Патенты с меткой «вакууме»

Номер патента: 1307887

Опубликовано: 10.09.1995

Авторы: Данилов, Малышев

МПК: C23C 14/50

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, преимущественно на лопатки турбин, содержащее планшайбу с отверстиями, в которых установлены с радиальным и осевым зазором держатели с патронами для закрепления подложек, и концевыми упорами, переходное звено, кинематически соединенное с приводом вращения и планшайбой, отличающееся тем, что, с целью повышения равномерности покрытия, привод вращения снабжен эксцентриком с отверстием, а переходное звено выполнено в виде вала, расположенного под углом к оси привода, с осевым и радиальным зазором в отверстии эксцентрика, а планшайба жестко закреплена на валу.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что по оси вала выполнено отверстие для циркуляции хладагента.3. Устройство по пп. 1 и...

Номер патента: 1314717

Опубликовано: 10.09.1995

Авторы: Андреев, Дворецкий, Луценко, Падалка, Саблев, Ступак

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, поверхностей, упрочнения

1. Способ упрочнения поверхностей изделий в вакууме, включающий химико-термическую обработку поверхности зажиганием несамостоятельного газового разряда в плазме реакционного газа путем инжекции электронов из автономного вакуумного дугового разряда в парах расходуемого электрода, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности, перед химико-термической обработкой осуществляют осаждение покрытия из ионизованных паров на обрабатываемую поверхность, причем осаждение покрытия и его химико-термическую обработку проводят периодически с соотношением продолжительности процессов, определяемым из выражениягде...

Номер патента: 1468009

Опубликовано: 10.09.1995

Автор: Данилов

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ по авт. св. N 1307887, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества покрытия за счет повышения его равномерности, оно снабжено пальцем с шариком на торце, установленным радиально на конце вала, а во втулке выполнен фигурный паз, при этом шарик установлен с возможностью контактирования со стенками фигурного паза.2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что стенки фигурного паза образованы двумя одинаковыми втулками-копирами, установленными оппозитно.

Номер патента: 1066230

Опубликовано: 10.09.1995

Авторы: Андросенко, Ерекин, Игонин, Колесникова, Кошелев, Крафт

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащая рабочие и шлюзовую камеры с подложкодержателями и механизмами их перемещения, а также магазин подложкодержателей с приводом, размещенным в шлюзовой камере, отличающаяся тем, что, с целью повышения производительности, шлюзовая камера размещена между рабочими камерами, а механизмы перемещения подложкодержателей установлены с возможностью их передвижения между рабочими камерами через магазин подложкодержателей.

Номер патента: 1322701

Опубликовано: 10.10.1995

Авторы: Левченко, Недыбалюк

МПК: C23C 14/42

Метки: вакууме, диэлектрических, катодным, нанесения, покрытий, распылением

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ КАТОДНЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ В ВАКУУМЕ, содержащее катод-мишень, подложкодержатель и кольцевой анод, расположенный между катодом-мишенью и подложкодержателем соосно геометрической оси катод-мишень подложкодержатель, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции устройства и повышения его экономичности, на кольцевом аноде, равномерно по его периметру, выполнено не менее трех выступов игольчатой формы.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что длина выступов не менее 4 мм.

Номер патента: 1669327

Опубликовано: 10.11.1995

Авторы: Асалханов, Домбровский, Иванов

МПК: H01J 29/51

Метки: вакууме, луча, места, падения, поверхности, полупроводника, регистрации, электронного

СПОСОБ РЕГИСТРАЦИИ МЕСТА ПАДЕНИЯ ЭЛЕКТРОННОГО ЛУЧА НА ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКА В ВАКУУМЕ, включающий очистку поверхности полупроводника и облучение ее электронным лучом, отличающийся тем, что, с целью расширения диапазона регистрации низкоэнергетического электронного луча при упрощении способа, одновременно с облучением поверхности полупроводника электронным лучом дополнительно осуществляют сканирование поверхности сфокусированным световым лучом, при этом регистрацию места падения электронного луча проводят по изменению величины тока электронного луча в момент совпадения места падения электронного и светового лучей.

Номер патента: 1697453

Опубликовано: 20.11.1995

Авторы: Левченко, Недыбалюк, Одиноков

МПК: C23C 14/35

Метки: вакууме, ионно-плазменного, распыления

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, преимущественно на вращающуюся вокруг своей оси подложку, содержащее магнетронную систему, состоящую из катода с мишенью и полюсных наконечников, подложкодержатель и анод, отличающийся тем, что, с целью увеличения коэффициента полезного использования распыленного материала, оси симметрии подложкодержателя и мишени образуют угол 18 26o, а центр мишени смещен от оси подложкодержателя на величину (0,18 0,27) D мм, причем средний диаметр зазора между полюсными наконечниками равен 0,75 D мм, где D диаметр подложкодержателя, мм.

Номер патента: 1828140

Опубликовано: 20.12.1995

Авторы: Васильев, Сапронов, Скиргелло, Чайрев

МПК: C23C 14/35, C23C 14/56

Метки: вакууме, ленты, металлизированных, полиимидной

...не вносит заметно- сколько-нибудь заметному короблению, го вклада в величину внутренних механиче- В табл.3 приведены примеры нзнесеских напряжений наносимого металла; т.е. ния слоя металла 10 на поверхность подсохраняет ровность подложки 1 и не пРиво- ложки 1 из полиимидной пленки (ширина дит к ее короблению(фиг.1). 25 пленки - 140 мм) в случае использования вПосле этого проводят второй этап нане- качестве металла алюминия и меди.сения слоя металла: повышэютдавлвние ар- При меньшем; чем указано в табл.З натягоно-водородной смеси до величины, при жении подложки, она недостаточно плотно которой осаждаемый слой нв имеет вну 1- контактирует с поверхностью металличереннихнапряжений,ипроводятпроцессна ского барабана 2, что приводит к ее...

Номер патента: 1077334

Опубликовано: 27.12.1995

Авторы: Левченко, Тарасов

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, нанесения, пленок

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ, содержащее подложкодержатель и испаритель направленного действия с выходным каналом, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения производительности, выходной канал выполнен в виде многоканального коллиматора, подложкодержатель расположен от коллиматора на расстояниигде l длина канала;d диаметр канала;b расстояние между соседними каналами.

Номер патента: 805658

Опубликовано: 27.12.1995

Авторы: Кривонощенко, Селифанов

МПК: C23C 14/34

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее анод, катод и поджигающий электрод, выполненный с возможностью взаимодействия его рабочей поверхности с катодом, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности работы, рабочая часть поджигающего электрода выполнена из диэлектрика, покрытого проводящей пленкой.

Номер патента: 1271132

Опубликовано: 27.12.1995

Автор: Левченко

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, ионно-плазменным, нанесения, пленок, распылением, сегнетоэлектрических

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК ИОННО-ПЛАЗМЕННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ СЕГНЕТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, содержащее диэлектрический держатель с дисковой мишенью, размещенную между ними дисковую электропроводную прокладку, токоподвод и узел разогрева мишени, отличающееся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет повышения равномерности распыления мишени, токоподвод выполнен в виде кольца, примыкающего к боковой поверхности мишени, а диаметр прокладки составляет 0,5-0,75 диаметра мишени.

Номер патента: 1466260

Опубликовано: 10.01.1996

Авторы: Андреев, Григорьев, Луценко, Попов, Саблев, Ступак

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, подложек

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК В ВАКУУМЕ, содержащее подложкодержатель, электрически изолированный от рабочей камеры, электродуговой испаритель, оптически не прозрачный экран, разделяющий рабочую камеру на два отсека, в одном из которых установлен электродуговой испаритель, а в другом - подложкодержатель, и анод несамостоятельного газового разряда, источник питания электродугового испарителя и регулятор температуры подложкодержателя, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции, в качестве катода несамостоятельного газового разряда использован катод электродугового испарителя, при этом положительная клемма источника питания электродугового испарителя соединена с общим выводом двухпозиционного переключателя, управляемого...

Номер патента: 1552688

Опубликовано: 20.01.1996

Авторы: Абрамов, Быстров, Вильдгрубе, Кузнецов, Лисенков

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, включающий генерацию плазменного потока наносимого материала в вакуумной дуге, отклонение ионной компоненты плазменного потока встречным магнитным полем и конденсацию потока ионов наносимого на подложку материала, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет повышения равномерности по толщине, напряженность встречного магнитного поля изменяют путем регулирования тока катушки по линейному закону, обеспечивающего сканирование максимума плотности ионного тока по поверхности подложки.

Номер патента: 1494559

Опубликовано: 10.03.1996

Авторы: Бердников, Казаков, Кудряшов, Куфирин

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, мишени, распыления

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИШЕНИ ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ В ВАКУУМЕ, включающий выполнение углубления в основании мишени, расплавление распыляемого компонента и заполнение им углубления с одновременным охлаждением основания, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса и повышения его производительности, распыление компонента осуществляют после заполнения им углубления основания мишени в плазме магнетронного разряда.

Номер патента: 1685101

Опубликовано: 20.04.1996

Авторы: Кизельбаш, Нагайцев

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

1. СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ преимущественно на детали газотурбинных двигателей и инструментальные пластины, включающий создание рабочего давления 10-1 Па в камере обработки, вращение обрабатываемых изделий на диске-держателе с угловой скоростью 0,4 с-1 и конденсацию парового потока на изделия со скоростью 20 нм/мин при ускоряющем напряжении 1,0 кВ и плотности тока 3 мА/см2, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытия, изделия дополнительно вращают вокруг оси, нормальной проекции изделия на плоскость, причем за один оборот диска-держателя изделия изменяют направление вращения кратно числу .

Номер патента: 751166

Опубликовано: 20.05.1996

Авторы: Левченко, Некрасов, Сигаев

МПК: C23C 14/34

Метки: вакууме, катодного, распыления, сегнетоэлектриков

Устройство катодного распыления сегнетоэлектриков в вакууме, содержащее анод, катодный узел, включающий сегнетоэлектрическую мишень и систему разогрева мишени, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции, система разогрева мишени выполнена в виде металлической пластины, расположенной на сегнетоэлектрической мишени с возможностью углового перемещения.

Номер патента: 1832760

Опубликовано: 27.08.1996

Авторы: Ключников, Левченко, Недыбалюк, Одиноков

МПК: C23C 14/35

Метки: вакууме, магнетронного, распыления

Устройство для магнетронного распыления материалов в вакууме, содержащее выполненные с возможностью взаимного вращения подложкодержатель и магнетронную систему с анодом и двумя катодными узлами, симметрично расположенными под углом к оси подложкодержателя и включающими дисковые мишени и концентрично расположенные с нераспыляемой стороны мишеней полюсные наконечники противоположной полярности, отличающееся тем, что, с целью повышения скорости распыления и увеличения коэффициента использования материала, мишени выполнены с отсеченной частью со стороны оси подложкодержателя, при этом каждый полюсный наконечник образован пересечением двух дуг окружностей с сохранением у дуги, удаленной от плоскости отсечения, прежнего радиуса полюсного...

Номер патента: 908113

Опубликовано: 20.10.1996

Авторы: Кривонощенко, Селифанов, Точицкий

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, покрытий

Способ получения покрытия в вакууме, заключающийся в возбуждении дугового разряда в парах материала расходуемого электрода и конденсации пароплазменного потока этого материала на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет снижения капельной фазы пароплазменного потока, на расходуемый электрод воздействуют ультразвуковыми колебаниями.

Номер патента: 1737930

Опубликовано: 10.04.1998

Авторы: Носков, Орликов

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, пленок, тонких

Устройство для нанесения тонких пленок в вакууме, содержащее газоразрядную камеру, систему формирования и ускорения потока наносимого материала, импульсный источник питания и подложкодержатель с подложкой, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения надежности работы устройства, газоразрядная камера выполнена в виде спирали, охватываемой корпусом из немагнитного материала с профилем сверхзвукового сопла, открытого в сторону подложки, причем начальный участок спирали подключен к импульсному генератору источника питания, а конец спирали, размещенный у открытой части сопла, заземлен.

Номер патента: 1549108

Опубликовано: 27.06.1999

Авторы: Барвинок, Богданович, Китаева, Козлов, Малкин

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, никелида, покрытия, титана

Способ получения покрытия из никелида титана в вакууме, включающий предварительную очистку поверхности и последующее распыление никелида титана, отличающийся тем, что, с целью повышения демпфирующих свойств покрытия, распыление никелида титана осуществляют электродуговым вакуумным методом, при этом процесс напыления осуществляют импульсно и перед каждым последующим слоем проводят ионную обработку поверхности.

Номер патента: 1802548

Опубликовано: 27.06.1999

Авторы: Барвинок, Богданович, Куйвашев, Малкин, Плотников, Федосов

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру, в которой размещен электродуговой испаритель с расходуемым электродом, открытая с торцов дополнительная камера, в которой размещен подложкодержатель, и источник питания, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий, дополнительная камера электроизолирована и охватывает подложкодержатель таким образом, что поверхность подложкодержателя находится вне прямой видимости со стороны внутренней поверхности вакуумной камеры.

Номер патента: 1707996

Опубликовано: 10.07.1999

Автор: Корж

МПК: C23C 14/40

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, преимущественно диэлектрических материалов, содержащее катодный узел с магнитной системой и мишенью для распыления, анод с выступами и углублениями, увеличивающими площадь анода не менее чем в два раза, и подложкодержатель, установленный напротив мишени, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий и производительности, в выступах и углублениях выполнены сквозные отверстия, заполненные легкоплавким проводящим материалом, температура плавления которого ниже температуры нагрева анода, при этом суммарная площадь отверстий в поперечном сечении больше распыляемой площади поверхности мишени, а диаметр и глубина каждого отверстия выбраны...

Номер патента: 1491038

Опубликовано: 27.09.1999

Авторы: Акимов, Воеводин, Морозов, Спасский, Чмир

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, износостойких, покрытий

Способ получения износостойких покрытий в вакууме, включающий очистку поверхностей обрабатываемых изделий и их нагрев ионной бомбардировкой, осаждение износостойкого покрытия из плазменной фазы и закалку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет предотвращения отслаивания и растрескивания покрытий в процессе закалки изделий с низкой температурой отпуска, перед осаждением износостойкого покрытия формируют промежуточный слой ионным азотированием поверхности при 780 - 850oC.

Номер патента: 497847

Опубликовано: 27.09.1999

Авторы: Зудов, Мочалов

МПК: C22B 17/06

Метки: вакууме, дистилляции, кадмия

Способ дистилляции кадмия в вакууме, отличающийся тем, что, с целью более глубокой очистки кадмия от мышьяка, цинка и других примесей и увеличения выхода металла, дистилляцию кадмия проводят в присутствии металлического олова в количестве 10 - 50% от веса кадмия, в зависимости от содержания примесей в кадмии и требуемой степени очистки последнего.

Номер патента: 1662127

Опубликовано: 20.11.1999

Авторы: Лубышев, Мигаль

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, нагрева, подложек

Устройство для нагрева подложек в вакууме преимущественно к установкам молекулярно-лучевой эпитаксии, содержащее корпус с размещенными в нем нагревателем и держателем подложек, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения однородности температурного профиля на подложках, нагреватель снабжен тепловыравнивающими пластинами из пиролитического нитрида бора и размещен между ними, при этом плоскости спайности пластин параллельны нагревателю, а толщина каждой пластины менее 4 мм.

Номер патента: 1561548

Опубликовано: 27.12.1999

Авторы: Воскресенский, Перова, Шкурко

МПК: C23C 14/24, C23C 14/54

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее подложкодержатель, испаритель в виде тигля, заслонку, установленную между испарителем и подложкодержателем, и датчик проводимости наносимого покрытия, отличающееся тем, что, с целью повышения качества пленок и повышения коэффициента использования материала покрытия, датчик проводимости установлен на заслонке со стороны испарителя, при этом датчик проводимости выполнен длиной рабочего участка, не превышающей диаметра тигля, и установлен по оси тигля.

Номер патента: 1321193

Опубликовано: 20.12.2001

Авторы: Бабиков, Колесников

МПК: F26B 5/04, F26B 9/06

Метки: вакууме, контейнер, порошка, термической

Контейнер для термической обработки порошка в вакууме, содержащий корпус и размещенную внутри него насадку, образующую вертикальные каналы, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности путем увеличения объема заполнения контейнера порошком и упрощения конструкции, насадка выполнена в виде системы цилиндрических спиралей из проволоки или ленты.

Номер патента: 1267819

Опубликовано: 20.02.2002

Авторы: Белоус, Картмазов, Павлов, Сафонов, Смирнов

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

1. Способ нанесения покрытий в вакууме путем регулируемого испарения материала покрытия за счет его нагрева электронным пучком, ионизации паров испаряемого материала путем зажигания в них разряда при подключении одного из электродов источника разрядного напряжения к испаряемому материалу с регулированием степени ионизации током разряда, а энергии ионов - напряжением смещения на покрываемом изделии, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности при низком значении температуры изделия, ионизацию паров испаряемого материала осуществляют несамостоятельным дуговым разрядом при подключении к испаряемому материалу отрицательного электрода источника разрядного напряжения.2....

Номер патента: 1365513

Опубликовано: 20.06.2005

Авторы: Мезенцев, Неровный, Подяпольский, Редчиц, Ямпольский

МПК: B23K 9/167

Метки: вакууме, дуговой, импульсной, катодом, полым, сварки

Способ импульсной дуговой сварки полым катодом в вакууме, при котором во время паузы концентрируют энергию дуги воздействием на нее внешних сил, отличающийся тем, что, с целью повышения качества сварных соединений при ведении процесса сварки в режиме сквозного проплавления, на дугу воздействуют аксиально-симметричным неоднородным магнитным полем, величину магнитной индукции которого в центре дуги на уровне зеркала сварочной ванны устанавливают равной (11-14)·10-3 Тл при отношении радиальной составляющей поля к продольной, равном 1,1 до 1,3, а величина тока равна 25-45 А.

Номер патента: 1483973

Опубликовано: 20.06.2005

Авторы: Ирков, Ковалев, Максаков, Пестов, Ткаченко

МПК: C23C 14/24, C23C 14/50

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее кассетодержатель с кассетами, подложкодержатель, установленный в кассетах, и механизм поворота, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции, расширения функциональных возможностей и повышения производительности, кассетодержатель снабжен двумя проушинами и одним подпружиненным фиксатором для каждой кассеты, кассета снабжена роликом, рамками и двумя опорами, входящими в проушины кассетодержателя, причем кассета установлена с возможностью углового перемещения относительно кассетодержателя, при этом каждый подложкодержатель установлен в рамке со смещением центра тяжести относительно оси поворота, а механизм поворота снабжен...