Патенты с меткой «осаждения»

Страница 29

Электролит для осаждения покрытий сплавом цинк-кобальт

Загрузка...

Номер патента: 1813808

Опубликовано: 07.05.1993

Авторы: Ануфриева, Банова, Кудрявцев, Николова, Педан, Плетенев, Райчевски, Рашков

МПК: C25D 3/56

Метки: осаждения, покрытий, сплавом, цинк-кобальт, электролит

...8 - 18; в = 10 - 20с мол.м. 600-1500.Далее обобщены примеры реализациипредлагаемого состава электролита в сравнении с электролитом-прототипом.Характеристики предлагаемого составаэлектролита,В табл,1 и 2 приведены примеры составов предлагаемого электролита и прототипа 5 10 15 20 25 30 35 и характеристики покрытия, обосновывающие заявляемые диапазоны концентраций и достижение положительного эффекта.Состав прототипа: хлорид цинка 73 г/л; шестиводный хлористый кобальт 32 г/л, хлористый натрий 125 г/л, барная кислота 30 г/л; 2,4,7,9-тетраметил-децин,7-диол этоксилированный 30 моль окиси этилена 4,5 г/л; 4-фенил-бутен-он 60 мг/л; четвертичный бутилникотинатдиметилсульфат 30 мг/л; натриевая соль 4-фенил-сульфобутан-она 50 мг/л; бензоат натрия 2...

Устройство управления процессом гальванического осаждения металла

Загрузка...

Номер патента: 1813813

Опубликовано: 07.05.1993

Авторы: Лимаров, Стальнов, Чепчуров

МПК: C25D 21/12

Метки: гальванического, металла, осаждения, процессом

...11.Датчик толщины покрытия 2 закреплен в механизме перемещения 3 и через скользящие контакты 6 соединен с коммутатором сигналов 8, который по команде таймера 9 может производить соединения датчика толщины покрытия 2 с катодом рабочей ванны 1 или измерителем ТЭДС 11. Выход таймера соединен с приводом механизма перемещения 3, Измеритель ТЭДС 11 соединен с блоком задержки (корректирующим таймером) 10.Устройство работает следующим образом. Таймеру 9 задается время покрытия сдатчика толщины покрытия 2. Датчик толщины покрытия 2 через скользящие контакты 6 и коммутатор сигналов 8 соединен с катодом рабочей ванны 1 при помощи механизма перемещения 3 погружен в электролит вместе с покрываемыми деталями (на фиг,1 не показаны). По истечении...

Раствор для химического осаждения олова на медь и ее сплавы

Загрузка...

Номер патента: 1819911

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Мирвене, Петретите, Розовский

МПК: C23C 18/31, C23C 18/48

Метки: медь, олова, осаждения, раствор, сплавы, химического

...об"разом: образец из медной или латуннойФольги обеэжиривают, декапируют ипосле активирования его в .раствореиммерисионного оловянирования при 5 Окомнатной температуре в течение 35 мин погружает в растворы, составыи температура которых приведены втаблице,,Количество осажденного олова определяли по привесу образцов, Умно-жение массы осадка на 1,37 дает тол-;,щину покрытия в мкм (табличные данные), которая, учитывая специфику структуры (неоднородность) химического оловянного покрытия, представляет собой условную величину,Корроэионную стойкость покрытийоценивали по убыли массы при выдерживании образцов при 18-25 С в эксикаторе над концентрированной азотнойкислотой.Паяемость определяли по ГОСТУ9.302.79 (определениеоблуженнойповерхности),...

Способ осаждения конденсатных пленок заданной толщины

Загрузка...

Номер патента: 1820304

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Рыжиков, Скарлыгина, Фискинд

МПК: G01N 17/00

Метки: заданной, конденсатных, осаждения, пленок, толщины

...и емкостью.Способ реализован на установке, принципиальная схема которой приведена на чертеже,На внутреннюю сторону предварительно снятой крышки 1 с помощью микропидетки наносили рассчитанную порцию воды 2, после установки крышки на основание 3 из гидрофобного материала (фторопласт) крышку нагревали электронагревателем 4, а образец 5 охлаждали до температуры ниже соответствующей точки росы с помощью пропускаемой через него воды с заданной . температурой. Температуру испарителя и(57) Изобретение относится к осаждению конденсатных пленок заданной толщины на поверхности исследуемого обьекта, установленного в герметичной емкости с водой в атмосфере ее паров и охлаждаемого ниже температуры точки росы. С целью сокращения трудоемкости в...

Способ осаждения суспензии искусственного каинита

Загрузка...

Номер патента: 1825982

Опубликовано: 07.07.1993

Авторы: Бойко, Ватаманюк, Зубань, Ковалишин, Лущенко, Назаревич, Пришляк, Слипенюк, Стасюк, Химинец

МПК: C01D 3/08

Метки: искусственного, каинита, осаждения, суспензии

...ис щаемого цикл, уме кальция, и раствора. РЯТООНЫЕ ИСС пензии искус вой фабрики пензии доба едования ственного ПО "Хлорляли 1 млП ри ме р, Лабо проводились на су кзинита хлормагни винил". К 250 мл су(5 б) Авторское свидетельство СССМ 854880, кл, С 01 О 3/08, 1979. Изобретение относится к способам персрзботки полиминеральных руд, в 1 астнасти к способам выделения хлоридз натрия и каинитз из раствора их переработки, и моке- быть использовано в калийной промышленности при производстве магния.Целью изобретения является увеличение скорости Осаждения суспензий,Поставленная цель достигается тем, что раствор переработки полиминеральных руд, содержащий вцсокодисперсную взвесь искусстеного кяинита, Обрабатывают нятриевой солью...

Способ осаждения меди из медноникелевого сульфатного электролита

Загрузка...

Номер патента: 1827393

Опубликовано: 15.07.1993

Авторы: Абишев, Глазкова, Захарова, Кричевский, Осадчий

МПК: C22B 3/44

Метки: меди, медноникелевого, осаждения, сульфатного, электролита

...м е р. Состав исходного сульфат- ного медно-никелевого электролита (г/л);Сц 20,53: й 4,70; Н 2504 50.К 50 мл электролита прибавляли 10 мл алкилированных полигликолей и обрабатывали в автоклаве при температуре 190 С в течение 2 ч. Полученный осадок отфильтровали, промывали водой, ацетоном и затем снова водой. Раствор анализировали на со- ОО держание меди и никеля. Медь определяли Я на атомно-абсорбционном спектрофотометре С 302, Полученные результаты в сопо- ( ) ставлении данными по прототипу представлены в таблице, Условия осаждения в каждом конкретном случае корректи-руются, исходя из состава используемойпартии реагента.При использовании реагента в мень- а ших. чем указано в таблице, количествах, степень обезмеживания электролита...

Устройство для осаждения слоев из газовой фазы

Загрузка...

Номер патента: 1137787

Опубликовано: 30.07.1993

Авторы: Арендаренко, Барышев, Иванютин, Лукичев, Макшаков, Овечкин

МПК: C30B 25/14

Метки: газовой, осаждения, слоев, фазы

...с экрана. попадают в растущий слой и снижают качество ео поверхности, выход годных структур,Целью изобретения является повышение выхода годных эпитаксиальных слоев.Указанная цель достигается тем, что устройство для осаждения слоев из газовой фазы, включающее размещенный на основании водоохлаждаемый колпак, дисковый подложкодержатель, установленный под :.:нм с воэможностью вращения и снабженный нагревателем, расположенные над подложкодержателем экран и торовый коллектор для подачи парогазовой смеси, и патрусок для удаления отработанных газов, размещенный в центре основания, снабжено средством ввода инертного газа и дополнительным коллектором, соединенным с этим средством, расположенным у боковой стенки колпака и выполненным с...

Устройство для осаждения пара в жидкую фазу

Загрузка...

Номер патента: 1832117

Опубликовано: 07.08.1993

Автор: Карташев

МПК: C02F 1/48

Метки: жидкую, осаждения, пара, фазу

...энергией, например, ВНпх = 2,1.10 гс.э, выполненные из сплава7СОБИР, т.е, являющимся "сверхмагнитом".(57) Сущность изобретен корпуса устройства выполн рического материала, а стенками являются и ные полюса магнита. нен в виде монолита, о из двух подковообразного чения цилиндрических маг ных друг к другу одноимен 1 ил. Устроиство осаждения пара работэетследующим образом.Пар пропускают по каналу 5 паропровода между полюсами 3 и 4 магнита, Кэстицы пара, проходя между магнитными полюсами, омагничиваются, поляризуются и осаждаются на полюсах магнита, где происходит слияние частиц, их укрупнение, с образованием кэпельной жидкости, которая под действием собственного веса стекает вниз в конденсатосборник (не изображен на чертеже). Скорость и...

Способ осаждения твердых взвесей из суспензии газоочистки производства алюминия

Загрузка...

Номер патента: 1834676

Опубликовано: 15.08.1993

Автор: Жулин

МПК: B01D 21/01

Метки: алюминия, взвесей, газоочистки, осаждения, производства, суспензии, твердых

...при щелочной обработке ди- Ос,эельного топлива, который также вводили всуспензию газоочистки в виде 0,4 - 1.Од-но чго раствора в количестве 0,3-100 мг/л,Результаты опытов приведены в табли- фце, из которой следует, что при использовании активированного продукта, получаемогопри щелочной обработке дизельного топлива по сравнению с продуктом, образующимся при щелочной обработке дизельноготоплива получены более высокие покаэате1834676 Результаты по осаждению частиц в суспензии газоочистки при добавках известного и предлагаемого флокулянтов,Лиси Заказ 2694 Тираж ВНИИПИ Государственного коми 113035, МоскПодписноетениям и открытиям приская наб,. 4/5 НТ СС а по изо Ж, Р эводственно-иэдательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101...

Реактор для осаждения слоев

Номер патента: 1321136

Опубликовано: 28.02.1994

Авторы: Брюхно, Жданов, Огнев, Сафронов

МПК: C30B 25/08

Метки: осаждения, реактор, слоев

РЕАКТОР ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ, включающий корпус с крышкой, подложкодержатель, средства ввода и вывода реагирующих компонентов газовой фазы, завихритель, отличающийся тем, что, с целью увеличения производительности реактора за счет сокращения времени на его очистку от продуктов реакции, упрощения формы реактора и уменьшения его габаритов, завихритель выполнен в виде съемного цилиндра, установленного в крышке соосно с подложкодержателем и имеющего диаметр не более наибольшего поперечного размера подложкодержателя, а средство вывода выполнено из нескольких патрубков с соплами для раздельной подачи реагирующих компонентов, причем оси сопл наклонены вниз и расположены таким образом, что их проекции на плоскость, проходящую через вертикальную ось...

Способ химического осаждения полупроводниковых пленок халькогенидов металлов

Загрузка...

Номер патента: 1766210

Опубликовано: 15.04.1994

Авторы: Дорофеева, Комов, Кричевская, Ленивкин, Ленивкина, Стольниц

МПК: H01L 21/268

Метки: металлов, осаждения, пленок, полупроводниковых, халькогенидов, химического

СПОСОБ ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛЕНОК ХАЛЬКОГЕНИДОВ МЕТАЛЛОВ, включающий размещение подложки в электролите на основе халькогенсодержащего соединения, нагрев электролита с подложкой до температуры осаждения, формирование на подложке центров кристаллизации, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости осаждения, улучшения электрофизических свойств и получения локальных пленок, формирование центров кристаллизации осуществляют одновременно с нагревом электролита и подложки путем импульсного лазерного облучения с длиной волны излучения из области поглощения молекул халькогенсодержащего соединения, плотностью мощности на подложке 104 - 107 Вт/см2, длительность импульсов 10-5 -...

Способ приготовления известково-серного отвара для осаждения цветных металлов

Номер патента: 1476921

Опубликовано: 15.04.1994

Авторы: Дмитриев, Евлаш, Короткова, Лаптев, Сиркис

МПК: C22B 3/44

Метки: известково-серного, металлов, осаждения, отвара, приготовления, цветных

1. СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ИЗВЕСТКОВО-СЕРНОГО ОТВАРА ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ЦВЕТНЫХ МЕТАЛЛОВ, включающий растворение серы в водной кальцийсодержащей щелочной смеси при повышенной температуре, отличающийся тем, что, с целью сохранения качества реагента при хранении и снижения затрат на его получение, растворение серы в водной кальцийсодержащей щелочной смеси ведут при 80 - 90oС с введением добавки органического вещества в количестве 0,05 - 1,5 г/л пульпы отвара.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве добавки органического вещества используют жидкое моторное топливо.3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве добавки органического вещества используют дизельное топливо.4. Способ по п. 1, отличающийся тем,...

Способ осаждения пленок в вакууме

Номер патента: 1584433

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Грицкевич, Зыль, Точицкий

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, осаждения, пленок

СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ, включающий испарение осаждаемого материала в тигле, инжекцию пара в вакуум с образованием кластеров, их ионизацию, ускорение и конденсацию на подложке, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей, перед инжекцией пара в вакуум внутреннюю полость тигля герметично соединяют с внутренней полостью замкнутой инжекционной камеры, затем внутреннюю полость тигля отсекают от инжекционной камеры и осуществляют сжатие пара.

Устройство для осаждения слоев из газовой фазы

Номер патента: 1580873

Опубликовано: 30.11.1994

Авторы: Колмакова, Сарнацкий

МПК: C23C 16/00

Метки: газовой, осаждения, слоев, фазы

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ, содержащее герметичную камеру с внешним нагревателем, подложкодержатель с горизонтальными дисками для размещения подложек и газовый ввод, расположенный по оси подложкодержателя, отличающееся тем, что, с целью повышения качества осаждаемых слоев за счет равномерности распределения газового потока, оно снабжено дополнительным подложкодержателем с приводом вращения и диском обтекателем, установленным на конце газового ввода, при этом дополнительный подложкодержатель выполнен в виде замкнутого стакана с дисками, смонтированными на внутренней поверхности стакана между дисками основного подложкодержателя с возможностью регулирования зазора между плоскостями смежных дисков, причем диски...

Устройство для химического осаждения покрытий из паровой фазы

Номер патента: 1513949

Опубликовано: 10.03.1995

Авторы: Гусев, Захаров, Костенков, Крашенинников, Усачев

МПК: C23C 16/00

Метки: осаждения, паровой, покрытий, фазы, химического

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ, содержащее горизонтальную камеру с размещенными в ней подложкодержателем, средствами ввода реагентов и отвода продуктов реакции, смонтированными соответственно в верхней и нижней частях камеры, нагреватель обрабатываемых изделий, привод поступательного перемещения подложкодержателя вдоль камеры относительно средств ввода реагентов и отвода продуктов реакции и привод вращения изделия, отличающееся тем, что, с целью повышения качества и производительности при нанесении покрытий на изделия цилиндрической формы, оно снабжено съемной рамкой с поперечными опорными дорожками, толкателем, смонтированным на направляющей, и кареткой, установленной в рамке с возможностью...

Устройство для осаждения покрытий из газовой (паровой) фазы

Номер патента: 1338451

Опубликовано: 10.03.1995

Авторы: Гусев, Костенков, Крашенинников, Тюгина, Чапля

МПК: C23C 16/00

Метки: газовой, осаждения, паровой, покрытий, фазы

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ГАЗОВОЙ (ПАРОВОЙ) ФАЗЫ на наружную поверхность цилиндрических изделий, содержащее горизонтальную цилиндрическую реакционную камеру, нагреватель изделия, подложкодержатель, патрубки для ввода исходного химсоединения и отвода продуктов реакции, расположенные соосно друг другу, и привод для вращения обрабатываемого изделия, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества покрытий и повышения эффективности процесса, оно снабжено ограничительной вставкой, установленной внутри реакционной камеры симметрично относительно патрубков и выполненной в виде двух кольцевых перегородок, жестко связанных радиальной перемычкой, расположенной под острым углом за вводным патрубком.2. Устройство по п.1,...

Электролит для осаждения покрытий из тугоплавких металлов и способ его приготовления

Номер патента: 1123321

Опубликовано: 27.05.1995

Авторы: Васько, Пацюк

МПК: C25D 3/54

Метки: металлов, осаждения, покрытий, приготовления, тугоплавких, электролит

1. Электролит для осаждения покрытий из тугоплавких металлов, преимущественно вольфрама или молибдена, содержащий нормальные вольфрамат или молибдат натрия, соединения аммония, фтора и воду, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости осаждения покрытий и снижения напряжения на ванне, в качестве соединений аммония и фтора он содержит гидрофторид аммония при следующем соотношении компонентов:Нормальный вольфрамат или нормальный молибдат натрия (в пересчете на тугоплавкий металл), г 1,5 20Гидрофторид аммония, г 70 250Вода, л До 12. Способ приготовления электролита для осаждения покрытий из тугоплавких металлов, включающий смешение водных растворов нормальных вольфрамата или молибдата натрия, соединений аммония и...

Способ измерения толщины слоев в процессе их осаждения

Номер патента: 1202461

Опубликовано: 25.07.1995

Авторы: Биленко, Ципоруха

МПК: H01L 21/66

Метки: осаждения, процессе, слоев, толщины

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ В ПРОЦЕССЕ ИХ ОСАЖДЕНИЯ, включающий регистрацию временной зависимости интенсивности собственного теплового монохроматического излучения образующейся структуры I(t) и определение толщины слоя по числу полупериодов этой зависимости и значению показателя преломления осаждаемого слоя, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и расширения класса контролируемых слоев, перед осаждением измеряют излучательную способность и интенсивность собственного теплового излучения нагретой до температуры процесса осаждения исходной структуры на длине волны монохроматического излучения и искомую величину определяют, используя вычисленный по следующей форме показатель преломления h:

Способ селективного осаждения многослойных металлических покрытий для интегральных схем

Номер патента: 1780458

Опубликовано: 20.09.1995

Автор: Кипарисов

МПК: H01L 21/28

Метки: интегральных, металлических, многослойных, осаждения, покрытий, селективного, схем

СПОСОБ СЕЛЕКТИВНОГО ОСАЖДЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ ДЛЯ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ на полупроводниковых пластинах из материалов группы AIII BIV, включающий химическую чистку и обработку пластин, нанесение на лицевую поверхность фоторезиста, формирование путем фотолитографии контактной маски, последовательное осаждение на вскрытый рисунок интегральных схем многослойной композиции металлов из водного раствора, содержащего палладий, и слоя золота, удаление маски, отличающийся тем, что с целью обеспечения качества металлизации рисунка с минимальными размерами элементов порядка микрона и увеличения толщины слоев, первый слой многослойной композиции выполнен из аморфного сплава...

Способ плазмохимического осаждения пленок фосфоросиликатного стекла

Загрузка...

Номер патента: 1795829

Опубликовано: 20.02.1996

Авторы: Кастрицкий, Козлов, Корешков, Красницкий, Турцевич, Химко

МПК: H01L 21/316

Метки: осаждения, плазмохимического, пленок, стекла, фосфоросиликатного

...более 2 ат. о, возрастает в 5 и более раз, что обуславливает улучшение пассивирующей способности пленки за счет повышения ее влагостойкости и повышение стойкости стекла к диффузии ионов металлов.Выбор отношения ингредиентов закись азота-аммиак при осаждении пленки ФСС сделан на основе экспериментальных результатов.При соотношении ингредиентов закись азота-аммиак менее 5 ухудшаются условия для введения фосфора в пленку, что обуславливает ухудшение качества ФСС из-за увеличения дефектности,При соотношении ингредиентов закись азота-аммиак более 25 ухудшается пассивирующая способность пленки из-за уменьшения количества азота в ней, что наряду с увеличением привносимой дефектности обуславливает ухудшение качества пленок ФСС.Возможность...

Электролит для осаждения сурьмы

Номер патента: 1220387

Опубликовано: 27.02.1996

Авторы: Захаров, Поветкин, Шиблева

МПК: C25D 3/54

Метки: осаждения, сурьмы, электролит

ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ СУРЬМЫ, содержащий треххлористую сурьму и комплексообразователь, отличающийся тем, что, с целью увеличения рассеивающей способности, коррозионной стойкости и повышения допустимых плотностей тока, он дополнительно содержит ОП-10 (полиэтиленгликолевый эфир высокомолекулярных алкилфенолов) и выравниватель А (бензолсульфат метилдиэтиламинометилполигликолевого эфира алкилфенола), а в качестве комплексообразователя - трилон Б (динатриевая соль этилендиаминтетрауксусной кислоты) при следующем соотношении компонентов, г/л:Треххлористая сурьма - 50 - 70Трилон Б - 20 - 30ОП-10 - 3,5 - 4,5Выравниватель А - 1,5 - 2,5

Способ локального осаждения сплава олово-свинец на металлизированную медью диэлектрическую подложку

Загрузка...

Номер патента: 1805826

Опубликовано: 10.04.1996

Авторы: Виноградов, Чубаров

МПК: H05K 3/18

Метки: диэлектрическую, локального, медью, металлизированную, олово-свинец, осаждения, подложку, сплава

...применим для процесса образования слоя метзллореэиста, в частности слоя сплава олово-свинец при производстве печатных плат, а также при изготовлении полупроводниковых приборов и микросборок.П р и м е р, Реализуют предлагаемыйспособ на подложках из фольгировзнного медью стеклотекстолитз СФ-35/1,5 ситалла и поликора с напыленным слоем меди толщиной 5 мкм.Предварительно нз свободные от формируемой электрической схемы места под ложки напаивался активатор - несколько (1-4) технологических "капель" активирую- щего металла произвольной формы и раэме 1805826 4ров, Затем подложка погружалась в ванну с рзствором следующего состава, г/л:Борфтористое олово 15 Борфтористый свинец 95 Борфтористая кислота 260Борнэя кислота 20 - 30 Вода До 1 л Ванна...

Суспензия для электрофоретического осаждения диэлектрических покрытий

Номер патента: 1610939

Опубликовано: 27.04.1996

Авторы: Гроссман, Зайдман, Караваева

МПК: C25D 13/02

Метки: диэлектрических, осаждения, покрытий, суспензия, электрофоретического

СУСПЕНЗИЯ ДЛЯ ЭЛЕКТРОФОРЕТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ на металлические изделия, содержащая ситаллоцемент системы BaO MgO - B2O3 SiO2, азотнокислый алюминий и изобутиловый спирт, отличающаяся тем, что, с целью уменьшения разнотолщинности покрытий, улучшения их электроизоляционных свойств и расширения технологических возможностей, она содержит компоненты при следующем соотношении, мас.Ситаллоцемент системы BaO MgO B2O3 SiO2 2,5 - 3,5Алюминий азотнокислый (девятиводный) 0,003 0,009Изобутиловый спирт Остальное

Парогазовая смесь для осаждения вольфрама на кремний

Загрузка...

Номер патента: 1823712

Опубликовано: 27.04.1996

Авторы: Андреев, Красницкий, Сарычев, Сасновский, Трубинова, Турцевич

МПК: H01L 21/285

Метки: вольфрама, кремний, осаждения, парогазовая, смесь

...закорачивающих перемычек, реализуется воэможность получения шунтирующих слоевтребуемой толщины 0,15 - 0,2 мкм,При содержании гексафторида молибдена в парогазовой смеси менее 0,5 об,0 неудается сформировать шунтирующие слоивольфрама требуемого качества и с необходимыми характеристиками из-за самоограничения реакции восстановления ЮР 6кремнием,При содержании гексафторида молибдена в парогазовой смеси более 20 об. рес.ция становится трудноконтролируемой,снижается качество шунтирующих слоев засчет ухудшения адгезии. Кроме того, увеличивается количество зародышей и, следовательно, ухудшается селективность осаждения.Таким образом, эа счет повышения селективности процесса, исключения самоограничения реакции восстановлениягексафторида...

Способ осаждения пленок поликристаллического кремния

Загрузка...

Номер патента: 1814468

Опубликовано: 10.08.1996

Авторы: Кравцов, Лесникова, Макаревич, Сарычев, Турцевич

МПК: H01L 21/205

Метки: кремния, осаждения, пленок, поликристаллического

...трудоемкость из-за необходимости изменения температуры при доращивании. При отжиге подслоя при температуре выше 650 С, давлении более 13,3 Па, времени более 1 мин при соотношении %Р -инертный газ более 1:20 происходит полное потребление 81 из зародьппа на восстановление %Р что впоследствии затрудняет процесс формирования рельефного микрорисунка в нихележащих слоях без масочным травлением и появляются отклонения от куполообразной формы зерен при доращивании, Кроме того, увеличивается трудоемкость процесса из-за необходимости изменения температуры при доращивании,П р и м е р. Осахдение пленок поликристаллического кремния осуществляли5 1814468 на установке Изотрон 4-150 с горизонтальным трубчатым реактором с горячими стенками,...

Устройство для химического осаждения пленок из газовой фазы

Загрузка...

Номер патента: 1811217

Опубликовано: 20.08.1996

Авторы: Кисель, Красницкий, Петрашкевич, Сахон, Турцевич, Шкуть

МПК: C23C 16/00

Метки: газовой, осаждения, пленок, фазы, химического

...паров воды и кислорода вреактор, возрастания неконтролируемогослоя двуокиси кремния и снижения качестваосаждаемых пленок нитрида кремния.При длине корпуса более 5 диаметровреактора не наблюдается дальнейшего улучшения качества осаждаемых пленок нитридакремния при увеличении габаритов установки.При высоте корпуса менее 2 диаметровреактора затруднена загрузка в реактор припомощи автоматизированных систем и обслуживание шлюзовой камеры.При высоте корпуса более 3 диаметровреакторов снижается эффективность затвораиз-за облегчения попадания паров воды икислорода в реакционное пространство и,следовательно, снижается качество нитридакремния, То, что шлюзовая камера выполнена высотой 2-3 диаметра реактора, позволяет...

Способ осаждения радиоактивных изотопов из воздушной среды

Номер патента: 1748557

Опубликовано: 27.10.1997

Авторы: Вершинин, Герасименя, Купаев

МПК: G21F 9/02

Метки: воздушной, изотопов, осаждения, радиоактивных, среды

Способ осаждения радиоактивных изотопов из воздушной среды, включающий создание над разрушенным ядерным энергетическим реактором АЭС аэрозольного облака из капель воды, отличающийся тем, что, с целью повышения вымывающей способности и скорости осаждения радиоактивных частиц аэрозольными образованиями из воздушной среды путем сокращения времени существования аэрозольного облака направленным принудительным перемещением аэрозольных частиц в атмосфере, над ядерным энергетическим реактором создают аэрозольное облако из капель воды с диаметром частиц 0,01 0,2 мм, на которое дополнительно воздействуют СВЧ-излучением с двумя электромагнитными полями одинаковой частоты и с начальными фазами, отличающимися: для положительно заряженных частиц на

Способ электрохимического осаждения трансплутониевого элемента

Номер патента: 1104918

Опубликовано: 27.06.1998

Авторы: Беркутов, Владимирова, Карасев, Карелин, Медведев

МПК: C25C 1/22

Метки: осаждения, трансплутониевого, электрохимического, элемента

Способ электрохимического осаждения трансплутониевого элемента из содержащего его материала, включающий обработку исходного материала азотной кислотой, введение в полученную смесь изобутилового спирта и осаждение из полученного раствора трансплутониевого элемента при наложении электрического тока на подложку из металлов платиновой группы, отличающийся тем, что, с целью повышения полноты осаждения и увеличения содержания трансплутониевого элемента в осадке, осаждение ведут при объемном соотношении изобутилового спирта и азотной кислоты 15-18:1 при кислотности раствора 2 10-2-3,5 10-2 моль/л.

Электролит для осаждения покрытий сплавом олово-висмут

Номер патента: 1556144

Опубликовано: 27.06.1999

Авторы: Галушкин, Куликов, Мещерякова, Пашков

МПК: C25D 3/60

Метки: олово-висмут, осаждения, покрытий, сплавом, электролит

Электролит для осаждения покрытий сплавом олово-висмут, содержащий двухлористое олово, сернокислый висмут, хлористый натрий, гидроокись аммония, соляную кислоту и поверхностно-активное вещество, отличающийся тем, что, с целью повышения рассеивающей способности, он дополнительно содержит фтористый аммоний, трилон Б, полиэтиленполиамин, а в качестве поверхностно-активного вещества - препарат ОС-20 при следующем соотношении компонентов, г/л:Двухлористое олово - 50 - 60Сернокислый висмут - 4 - 5Хлористый натрий - 5 - 7Фтористый аммоний - 50 - 60Трилон Б - 35 - 40Полиэтиленполиамин - 2 - 4Препарат ОС-20 - 8 - 10Гидроокись аммония (25%-ный раствор),...

Электролит для осаждения оксидных цезий-вольфрамовых бронз

Номер патента: 1114084

Опубликовано: 27.06.1999

Авторы: Арбуханова, Барабошкин, Бутримов, Гасаналиев, Калиев

МПК: C25B 1/00, C25D 3/66

Метки: бронз, оксидных, осаждения, цезий-вольфрамовых, электролит

Электролит для осаждения оксидных цезий-вольфрамовых бронз, содержащий триоксид вольфрама и вольфрамат цезия, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода по току и чистоты бронз, электролит дополнительно содержит хлорид цезия при следующем соотношении компонентов, мас.%:Триоксид вольфрама - 30 - 60Вольфрамат цезия - 30 - 50Хлорид цезия - 10 - 20