C25D 3/66 — из расплавов

Номер патента: 3568

Опубликовано: 30.06.1928

Автор: Ван

МПК: C25C 3/34, C25D 3/54, C25D 3/66, C25D 5/10 ...

Метки: вольфрамом, покрытия, посредством, расплавленных, солей, тел, электролиза

...%0 з может вызватьотделение вольфрамовых бронз,содержащих меньше кислорода, чемвольфраматы и соответствующих,общей формуле рХО+п%0,. - пО.Эти вольфрамовые бронзы обра-зуются иногда даже при избытке%ОЗ, составляющем лишь 5 И Ка-тод, на котором осаждается вольфрам, может представлять однокристальное вольфрамовое тело, В такомслучае, как оказалось, тело продолжает расти и дальше, как одно-:кристальное тело. Для этого приэлектролизе однокристальную проволоку, однокристальные стержнииз вольфрама и т, и. предметы включают, в виде катода против анода,который совершенно или почтисовершенно окружает катод. Подобный анод может иметь, например,форму цилиндра или же может состоять из стерженьков, располагаемых параллельно друг другу, поформе...

Номер патента: 30054

Опубликовано: 30.04.1933

Авторы: Грацианский, Плотников, Фортунатов

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамом, гальванического, другими, металлами, металлов, покрытия

...на две группы: 1) покрытие расплавленными металлами, например, получение белой жести, или покрытие распыленным металлом, как например, способ Шоппа, и проч 2) гальваническое покрытие металла (например, никеллирование, хромирование, серебрение и проч.).Эти способы не позволяют покрывать поверхности металлами, имеющими или высокую температуру плавления при первом способе, или не поддающимися хорошему гальваническому осаждению при втором способе. Покрытие же этими металлами могло бы дать много преимуществ в виду их большой стойкости.(т 7) хлорида алюминия и хлорида натрия, помещается для получения коллоидального раствора металл, идущий на по- крытие. При нагревании металлы образуют коллоидальный раствор в расплавленной смеси солей. По...

Номер патента: 173087

Опубликовано: 01.01.1965

Авторы: Быкова, Городыский, Делимарский

МПК: C25D 3/66

Метки: кадмирования, электролитического

...ния наводораживания и получени повышенной вязкостью и прочнос ния с основным металлом, осажд водят из расплава хлоридов кадм при плотностях тока примерно 1 температуре 420 в 4 С. мирования, едотвр ашеосадков с ью сцепление произя и натрия 00 а/дм и Лодписн арпа20 Наводораживание, неизбежно сопровождаюшее электролитическое осаждение кадмия из водных растворов, вызывает в покрытиях хрупкость, пористость, вздутия и отслаивание осадка.Покрытия, получаемые по предлагаемому способу электролитического кадмирования из солевых расплавов, практически не содержат включений водорода и отличаются повышечной пластичностью, отсутствием пор и высоким сцеплением с основным металлом.Кадмий осаждают из расплава, содержашего б 7 вес. ч. безводного...

Номер патента: 178257

Опубликовано: 01.01.1966

Авторы: Делимарский, Макоп, Четвериков

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминированияметаллов, электрохимический

...железа и марганца, оказывающими положительное влияние на кристаллизацию алюминия на покрываемой поверхности,Создание над зеркалом электролита защитной инертной атмосферы (азот, аргон) устраняет взрывоопасность восстановительной атмосферы данного процесса, повышает стабильность работы электролита, положительно влияет на качество получаемых покрытий. Электрохимический процесс алюминирования металлов ведут при Д = 3 - 5 адме и 150 - 200 С с одновременным использованием двух видов анодов (основных и вспомогатель ных), с дифференцированным подводом токак ним.Основной анод - ательные аноды - свмарганец,0 Электролиз ведут из солевого расплавахлористого алюминия и хлористого натрия с отношением 2; 1.Технологическая схема...

Номер патента: 195279

Опубликовано: 01.01.1967

Авторы: Такова, Трусова, Чижиков

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамового, нанесения, покрытия, расплава, электролизом

...лк, а го проведения электро зачисткой катода путе аботки наждачной бум П редм ет зооретснн нанесения зом из ра ью сннже получения ытня на храсплава амат натри тый натрий слый натр и при 850 - О,б - 0,8 а/с Известны способы получения вольфрамовых покрытий на никеле и кобальте путем электролиза ра сплавов прн температуре выше 1000= С,Для снижения температуры расплава и по лучения вольфрамового покрытия на меди хорошего качества предлагается осаждение вольфрама вести из расплава следующего состава (в вес. % ):вольфрамат натрия 20 - 21,5 10 хлористый натрий 78,5 - 80 углекислый натрий (безводный) 0,5 - 1,5% веса смеси при 850 - 900" С и катодной плотности тока О,б 0,8 ис.нз в атмосфере инертного газа, 15Добавка углекислого натрия...

Номер патента: 234812

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Березанский, Быховский

МПК: C25D 3/66, C25D 5/00

Метки: оплавления, осадковолова, электролитических

...с наложением потенциала, величина которого составляет 5,3 - 5,5 в при отношении площади анода к площади катода 4: 1.Способ заключается в том, что к электролитически луженой жести, помещенной в расплав хлоридов лития и калия эвтектического состава, прикладывают потенциал, близкий к потенциалу нулевого заряда железа в электролите - флюсе. Вспомогательным электродом-анодом служит пластинка с сильно развитой поверхностью, например из графита, губчатого тантала или ниобия. Величина приложенного потенциала определяется соотношением площадей электродов. Так, при отношеиода к площади катода 4: 1 сенного потенциала составляет нии площади авеличина прилон5,3 - 5,5 в,Под действиемежфазные энеся так, что сущние поверхностбугорчатость...

Номер патента: 238984

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Андреев, Елютин, Колобов, Лысов, Ордена, Снлавов

МПК: C25D 3/66

Метки: покрытия, расплава, титанового, электролизом

...электролитического осаждения сплава применяют электролизер, выполненный из нержавеющей стали.Исходный расплав состоит из низших хлоридов титана и ванадия. Его готовят путем выдержки солевой смеси низших хлоридов ванадия (или титана) и хлоридов щелочных и (или) щелочноземельных металлов. Концентрация хлоридов ванадия или титана составляет 2 - 7 вес, % в пересчете яа металл, Этот исходный расплав выдерживают в стальном тигле в течение 8 - 12 час при 900 С в атмосфере аргона в контакте с измельченным до крупности "-5 мм анодным сплавом титана с ванадием. Длительная выдержка обеспечивает установление равновесия между низшими хлоридами титана и,ванадия с одной стороны и сплавом титан - ванадий с другой. В зависимости от нужного состава...

Номер патента: 264282

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Акио, Лкира, Хидейо, Чикайоси, Япони

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминием, покрытия, расплава, электролитического

...землю, сажу, частицы алюмогеля, окиси алюминия, стекла, волокна стекла, асбест, порошок анортита, сульфат кальция, шпат (в виде муки), зеолит, кислую глину и пемзу, Обезвоживающее вещество поступает на поверхность электролита или в электролит в отдельности или в сочетании.П р и м е р 1. 30 г кварцевого песка, полученного путем нагрева его в вакууме с помощью электронной бомбардировки и достаточно обезвоженного, вводят в 1 л (1,7 кг) плавленой гальванической ванны, состоящей из 60 моль, ф хлористого алюминия и 40 моль. ф хлористого натрия, которая имеет дендритный алюминий. После введения кварцевого песка гальванизационная способность постепенно восстанавливается, пока на стальной пластине неполучают плотное алюминиевое покрытие...

Номер патента: 272204

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Акнго, Иностранна, Иностранцы, Хидеио, Чикайоси

МПК: C25D 3/66, C25D 5/00

Метки: 272204

...алюминиевые пластинки размером 200 Х 100 Х мм каждая.Вокруг стальной пластины располагают дополнительный платиновый анод в виде спирали с диаметром проволоки 0,5 лы ц длиной 20 дм. Через ванну пропускают газообразный хлористый водород со скоростью 80 - 100 с,ямин, катодная плотность тока составляет 2 а/дл-, Между покрываемой стальной пластиной и дополнительным анодом пропускают переменный ток напряжением 3 в.В этом случае покрытие получается плотным ц однородным толщиной до 70 мк.Тот ие эффект может быть достигут, если 15 поверхность основного анода уменьшить доотношения аподной поверхности к катодной 1: 10. В этом случае резко возрастает анодная плотность тока, что способствует окислению ионов алюминия низшей валентности, 20...

Номер патента: 281101

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Максимчук, Маслова, Рой

МПК: C25D 3/66

Метки: tfihn4lt, влтвитйо, •"«10

...для электролитического ци иков ания, содержащий хлор истый цинк, хлористый калий и хлористый алюминий.Предложенный расплав отличается от известного введением в состав расплава хлористого натрия, что снижает температуру расплава и покрытия на высокопрочные стали наносят без ухудшения их механических свойств.Предложенный расплав имеет следующий состав (в мол. %):Хлористый цинк 58 - 64 Хлористый калий 16 - 18 Хлористый алюминий 4 - 6 Хлористый натрий 16 - 18 Индивидуальные соли предварительно обезвоживают при температуре 250 С в течение 2 - 3 час, затем составляют смесь и сплавляют ее. Электролиз ведут при 240 - 260 С и плотности тока 100 - 200 а/длт-. Анодами служатцинковые пластины,5 Расплав отличается высокой рассеивающейспособностью...

Номер патента: 281987

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Куйбышевский, Мышалов, Човнык

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминия, осаждения, основе, покрытия, электролитического

...относится к области электролитического нанесения металлических покрытий из расплавов, в частности к областиэлектролитического нанесения покрытий наоснове алюминия.Известен способ электр олитического нанесения покрытий на основе алюминия из расплава хлоридов алюминия и натрия в присутствии ионов железа,Предложенный способ отличается от известного тем, что применяют расплав эквимолекулярной смеси хлоридов алюминия и натрия,и процесс ведут при 200 в 3 С и плотноститока 0,2 - 0,35 а/дм-, что позволяет получитьпокрытие сплавом железо - алюминий.Способ заключается в следующем.Осаждение сплава железо - алюминий осуществляют из расплава, содержащего50 мол. % хлористого алюминия и 50 мол, %хлористого натра в присутствии ионов железа,...

Номер патента: 313901

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Ивановский, Котелевский, Раскин, Самсон

МПК: C25D 3/66

Метки: ванадиевыхпокрытий, осаждения, электрохимический

...бес- олщиной Предмет из о тения Изобретение относится к области получения электрохимических покрытий, в частности к области осаждения ванадия из расплава.Известен способ электрохимического осаждения ванадия из расплава, содержащего хло ристые соли щелочных металлов и ванадия. Однако расплав для получения ванадиевых покрытий имеет высокую температуру, что оказывает влияние на качество получаемого покрытия. 10Предложенный способ отличается от известного тем, что с целью улучшения качества покрытия и снижения температуры расплава в электролит вводят галогениды щелочноземельных металлов, а в качестве соли вана дия 5 - 9 вес. % дибромида ванадия, Процесс ведут при температуре 360 в 6 С, катодной плотности тока 0,001 - 0,5 а/см, Процесс...

Номер патента: 341870

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Востр, Институт, Курганский, Ленинских, Манаков, Пат

МПК: C25D 3/66

Метки: хромирования, электролитического

...абра2 час осаждения лизом установленомерно по всей ина покрытия за рдость 360 кг/млтз ким ана ился ра ца. Толп Омк, тв ти нанесе олитического инение хрогрессивнь что сто ольше, че я от из ись каль я, а в ка рома,10 - 0,1 30 - 40 30 - 40 остальное чивает новь Предм обретени омирова- герметиче ар гона а 01 а/слтз 3,0 38,8 38,8 19,4 Изобретение относится к обласпокрытий, в частности хромовых,Известен расплав для электрхромирования, содержащий соедма.Предлагаемый расплав отличаетсвестного тем, что в него введены окция, окись кремния, окись алюминичестве соединения хрома - окись хРасплав содержит (вес. %):Окись хромаОкись кальцияОкись кремнияОкись алюминияПредлагаемый расплав обеспешение качества покрытия.П р и м е р. Электролитическое хние...

Номер патента: 406960

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Такова, Трусова, Чижиков

МПК: C25D 3/66

Метки: ренирования, электрохимического

...толщиной 45 мкмэтом составляет 70%.женному способу осаждаюктные осадки рения, то Изобретение относится к области эл химического осаждения покрытий, в ч сти, к электрохимическому осаждению Известен способ электрохимического рования. Для получения плотных, компактн ков предлагается способ, по которов гролиз ведут из расплава, содер вес. %: Хлорид щелочного металла 80 Перренат калия 5 и процесс ведут при 800 в 9 С,плотности тока 0,25 - 1,5 а/см. Аноды растворимые или нерастворим Катоды: медь, вольфрам, молибден. При осаждении рения на медь элек необходимо вести в атмосфере инертног Так, например, при электролизе рас содержащего 95 вес. % хлорида калия, 5и плот- анодом т плот- , выход ектро- астнор ения. рениперрената кности токаза...

Номер патента: 379674

Опубликовано: 01.01.1973

Автор: Авторы

МПК: C25D 3/66

Метки: нанесения, покрытий, титановых

...покрытие получают путем электролиза из расплава, содержащего наиболее легкоплавкую эвтектическую смесь хлоридов металлов, выбранных из группы, включающей щелочной и щелочноземельный метал лы, и 5 - 10 вес. о/, низшего хлорида титана. Процесс проводят при 380 - 400 С и катодной плотности 0,03 - 0,2 а/см в атмосфере аргона при использовании растворимого анода из титана марки ВТ - 1. 30 ИТАНОВЫХ ПОКРЫТИЙ Наиболее легкоплавкимисмесями хлоридов щелочныхмельных металлов, являются,си, содержащие, мол. %:Хлористый калийХлористый литийХлористый калий11 Хлористый натрийХлористый магний П р и м е р, На малоуглерод ленту осаждают электролит покрытие из расплава, содер ческую смесь хлоридов ка 3 вес. /о (в пересчете на м хлорида титана. Процесс...

Номер патента: 502979

Опубликовано: 15.02.1976

Авторы: Барабошкин, Куранов, Пальгуев, Салтыкова, Сюткин, Тимофеев

МПК: C25D 3/66

Метки: иридия, осаждения, электрохимического

...способ отличается от известного тем, что над расплавом поддерживают атмосферу хлора при парциальном давлении 0,001 - 1 атм.Указанное отличие обеспечивает повышение качества покрытий и стабильности процесили при нерастворимом аноде за счет взаимодействия иридиевого скрапа, введегпюго в расплав, с растворенным хлором, В качестве материала ванны используют кварц, керамические оксцдные материалы (алунд, фарфор, окись бериллия и т. п.) или углеродистые материалы (графит, стеклоуглсрод). Токоподводы к катоду и аноду и нерастворимый цод делают цз углеродистых материалов.Предложенный способ обеспечивает получение иридиевых покрытий толщиной до нескольких миллиметров. Выход по току в расчете на иридий составляет 60 - 70%. Микротвердость покрытий...

Номер патента: 528357

Опубликовано: 15.09.1976

Авторы: Барабошкин, Бычин, Виноградов-Жабров

МПК: C25D 3/66

Метки: нанесения, покрытий, расплав, рениевых, электрохимического

...7,60 3,80 3001805,70 38,0 44,0 18,6 19,8 72,0 53,0 71,0 75,0 850 900 850 800 31,660,0800 Формула изобретения Составитель А. Рычагов Техред М. СеменовРедактор Н. Корченко Заказ 1845/3 Изд.1574 Тираж 1068 Подписное Ц 1-1 ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, К, Раушская наб., д, 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 окиси вольфрама. Смесь солей весом 400 г загружают в алундовый тигель6 и нагревают до 800 С со скоростью 50 град/ч. Для очистки расплава от примесей приводят предэлектролиз с вольфрамовыми электродами в течение 20 ч при катодной плотности тока 0,1 Л/см. Расплав считают чистым, когда на катоде выделяется ровный, блестящий металлический осадок. После этого из расплава...

Номер патента: 538063

Опубликовано: 05.12.1976

Авторы: Грищенко, Зарубицкая, Новицкая

МПК: C25D 3/66

Метки: осаждения, основе, покрытий, расплав, свинца, электрохимического

...натрий может быть м калием 2. о данньп 1 расплав не обеспечив качественных свинцово- оловяботе, в частности отсутили помутнение после сле хранения закристалкрытых емкостях в тегоден к работе. Расплав я, так как состав электзменяется, а катодное538063 Формула изобретения Составитель А, РычаловРедактор Л,Жаворонкова Техред М. Ликович Корректор Б.Югас Тираж 1061 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб д. 4/5Заказ 5680/17 филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул, Проектная, 4 Рассеивающая способность электролита 80 - 90,выход по току составляет 90 - 96%,Предложенный расплав обеспечивает скоростьосаждения 4,5 - 12,0 мкм/мин. Получаемые покрытия имеют не...

Номер патента: 565079

Опубликовано: 15.07.1977

Авторы: Богданович, Делимарский, Павленко, Сарнавский, Туманова, Четвериков

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминирования, электролит

...много раз уменьшает степень испарения электролита, тогда как при раздельном присутствии в электролите этих веществ подобный эффект не достигается. Процесс алюминирования осущпостоянном токе при равенствеанодной плотностей тока в и15 12 А/дм или на переменном1 - 5а 2 - 30и температуре 140этом покрытия можно наноситьметаллы.20 Примеры практического испо электролита приведены в таблице. случаях процесс осуществляют при плотности тока 3 А/дм и температ в течение 30 мин, Степень блеска на приборе ФБпо отношению к з поверхности, степень блеска котор мают за 100%. Катод - стальная анод - алюминий.АС1 чаС 1Мочевинар-нафтиламин 6534,74 0,06 0,2 0,23 А 1 С 1 зч аС 1Мочевина8-нафтиламин 6534,54 0,06 0,4 66 0,076 6534,34 0,06 0,6 А 1...

Номер патента: 569665

Опубликовано: 25.08.1977

Авторы: Багрий, Белецкий, Городыский, Делимарский, Каздобин, Шваб

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминирования, электролит

...иэ электролита-расплава следующего состава, вес. %;АЮСо 70Р 1 тСЕ, 1Ео СВ 0,0016 н И Остальное.оПроцесс осуществляют при 175 С.и/2плотности тока 2,5 а/дм в течение 0,5 час,В результате лолучаюг мелкокрисгаллическое алюминиевое покрытие, толщиной15 мкм, которое имеет микротвердость37 кг/мм и легче подвергается полировкепо сравнению с покрытием, полученным изизвестного состава электролита в тех жеусловиях,П р и м е р 2. Алюминиевое покрытиенаносят из электролита, имеющего состав,как в примере 1, но отличающегося кощетеб ф о. р м у л а и з о б р е т е н и я 56966трацией хлорида европия, ктря составляет 1,0,весЛ;При тех же условиях электролиза получают полублестящее, хорошо полируемоеалюминиевое покрытие с микроотвердостью47 кг/мм а,П р и...

Номер патента: 583210

Опубликовано: 05.12.1977

Авторы: Абдуллаев, Алекперов, Алиярова, Искендеров, Кажлаева

МПК: C25D 3/66

Метки: меди, расплав, сплавов, электроосаждения

...проводят в кварцевом электролизе с анодом из графита, прокаленного при температуре 300-350 С. Катодом служит оксидированный алюминий. Температура расплава 450 С,Осадки сплава толщиной до 25 мкм могут быть получены при плотности тока 10-15 мА/сма в течение 3-10 мин,П р и м е р 1. Из расплава, содержащего, вес.а;Двухлористая медь 50Двуокись селена 25Хлористый литий 25при плотности тока 10 мА/сма в течение 5 мин осаждают покрытия толщиной 10 мкм.58 32 10 иСЕ,57 8 ф 02 Си,5 ЗЕ Сив 5 е 44 48,1 Зе 43,3 0,8 Си, й СЕе 10 - 25 47,9 5 55,8 СЕ - 25 е 44,4,9 57,2 2 и,т бЕ 42,Си 15 ЗЕ 02 - 20 Е.1 СЕ - 20 3 Си Зе 4,0 б,О 8,9 15 61,1 и П р и и е р 2. Для получения осадков толщиной 26 мкм в течение 7 мнн при плотчости тока 10 мА/см используют...

Номер патента: 598968

Опубликовано: 25.03.1978

Авторы: Балихин, Павловский, Резниченко

МПК: C25D 3/66

Метки: нанесения, никелевого, покрытия

...хлоридов щелочных металлов берут хлориды натрия и калия прн их отношени к двухлористому никелю 100:(3-15), а процесс осуществляют при 750-850 фС и катодной плотности тока 0,0050,1 а/сме.Для приготовления электролита используют,обЕзвоженные, предпочтительно переплавленные и раздробленные, исходные соли. В соответствии с заданным составом электролита (двухлористый никель - 3-15 масс.Ъ, и эквимолекулярная смесь хлоридов натрия и калия остальное), навескн солей перемешивают и загружают в электролизную ванну, состоящую иэ обогреваемой реторты, никелевого нли графитового стакана с встроенным никелевым анопом и герметичной верхней крыакой с набором катодов, на которых крепят изделия. Плавленые электролита ведут в атмосфере инертного газа...

Номер патента: 632757

Опубликовано: 15.11.1978

Авторы: Багрий, Белинский, Богданович, Городыский, Делимарский, Павленко, Четвериков, Шваб

МПК: C25D 3/66

Метки: лужения, расплав, электрохимического

...расплав отличается от известного тем, что, с целью интснсиФикации процесса и повышения степени блеска покрытия, он дополнительно содержит хлориды никеля и аммония при следующем соотношении компонентов, вес.Ъ:Хлорид олова 60-80Хлорид никеля 0,001-0,1Хлорид аммония 0,001-0,5Хлорид щелочногометалла ОстальноеПри этом в качестве хлорида целочного металла расплав содержит хлорид натрия или хлорид калия.Процесс лужения рекомендуют проводить при температуре 250-350 С и катодной плотности тока 50-700 А/дм" с использованием жидких оловянных анодов. Расплав готовят сплавлением хлоридов олова и щелочного металла, а затем в полученный расплав добавляют хлориды никеля и аммония, Расплав стабилен в работе.632757 осадков олова требуемой толщины...

Номер патента: 639968

Опубликовано: 30.12.1978

Авторы: Бойко, Вальский, Делимарский, Остапущенко, Павленко, Сарнавский, Туманова, Четвериков

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминий-цинк, расплав, сплавов, электроосаждения

...его содержания наблюдается ухудшение процесса кристаллизации и снижение адгезии по крытий. Кроме того, скорость осаждения сплавов не превышает 0,3 мкм/мин.Предложенный расплав отличается от П, Г. Остапущенко,вериков, Н. Х. Тумановайи АН Украинской ССРсанитарной техникиоружений639968 Снижение концентрации хлористого празеодима в расплаве до 0,0008% приводит к снижению адгезии покрытий, а также к уменьшению их блеска - покрытия матовые. Увеличение концентрации хлористого празеодима более 0,1% также снижает адгезию покрытий. Влияние концентрации хлористого пра.зеодима на содержание цинка в покрытии, скорость осаядения, степень блеска и качество покрытий показано в таблице 5 (плотность тока 8 А/дм, температура175 С). Состав...

Номер патента: 639969

Опубликовано: 30.12.1978

Авторы: Делимарский, Сарнавский, Туманова

МПК: C25D 3/66

Метки: медных, покрытий, расплава, электроосаждения

...термическое разложение мочевины, Оптимальная температура осаждения - 180 С.Расплав стабилен в течение 35 - 40 ч при непрерывной работе. В качестве катода может быть использована нержавеющая сталь, например, 2 Х 13, ЗП 578, сталь 08 КП и никель. Расплав готовят из подсушенной мочевины. Предварительная проработка расплава не требуется.Пример. Компактные мелкокристаллические покрытия на подложке из стали 08 КП получают в интервале плотностей тока 0,1 - 8,0 А/дм, как это показано в табл.1, Осаждение осуществляют в расплаве мочевины при 180 С.Как видно из данных табл. 1, повышение плотности тока более 8 А/дмз снижает выход по току и скорость осаждения, а также приводит к получению более шероховатых покрытий,Влияние температуры расплава при...

Номер патента: 647359

Опубликовано: 15.02.1979

Авторы: Барабошкин, Виноградов-Жабров, Молчанов

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамовых, покрытий

...Приоритет Изобретение относится к областизлектролитического получения покрытий иэ расплавов солеи, в частности кполучению вольфрамовых покрытий.Известен способ получения вольфрамовых покрытий электролизом хлоридно-вольфраматных расплавов при катодных плотностях тока 0,05-0,3 А/сми температурах 900-1050 С 11 .Наиболее близким к описываемомуизобретению является способ получения вольфрамовых покрытий электролизом расплава, содержащего хлоридвольфрама и хлорид цезия, итодной плотности тока 0,02 и температуре 750-800 С 12),Однако известные способы не и ээволяют получать покрытия с текстурой110 и полученные покрытияимеют текстуру111,Предложенный способ отличаетсяот известного температурой процессаи определенным соотношением температуры и...

Номер патента: 647360

Опубликовано: 15.02.1979

Авторы: Барабошкин, Бычин, Заворохин, Косихин, Тарасова

МПК: C25D 3/66

Метки: молибдена, расплав, электроосаждения

...ацодцая плотность тока 0,05 - 0,005 А/см, 15 При содержании трехокиси молибДена в расплаве менее 0,5% на катоде образуется порошкообразць 1 й осадок, а при содержании МоО, в расплаае более 2% на катоде осаждаются окислы молибдена.расплав готовят путем сплавления воль. фрамата щелочцого металла и окиси молцб. дена в алуцдовом тигле чрн 850 С, после чего его подвергают очистному электролизу ц 1 ечецие 6 - 0 ч прц плотности тока 0,5 А/см,147360 Форму,га тооретения Остальное Состава елв Е. КВас(тта Редактор 1. Нозожигива Техед О. Луговаи Корр ктор Т, ВаиковиЗаказ 25 З/24и)а)к 7 В1 г)ЛписиоР ЦНИ 4 ПИ Государствеииого комитета г;С(:Р по делам изобреейиг и открвпий 3 3035, Москва, Ж-,5, Раушскаи и во., д. 4/5 Филиал ППП Патеггта, г....

Номер патента: 663764

Опубликовано: 25.05.1979

Авторы: Барабошкин, Бычин, Заворохин, Косихин

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамовых, покрытий, расплав, электроосаждения

...видно, что при использовании предлагаемого расплава осаждение можно осуществлять не толькопри более низкой температуре, но ипри более высоких плотностях тока,что позволяет вести процесс болееинтенсивно.5уменьшение содержания трехокисивольфрама в расплаве ниже 20 при-водит к понижению предельного токавыделения вольфрама, а при увеличенииее содержания более 33 на катоденачинается образованиЕ Вольфрамовыхбронз,При содержании окиси цинка в расплаве менее 14 Ъ на катоде также начинают соосаждаться совместно с воль фрамом вольфрамовые бронзы. Повышение содержания окиси цинка в расплаве приводит к повышению температурыплавления расплава, что технологически нецелесообразно. 20Параметр решетки осадков, полученных в расплаве при условиях,...

Номер патента: 670639

Опубликовано: 30.06.1979

Авторы: Барабошкин, Виноградов-Жабров, Грюкан, Молчанов, Пекальн

МПК: C25D 3/66

Метки: покрытий, расплав, рениевых, электроосаждения

...быть проиллюстрирован следующимги примерами.П р и м с р 1. Пластину пз стеклоуглерода выдерживают в ра:плаве, содержащем 27 о гексахлсррената калия и эквимольную смесь хлоридов натрия и калия, в течение 1 мин при анодном потенциале 0,4 В, после чего извлекают из расплава, подают на нее катодный потенциал 0,5 В и вновь погружают в расплав, где ведут осаждение при этом потенциале в течение 5 моин. Пос. ле извлечения подложками и охлаждения ее до комнаткой температуры полученный слой рення толщиной около 15 мкм самопроизволыно отделяется от подложки без раэрушения. Осадок представляет собой пластичну 1 о бе:пористую фольгу, имеющую зеркальную поверхность со стороны подложки и шероховатость 1 - 2 мкм со стороны расплава.Пример 2. В расплаве,...

Номер патента: 819229

Опубликовано: 07.04.1981

Авторы: Баркова, Кадыров, Павловский, Резниченко

МПК: C25D 3/66

Метки: воль-фрамирования, электролитического

...из-за интенсивной коррозии;51) Ковкость барьерного слоя во всех случаях: ири 25 - иековкое, при 1000 - ковкое. меди 5 мм/ми, меди и железа Таблица 2 Состав электролита, режим электролиза и свойства вольфрамового покрытия Свойства покрытия Состав электролита, %Режим электролиза ТолщинаВыходпопо току,кры- тпя Лдгезия покры. тия к барьеру, кг /1 Мг Отно. ситель. нос удлинениео/ С 5 а,с И 1 Л Ц Е с 2 ):-с,Плотность тока,А/см5 с й 1 -с с Содержани 1 151l, % Мик.ро- твер- дость Качество покрытия Т,Время,.консч.мин нач. 53,5 4193,2 93,2 99,999,93 250 100 блестящееплотноестолбчатаяструктура 930 98 в 1 930 98 в 00 880 98 в 1 0,020,015 480 425 25 25 0,050,1 15 15 60 60 О 50 99,9 442 88 9,9 3 О 015 25 0,25 35 15 60 ика во много раз превышающий...