в вакуум с образованием кластеров, их ионизацию, ускорение и конденсацию на подложке, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей, перед инжекцией пара в вакуум внутреннюю полость тигля герметично соединяют с внутренней полостью замкнутой инжекционной камеры, затем внутреннюю полость тигля отсекают от инжекционной камеры и осуществляют сжатие пара.

Номер патента: 1168070

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Зеленковский, Перекатов, Селифанов, Точицкий

МПК: H05B 7/22, H05H 1/34

Метки: возбуждения, генераторе, импульсном, плазмы, разряда, электроэрозионной

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ, содержащее цилиндрический катод, охватывающий его кольцевой изолятор, на обращенную в одну сторону с рабочим торцом катода поверхность которого нанесен тонкопленочный токопровод, поджигающий электрод и пружинящий элемент, поджимающий изолятор к катоду, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности возбуждения разряда и снижения неравномерности эрозии рабочей поверхности катода путем перемещения зоны контакта одновременно по токопроводу и катоду, кольцевой изолятор установлен с эксцентриситетом относительно катода и снабжен механизмом перемещения.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что механизм перемещения изолятора выполнен в виде...

Номер патента: 1061686

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Григоров, Перекатов, Селифанов, Точицкий

МПК: H05H 1/00

Метки: генерации, плазмы, потока

1. СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКА ПЛАЗМЫ, включающий подачу напряжения на разрядные электроды, n из которых являются эродирующими, и инициацию на них импульсных дуговых разрядов, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности генерации, после инициации разряда на первом эродирующем электроде подачу напряжения на остальные n - 1 эродирующие электроды производят последовательно с задержкой для каждого k-ого электрода в интервале времени 0,5tn-1 - 0,9tk-1, где tk-1 - длительность импульсного дугового разряда на (k - 1)-ом электроде.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что после инициирования разряда на последнем из n эродирующих электродов подачу напряжения на первый эродирующий электрод осуществляют с...

Номер патента: 826761

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Дударчик, Кривонощенко, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 14/44

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее осесимметричную формирующую систему, состоящую из полого электрода и средства для возбуждения магнитного поля, встречно расположенные плазменные ускорители, систему питания и подложкодержатель, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий, плазменные ускорители смещены относительно оси формирующей системы и установлены под углом к ней.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что величина угла составляет 30-150o.

Номер патента: 1268082

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Зеленковский, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 4/00, H05H 1/24

Метки: возбуждения, генераторе, импульсном, плазмы, разряда, электроэрозионной

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ по авт. св. N N 1168070, отличающееся тем, что, с целью увеличения ресурса путем увеличения срока службы тонкопленочного токопровода, оно содержит дополнительно защитный экран, размещенный на торце цилиндрической втулки с зазором относительно катода, выполненный в виде плоского кольца с каналом для выхода инициирующей плазмы, при этом канал расположен против зоны контакта тонкопленочного токопровода с катодом, а ось катода совпадает с осью экрана.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что внутренний диаметр экрана превышает диаметр катода, но меньше диаметра отверстия поджигающего электрода.3. Устройство по пп.1 и 2, отличающееся тем, что...

Номер патента: 1552676

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Капустин, Станишевский, Точицкий

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, металлизации, поверхности, полимерных

СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛИМЕРНЫХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, включающий предварительную очистку поверхности, нанесение промежуточного слоя и покрытия, отличающийся тем, что, с целью повышения адгезии покрытия, в качестве промежуточного слоя наносят пленку углерода толщиной 5 - 250 нм со скоростью осаждения 2 - 20 нм/мин.

Номер патента: 1658656

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Рубан, Свиридович, Точицкий

МПК: C23C 14/28

Метки: высокотемпературных, металлооксидных, пленок, сверхпроводников

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТАЛЛООКСИДНЫХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ СВЕРХПРОВОДНИКОВ, включающий испарение мишени из наносимого материала в атмосфере кислорода импульсным лазерным излучением, осаждение его на нагретую подложку и охлаждение подложки в два этапа в атмосфере кислорода, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества пленок и повышения технологичности процесса, испарение материала осуществляют при плотности мощности лазерного излучения 107 - 108 Вт/см2, частоте следования импульсов не более 15 Гц и давлении кислорода (0,13-13)Па, температуру подложки в процессе осаждения поддерживают в диапазоне (853-1023)К, охлаждение подложки на первом этапе проводят со скоростью не более 35 К/мин до температуры...

Номер патента: 1367820

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Мазур, Раковчук, Свирин, Селифанов, Точицкий, Цысецкий

МПК: H05B 7/16

Метки: термической, установки, электропитания, электроразрядной

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРОПИТАНИЯ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ДЕТАЛЕЙ, содержащее источник питания, дозатор энергии, выполненный в виде тиристорного моста, в диагональ которого включен конденсатор, и технологическую камеру, отличающееся тем, что, с целью повышения качества обработки путем улучшения прогрева обрабатываемых деталей, в него дополнительно введены трансформатор, выпрямитель, первый и второй дроссели и второй конденсатор, причем первичная обмотка трансформатора подключена к источнику питания через дозатор энергии, его вторичная обмотка подключена к выпрямителю, первый выход которого через последовательно соединенные первый и второй дроссели соединен с первым выводом камеры, второй выход - с вторым выводом...

Номер патента: 1831244

Опубликовано: 30.07.1993

Авторы: Барановский, Казакевич, Мармалюков, Мелешко, Назаров, Пилецкий, Самусевич, Точицкий

МПК: A01B 15/12

Метки: орудие, почвообрабатывающее

...функционированият.к. всегда будет иметь место равновесие закрученных сжатых или растянутых винтовых пружин стоек и сопротивления почвы.Установка смежных стоек уступом с параметрами, определяемыми зависимостью х = у/19 Оо, где.х и у - соответственно глубина и ширина уступа, Оо - угол установки лезвия рабочего органа к направлению движения, обеспечивает плоскопараллельные перемещения рабочих органов не только в поперечно- и продольно-вертикальной, но и гориэонтальной плоскостях, что не только повышает надежность, но и качество работы орудия, винтовые пружины стоек нагружаются равномерно.и. одинаково;.установленная глубина обработки незначительно изменяется по ширине захвата орудия,На чертеже показано крепление корпуса плуга к раме, где...

Номер патента: 1771397

Опубликовано: 23.10.1992

Авторы: Дмитриев, Лепешкин, Медведев, Перевозников, Точицкий

МПК: A01C 15/04

Метки: высеваемых, пневматических, распределитель, сеялок

...1, эжектор 2, трайспортирующий трубопровод 3, сообщенный с рассеивателем 4, в начале которого расположентурбулизатор 5. Последний установлен нагоризонтальной оси 6, расположенной перпендикулряно продольной оси трубопровода, причем ось турбулизатора 5расположена над верхней стенкой рассеивателя 4. Сверху турбулизатор закрыт кожухом 7, Турбулизатор 5 имеет коническуюповерхность с волнообразной направляющей 8, амплитуда волны которой не менеерадиуса выходного отверстия трубопровода. Рассеи вател ь вы пол нен дугообразн ым иустановлен выпуклой стороной вверх такимобразом; чтобы выходное отверстие его было расположено ниже входного. В выходном отверстии рассеивателя 4 установленыотводящие патрубки 9,Распределитель работает...

Номер патента: 1750457

Опубликовано: 30.07.1992

Авторы: Дмитриев, Медведев, Перевозников, Точицкий

МПК: A01C 7/04

Метки: аппарат, высевающий, пневматический

...изобретения - упрощение конструкции и повышение надежности процесса высева,На фиг,1 изображена схема высевающего аппарата, вид сбоку; на фиг,2 - сечение А - А на фиг,1; на фиг,3 - схема привода высевающего аппарата,Пневматйческий высевэющий аппарат состоит из бункера 1 для семян и установленного под ним корпуса 2 с регулируемым днищем 3, поворачивающимся на оси 4. Внутри корпуса под выгрузным окном бункера установлен высевающий цилиндрической барабан 5, внутренняя полость которого сообщена с воздуховодом 6, Нэ цилиндрической поверхности вь 1 севающего барабана выполнены сквозные отверстия 7, расположенные по винтовой линии. Оси отверстий отклонены от радиального направления в сторону перемещения семян к семявыводящему окну, На...

Номер патента: 1530040

Опубликовано: 23.02.1991

Авторы: Петухов, Точицкий, Трушин, Чураков

МПК: H01S 3/22

Метки: генерации, лазере, мкм, накачкой, области, оптической

...см , длительность переднего фронта импульса лазерного излучения не превьппает 25 нс, при этом переход 3 00 . - 10 1 возбужден О них молекул СО цясьпщается и достио гяется инверсия на переходе (10 1 10 0 генерирующем излучение с длиной волны в области 4,3 мкм. В случае облучения воэбужденньж молекул СО 25 импульсом лазерного излучения в области 94 мкм полученным ня переходе 100 1 - 02 оОизотопозамещенной молекулы ГО , насыщается переход ОО 2 - 021 возбужденной молекулы СОо и достигается инверсия на переходе (02 1 - 10 О ) генерирующем излучение в области 4,3 мкм, В таблице приведены возможные варианты выбора иэотопозамещенцых молекул СО35 в кювете 1 и возбуждаемых молекул СО в камере 4, указаны совпадяюпие по частоте переходы, я также...

Номер патента: 1617468

Опубликовано: 30.12.1990

Авторы: Белый, Врублевский, Рубан, Семенчук, Строенко, Точицкий

МПК: H01F 27/16, H01F 6/06

Метки: охлаждения, соленоида

...поле, сжимающее разряд в активном элементе газового лазера, и вызывает нагрев обмотки 1 соленоида, тепловой поток от которой через вяэкотекучую композицию 2 отводится к цилиндрам 9 и 10 и основаниям 11 клркаса, охлаждаемого хладоносителем 3,прокачиваемым насосом через кожух.При заполнении каркаса иэ-за вязкости композиции 2 ее тепловой контакт с цилиндром каркаса на некоторых участках отсутствует. Эта и другие причины могли бы вызвать образо-.вание зазора, например, между наружным цилиндром 9 и вязкотекучей композицией 2, на под давлением хладоносителя 3 поверхность наружного цилиндра 9 сжимается в радиальном направлении, в результате чего обеспечивается ее стабильный тепловой контакт с композицией.Электрический ток...

Номер патента: 1578718

Опубликовано: 15.07.1990

Авторы: Морозов, Томина, Точицкий, Филимонов

МПК: G06F 13/00

Метки: локальной, обменом, сети

...в преобразователь 2 и, если сброшен сигнал 15, выдает сигнал 17, инициируя передачу управляющего сообщения первого типа блоку физическогоуровня и далее в линию связи (моментС на фиг 6, блоки 37-44 алгоритма),т,е, устройство ожидает время Т 1 пе"ред передачей управляющего сообщения З 5первого типа, Это необходимо для того, чтобы исключить некорректноеформирование очередей доступа к линии связи в устройствах при одновременном переходе двух или более устройств из пассивного состояния вактивное.Узел, отслеживающий количествопереданных бит и инициирующий сброссигнала 17, т,е. окончание передачи45на фиг,4 не показан.После окончания передачи управляющего сообщения первого типа блок 5запускает таймер 4 (блок 53 алгорит"ма), который...

Номер патента: 1166697

Опубликовано: 15.07.1985

Авторы: Архипенков, Бойченко, Василевский, Зайцев, Колесниченко, Михневич, Точицкий, Холяво, Цыганов, Шмат

МПК: A01C 7/00

Метки: зерновых, комбинированного, посева, трав

...способу в противоэрозионные углубления высевают семена трав, а выбрасываемую лопастными колесами из противоэрозионных углублений почву разделяют посредством делителя-отражателя на три потока, из которых два боковых потока используют для образования продольных перемычек между противоэрозионными углублениями и заделки семян зер 45 50 55 5 0 15 20 25 30 35 40 новых, а нижний поток - для заделки семян трав в противоэрозионных углублениях.Способ осуществляют устройством новой конструкции для комбинированного посева зерновых и трав, в котором за лопастными колесами установлены делители- отражатели, выполненные в виде клина, режущая кромка которого установлена в продольно-вертикальной плоскости симметрии лопастного колеса под...

Номер патента: 1126581

Опубликовано: 30.11.1984

Авторы: Балабанов, Бунаков, Васильев, Иващенко, Игнашева, Калошкин, Титов, Точицкий

МПК: C09B 47/30

Метки: вакуумный, фоторезист

..."У" 15 не применяли по данному изобретению.Целью изобретения является разра" ботка нового вакуумного фоторезиста, позволяющего повысить разрешающую способность при производстве 20 микроэлементов электронных схем, снизить дефектность слоя Фоторезиста, а также упрощение технологии производства защитного слоя, позволяющее осуществить замкнутый вакуумный цикл производства интегральных схем,Указанная цель достигается тем, что используют пигмент зеленовато- голубой Фталоцианиновый "У" Формулы: ЗО3 11265величине плотности мощности и плот-ности энергии лазерного излучения,устойчив к действию травящих фреоновых плазм и ионного облучения с энер. гией ионов (10 эВи полностью ис-.паряется под деиствием лазерного изи5лучения.П р и м е р 1. Навеску...