Патенты с меткой «вакууме»

Номер патента: 1145690

Опубликовано: 30.10.1992

Авторы: Арустамов, Груич, Пичко, Эстерлис, Юнусов

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...рованный ограничительный экран, торецанода, обращенный к катоду, выполненв виде выступа треугольного профиля,снабженного остриями, а ограничительный экран размещен между анодом истаканами катода и выполнен с отверстиями, совпадающими с местоположениями острий и зазора между внешним ивнутренним стаканами,На чертеже показано устройстводля нанесения покрытий в разрезе.Устройство содержит катод, выполненный в виде соосных разновысокихстаканов 1-3 с центральным стержнемвыполненных иэ тугоплавкого металла и установленных с зазором друг отдруга, полый цилиндрический анод 5 иэлектроизолированный ограничительныйэкран 6, Стаканы катода сообщаютсямежду собой отверстиями 7, выполненными в боковых стенках внутреннихстаканов, и размещены в...

Номер патента: 978474

Опубликовано: 30.10.1992

Авторы: Арустамов, Булат, Жуматаев, Кельберт, Нагайбеков, Эстерлис

МПК: B23K 9/16, H01J 37/30, H05B 7/18 ...

Метки: вакууме, электродуговой

...линейный угол 40-80На чертеже схематично показано уст"40ройство для электродуговой обработкидеталей. Устройство содержит кольцевой анод 1, внутри которого установлена обрабатываемая деталь 2 цилиндрической формы, являюцаяся катодом.ОЬрабатываемая деталь 2 вне зоны обраЬотки охвачена электроизолированнымэкраном 3 Между обрабатываемой деталью 2 и кольцевым анодом 1 установлено электроизолированное кольцо 4.Сечение кольцевого анода 1 выполненов виде трапеции, основание которой параллельно оси обрабатываемой детали2, а боковые поверхности образуют суказанной осью линейный угол 40-80К кольцевому аноду 1 подсоединенытокоподводы 5. В зазор электроизолированного экрана 3 введен поджигающий электрод 6. Устройство работает следующим образом.В...

Номер патента: 1070948

Опубликовано: 30.10.1992

Авторы: Кельберт, Латипов, Лундин, Эстерлис

МПК: C23C 14/24, C23C 14/58

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...в процессе осаждения материала покрытия осуществляют обработкупокрываемой поверхности дуговым раз"рядом, причем разряд возбуждают в парах автономного источника испаренияВ результате электродуговой обработки обрабатываемого изделия, являющегося катодом, катодные пятна дугового разряда, горяцего в парах осаждаемого материала покрытия автономного источника испарения, оплавляют припо" верхностный слой покрытия с образова" нием сплава с материалом обрабатывае мого изделия, Так как время воздействия быстроперемец 1 аюцихся катодных пятен на обрабатываемый материал изделия мало и структурных изменений и разрушения материала основы не про. 3 О исходит, а продиффундировавшие в приповерхностный слой атомы обеспечивают высокую адгезию слоев,...

Номер патента: 1776698

Опубликовано: 23.11.1992

Автор: Григорьев

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, износостойких, покрытий, формирования

...а превышение содержания циркония вы1776698 Инструыенталыый материал Состав металлического алая,ыэс. Давление при осаждении ыеталлического слоя, Па Изнасостойкий слойКоэффициент по.выгвения стойко.сти цирконий Известный способ ВК 6 + Аэотирование (А) ВКО+ А То мо.ТМ ТМ ТМ ТМ ТМ ТМ ТМ ТМТМ ТМ П- ЪМ ТЪ 2 гК 07-2 гСМ ТМ ТМ1 0.9 1.1 1,4 1,2 0,9 1,41 1,2 1.1 0,7 1,9 1,51,8 1.0 1,6 2,1 Р 6 Ч 5 в Л(известный способ) Р 6 М 5+ А. Та ме Составитель С.МирошкинТехред М.Моргентал Корректор О.Густи Редактор Т.Иванова Заказ 4101 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, гК-ЗБ, Раушская наб., 4/Б Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 ше 95 снижает...

Номер патента: 1777043

Опубликовано: 23.11.1992

Авторы: Гендельсман, Городинский, Минкин, Никифоров, Сафронов, Семушкин, Слободской, Табалин, Шенфельд

МПК: G01N 5/04

Метки: вакууме, веса, потери

...надежность измерений,Целью изобретения является повышение надежности и расширение диапазонаисследований за счет обеспечения комплексного воздействия на образец дестабилизирующих факторов,На фиг.1 изображено предлагаемое устройство, продольный разрез; на фиг.2 -электронагревательное устройство, продольный разрез.Устройство(фиг.1) состоит из двух вакуумных камер 1 и 2, которые герметично присоединяются к плите 3. В верхнейвакуумной камере 1 установлены микровесы 4. Плита 3 имеет отверстие, через которое проходит подвеска для закреплениявзвешиваемого образца 5. Взвешиваемыйобразец 5 находится, таким образом, в нижней вакуумной камере 2 в зоне, охлаждаемой криостатом 6. Криостат выполнен ввиде двух взаимно перпендикулярных...

Номер патента: 1781315

Опубликовано: 15.12.1992

Авторы: Сиваков, Сивакова

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий, электродуговое

...источник питания 1, плюс которого соединен с первыми выводами накопительных конденсаторов 2 и анодом 3, а мийус - со вторыми выводами накопительных конденсаторов 2 и катодом 4, на котором установлен М-секционный поджигающий электрод 5.15.Й. Плюс источника питания соединен с анодом тиристора Т 1, катод которого соединен с первыми выводами Й-дополнительных конденсаторов С.1.С.М, вторые выводы которых .соединены с соответствующими катодами И-дополйительнйх диодов Ч 1 Чи, аноды которых соединены между собой и с минусом источника питания 1 где параллельно тиристору включен диод в обратном направлении 01, апараллельно каждому дополнительному конденсатору С.1 С.И включено соответствующее сопротивление Я 1.1.Я 1 ю в котором каждая...

Номер патента: 1695704

Опубликовано: 23.12.1992

Авторы: Груич, Кирсон, Эстерлис

МПК: C23C 14/02

Метки: вакууме, дуговым, поверхности, разрядом

...поверхУдельнаямощность, кВт ч/м Сталь горячекатаная Х 18 Н 10 Т Окалинаполно 200 20 10 0,21 0,21 стью удалена То же0,680,770,8 150 300 250 Бр, АЖИМЗ Сталь 65 Г Сталь Рб М 5 Сталь горячекатаная . Х 18 Н 10 Т 2,047,73,2 23 24 23 1 5 1 3 10 4 Окалина удалена, поверх- . ность оп- лавлена 200 19 1,67 1,2 0,82 ность электрода-анода, так как в процессе перемещения экрана открываются участки анода, ранее не участвовавшие в работе. Это устраняет перегрев поверхности, чем повышается качество обработки. Кроме того, наличие экрана с отверстием уменьшает поток продуктов эрозии, осаждающихся на электроде, Это приводит к стабилизации процесса горения разряда, а следовательно, и к повышению качества обработки.Способ обработки осуществляется следующим...

Номер патента: 1788038

Опубликовано: 15.01.1993

Авторы: Ильченко, Курлова, Миропольский, Шелковый, Шлосберг

МПК: C21D 1/40, C21D 9/08

Метки: вакууме, термообработки, труб

...35, эластичной вакуум-плотной манжеты 36, направляющих 37 механизма перемещения 38подвижного фланца 34 и стыковочногофланца 9 рабочей камеры 1. Механизм поворота 3 рабочей камеры 1 состоит из пневмоцилиндра 39, гидро- амортизатора 40 и рычага 41, размещен ного на глухой цапфе 10 рабочей камеры 1, Стеллаж 4 представляет собой сварнуюконструкцию с рельсами 42 и фиксатором 43, Площадка обслуживания 5 представляет собой сварную конструкцию на которой размещены контактные клеммы 6, соединенные с источником электропитания нагрева.Установка для термообработки труб в вакууме работает следующим образом,Перед началом работы рабочая камера 1 находится в горизонтальном положении и застопорена фиксатором 43. Тележка 16 выкачена на стеллаж 4,...

Номер патента: 1795321

Опубликовано: 15.02.1993

Автор: Сапрыкин

МПК: G01M 3/02

Метки: вакууме, обнаружения, течи

...по изменению давления пробного газа судят о наличии течи в системе,Недостатком данного способа являются сложность, большие временные и энергетические затраты, требуемые для прогрева отдельных участков иэделия, и низкая точность локализации течи,1795321 Следовательно коэффициент проводимости равен; О =- С 3 ЛР,0 =(КТ/2 л в) 3 ЬР,25 где К - постоянная Больцмана, Т - температура, а - масса молекулы газа. 30 Формула изобретенияСпособ обнаружения течи в вакууме, заключающийся в том, что по одну сторону стенки изделия создают вакуум, по другую подают гаэ, осуществляют нагрев и по изменению давления газа в вакууме судят о наличиитечи, отл ич а ю щи й с я тем, что, с целью повышения точности локализации течи и снижения энергозатрат при...

Номер патента: 1796921

Опубликовано: 23.02.1993

Авторы: Кратенко, Махов, Помазкова, Хафизов

МПК: G01K 7/12

Метки: вакууме, температуры

...содержащем терморе б термопреобраэователя 4 прйваррн к внутзистор, связанный с металлическим ренней поверхности цилиндра:б. Заглушкатепловыравнивающим блоком, в .полости 11 выполняет роль электро- и теплоизолятокоторого размещен холодный спай термо- ра, Электроизоляция 7 полого металличеэлектрического преобразователя, подклю- ского цилиндра 6 от фланца 2 йредстаеляетченного к измерительному прибору через 20 собой керамическую трубу, имеющую вакугермовводы фланца вакуумной камеры, умноплотное соединение с цилиндром б иснабженного керамический заглушкой, теп- фланцем 2. Термопреобраэователь 4 черезловыравнивающий блок выполнен в виде гермовводы 12 и термареэистор 8 подклю. цилиндра, размещенного снаружи вакуум- чаются к измерительной...

Номер патента: 1797628

Опубликовано: 23.02.1993

Авторы: Джон, Юджин

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, осаждением, плазменным, пленок, тонких

...с основного энергетического квантового уровня п=1 на более высокий энергетический квантовый уровень п=З. Когда этот возбужденный электрон переходит на соседний, более низ.кий энергетический квантовый уровень п=2, испускается фотон на волне альфа-водорода. Аналогично фотон на волне бета-водорода испускается, когда возбужденный водородный атом после столкновения с 45 электроном, энергия которого больше 12,73 эВ, сходит со своего возбужденного п=4 квантового уровня обратно на энергетический квантовый уровень п=2, Как результат, интенсивности этих эмиссионных линий во дорода оказываются связанными с плотностью электронов в плазме, обладающей этими энергетическими уровнями. Отношение этих интенсивностей водородных эмиссионных линий дает...

Номер патента: 1797629

Опубликовано: 23.02.1993

Авторы: Альфред, Антон, Гонде, Грегор, Даниэл, Клаус, Макс, Райнер, Роберт, Рольф, Фридрих, Ханс

МПК: C23C 14/34

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...с помощью ионного илиразличныхсортовионовполучаютсяразлич-, электронного луча не требуется высокого 20 ныеЛарморовские:.радиусы,с которымиотнапряжения (типичное напряжение источ- дельные сорта ионов":вращаются вокруг ника 80 В, типичное напряжение на мишени магнитных силовыхлинйй (напрймер; Аг = 4 700 В),:см, С см; принапряженности матнитПлазменный поток можно получать ного поля 100 Гс), Это позволяет разделять больших размеров и любой формы; Скайи различйыесорта.ионов металлов."рующее устройствоне требуется. БлагодаряСледует такжедобавить,"что"в;устройсттому, что плазменный поток сам по себе ве по ФигЛ, предусмотрен штуцер 38;черезвляется квазинейтральным, то управление который, вводится газ"в область между мим значительно...

Номер патента: 1800498

Опубликовано: 07.03.1993

Авторы: Кассиров, Шумилова

МПК: H01J 9/42

Метки: вакууме, изоляционных, повышения, промежутков, прочности, электрической

...а микроострия на поверхности оплавляли, Контроль за состоянием поверхности вели с помощью металлографического микроскопа МИМ. По1800498 40 Поверхность оплавлена Оплавления не замеченоНео 5 лученные лазером электро- ды Кратер от лазерно го акела Плотность энергии, Вт/см г 1 О 4 1 О 8 1 О 16 10 а 1 О 3 1 О Вакуумныйпромежуток Промежуток с диалект иком Медь. 16 22 20 18 З 1 8 1 О22 10 а Плотность эне гии, Вт/см Вакуумный промежуток Промежуток с диэлектриком Нержавеющая сталь зз Зо 4 О зз 41 З 1 24 25 28 Кратер. от лазерного фа- кела 37 25Оплавления нет,З 4 35 Оплавление поверхности добрав плотность энергии, сканироваливспышки по поверхности электрода, облучаявсю поверхность, Затем электроды промывали в спирте и ацетоне и помещали в...

Номер патента: 1803469

Опубликовано: 23.03.1993

Авторы: Бугаев, Евсиков, Ильин, Казанцев, Кочетов, Мазаев

МПК: C23C 10/32, C23C 10/40

Метки: вакууме, диффузионного, хромирования

...результаты приведены втаблице,Из данных таблицы следует, что оптимальное число циклов 8-10, дальнейшее5 увеличение которых не сказывается на увеличении толщины диффузионного слоя, илиоказывает не существенное влияние.Технико-экономическое преимуществоданного способа по сравнению с прото 10 типом заключается в увеличении диффузионного слоя до 2-х и более раз, чтоспособствует улучшению физико-механических свойств деталей и увеличивает срок,.эксплуатации,15 Формула изобретения 1. Способ диффузионного хромирования в вакууме, включающий насыщение в контейнере с гранулированным хромом, со здание вакуума, нагрев, выдержку и охлаждение,отл ичающийсятем,что,сцелью увеличения толщины диффузионного слоя, после охлаждения проводят распаковку...

Номер патента: 1803697

Опубликовано: 23.03.1993

Авторы: Антипин, Данилкин, Павлов, Тюльпакова

МПК: F27B 17/02

Метки: алюминия, вакууме, нагрева, образцов, сплавов

...включение пускателя 10, отпики камера-индуктора в различных позициях, 45 рающего фиксатор 9. Камера 5 снабжена необходимых в процессе работы устройства шибером 12, перекрывающим верхнее отнагрева(образец греется индуктором;обра- верстие и соединенным с устройством 13, зец греется камерой электронагрева; индук- обеспечивающим открывание камеры 5 во тор и камера отведены от зоны образца, время надвигания ее натрубку 1. Устройстнапример, для его смены путем поворота 50 во 13 состоит из полого штока 14, с одной трубки), и быстрого перемещения сцепки иэ стороны соединенного жестко с шибером одной позиции в другую при смене вида 12, а с другой стороны также жестко укрепнагрева, При этом электрическое соедине- ленного на основании,...

Номер патента: 1808024

Опубликовано: 07.04.1993

Авторы: Колосов, Наянов

МПК: C23C 14/35

Метки: вакууме, магнетронного, нанесения, покрытий, реактивного

...кислород, до необходимого давления, К катоду-мишени 6 прикладывается отрицательный потенциал и в камере 1 зажигается разряд. Ионы рабочего газа бомбардируют и распыляют металлическую мишень 6. Продукты химической реакции активного газа и распыленного материала, осаждаясь на подложке, формируют диэлектрический слой. Одновременно пленка вырастает на поверхности первого анода. Однако эта пленка не однородна по своему составу на разных участках анода. В частности, на остриях пленка не напыляется, а во впадинах между выступами напыляется пористое покрытие, которое легко отскакивает при атмосферном давлении и комнатной температуре, Можно указать две причины подобного явления; первая - рост пленки происходит в сильно деформированном...

Номер патента: 1808565

Опубликовано: 15.04.1993

Авторы: Будник, Нестеренко, Ткач

МПК: B23K 9/167

Метки: вакууме, сварки

...полым катодом 2 и формирователем 3, Но так как формирователь электрически нейтральный, для возбуждения промежуточного разряда в электриче скую цепь включен конденсатор 4, одним концом подсоединенный к формирователю 3, а другим - к положительному полюсу источника питания (Ов), причем емкость злектролитического конденсатора должна быть 45 в 10 раз больше емкости полый катод-формирователь, После возбуждения промежуточного разряда полый катод 2-формирователь 3 происходит заряд последовательной цепи, состоящей из ем кости полый катод-формирователь и конденсатора 4, включенного между формирователем 3 и анодом-иэделием 6.Емкость электролитического конденсатора 4 значительно больше емкости полый катод формирователь, поэтому напряжение...

Номер патента: 1809840

Опубликовано: 15.04.1993

Авторы: Либерто, Франческо

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, пленок, тонких

...и направляются к противоположной стенке под углом, ограниченным 30 градусами. Атомы доходят до противоположной стороны катода и возвращаются в обратном направлении, но при этом они не сталкиваются с другими частицами,При таком рикошете атомы с большей вероятностью сталкиваются с электронами газа, образующего плазму, и в свою очередь ионизируются. Между стенками катодов образуется большое количество ионов, которые под действием положительного заряда анода 5 устремляются к противоположному выходу и затем к подложкодержателю 8, на котором происходит осаждение требуемого покрытия,Для получения достаточной степени ионизации атомов и соответствующих ионов и для получения требуемой толщины тонкого слоя, расстояние между мишенями 1 и 3...

Номер патента: 1610927

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Абдуллин, Гафаров, Желтухин, Иванов

МПК: C23C 14/40

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...камер от ее оси.При размещении графитового блока в разрядной камере в зоне максимальной напряженности магнитного поля (т.е, на расстоянии 0,6-0,8 радиуса разрядной камер от ее оси) вихревые токи, возникающие в гра 1610927фиговом блоке, нагревают его и находящиеся на нем подложки, Это позволяет осуществлять очистку поверхности подложки до нанесения покрытия, проводить термообработку полученного покрытия. Выбор зоны размещения графитового блока в разрядной камере, равной 0,6-0,8 радиуса разрядной камеры от ее оси, обусловлен максимальным тепловыделением в данной зоне. При этом одновременно с обычной термообрдботкой 10 происходит и обработка в плазма высокоча-стотного емкостного разряда, что позволяет реализовать комбинированную...

Номер патента: 1812239

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Киселев, Коровкин, Крылов, Перекатов

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, металлических

...образом,Обрабатываемые изделия (например, фасонные резцы, изготовленные из стали Р 6 М 5), очищенные от загрязнений, размещают на подложкодержателе, изолированном от корпуса вакуумной камеры и подключенном к отрицательному полюсу источника электропитания, вакуумная камера откачивается до давления 1,33 10-3 Па форвакуумным и диффузионным насосами, затем через систему гаэопитания в полый катод несамостоятельного дугового разряда, изготовленный из тугоплавкого материала, подают плазмообразующий газ, например аргон, а на изделия подают отрицательный потенциал относительно стенок вакуумной камеры. Полый катод несамостоятельного дугового разряда разогревают до температур термоэмиссии и зажигают несамостоятельный дуговой разряд с нерасходуемым...

Номер патента: 1812243

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Антонов, Достанко, Корницкий, Уласюк, Хохлов, Ширипов

МПК: C23C 14/46

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...характеризующие распределение15 толщины пленки на подложке при распылении протяженной мишени ионным пучкомразличной формы, определяемой типом газовой системы; а - равномерный задув газа,а следовательно; и постоянная плотность20 ионного тока ) на всем протяженйом участке; б - увеличенная интенсивность газовогопотока на краях протяженного участка; в -использование трехканальной газовой системы. Расчеты пооводились для случая зна-25 чений длины протяженной зоныраспыления 200 мм и расстояния мишеньподложка 50 мм.На фиг. 2 представлена схема устройства для нанесения покрытий, построенного30 на базе ионных источников с объемной разрядной камерой; на фиг.З - схема устройства на основе холловского ускорителя сзамкнутйм дрейфом электронов.На...

Номер патента: 1816288

Опубликовано: 15.05.1993

Авторы: Беришвили, Гадахабадзе, Схиладзе

МПК: C23C 14/35

Метки: вакууме, ионно-плазменного, многокомпонентных, нанесения, пленок

...систем ионна-плазменного напыления иэ заявки-прототипа,Остальные исходные данные (количественное соотношение компонентов в пленке) взяты иэ целей задачи получения многокомпонентнцх покрытий, либо являются справочными (1, 01, Р )Отметим также, что данные, приведенные в заявке в таблицах 1 и 2, подтверждены конкретнцми практическими расчетами и экспериментальными результатами.Ниже для наглядности приведен пример расчета возможных конструкций мишени с разной степенью дробления колец из одного и того же компонента для получения трехкомпонентной пленки с заданным стехиометрическим составом:А 158 Т 114 5128.Здесь за основу мишени был взят алюминий, Общие размеры мишени взяты прежними (В = 40 мм, го = 13,46 мм). Остальные исходные данные,...

Номер патента: 1816801

Опубликовано: 23.05.1993

Авторы: Лямин, Мусин

МПК: C23C 14/26

Метки: вакууме, молибденового, нанесения, покрытия

...за весь цикл нанесения покрытияподложка не нагревается выше 1000 К.Нижним пределом температуры подложки является температура 473 К, Данное30 значение темперзтурц определялось экспериментально и с учетом того, что адгезионная прочность (или прочность сцепления)между покрытием и подложкой зависит оттемпературы подложки. Для обеспечения35 хорошей прочности покрытия с подложкойпоследнюю необходимо подогревать до несколько сотен градусов.П р и м е р 1, Молибденовое покрытиенаносили на кварцевую подложку. Подлож 40 ку устанавливали на расстоянии 3 мм отиспаряемого материала, камеру герметизировали, производили откачку до давления5 10 Па. Затем испаряемый материал(Мо) нагревали до 2316 К и при этой темпе 45 ратуре и давлении производили...

Номер патента: 1820272

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Антипов, Егоров, Лапочкин, Михалев

МПК: G01M 13/04

Метки: вакууме, испытаний, подшипников, стенд

...изменения потокосцепления где ф- магнитное потокосцепление;В - средняя индукция в сечении, охваченном катушкой;с- время;3 - площадь сечения измерительной ка. тушки;со- число витков измерительной катушки, 55 териал перемещается и удерживается там, где его градиент имеет максимальное значение. Момент трения, возникающий в испытуемом подшипнике, передается через магнитопроводное кольцо и запорную шайДальнейшая задача обработки этого напряжения является его интегрирование. Регистрация потока сцепления и егоинтегрирование осуществляются прибором5 - веберметром, При изменении количествамагнитов в сепараторе происходит ступенчатая регулировка магнитного потока, проходящего через подшипники качения.Устанавливаем требуемую радиальную10 нагрузку...

Номер патента: 1700843

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Гершович, Дворжак, Кирсон, Пашков, Плисс, Эстерлис

МПК: B08B 7/00

Метки: вакууме, проката, электродуговой

...для электродуговой очистки проката в вакууме работает следующим образом, Вакуумнасосом в ва" куумной камере 1 понижают давление до 1 10" -Оторр,Прокат 5 непрерывно транспортируют через вакуумную камеру 1Пружины 11 прижимают кассеты 12 с игольчатыми элементами 13 к поверхности прката 3. Включают двигатель 22, вращающий обецайку 14 с косыми торцовыми шайбами 15, которые взаимодействуя с образующей стационарных роликов 2/, обеспечивают аксиальное,возвратно-поступательное движениеобечайки 4 и кассеты 12. Включаютисточники токэ 10 и с помощью элек"трода 9 поджига дуги зажигают дуговой разряд между анодами 8 и прокатом 5. С помощью балластного сопротивления 25 регулируют разность по"тенциалов между игольчатыми элементами 13 и...

Номер патента: 1821302

Опубликовано: 15.06.1993

Авторы: Антифеев, Атрошенко, Беловолов, Гуржи, Зайцев, Кораблинский, Литвиненко, Литовченко, Лысяная, Нагаевский, Паско, Пузрин, Чепурной, Яременко

МПК: B23K 1/00

Метки: вакууме, давлением, пайки, печной

...аналогичным противна 7 и размещенным симметрично ему относительно горизонтальнойоси пакета 8,Между противнем 11 и гибкой крышкой4 размещают плиту 12 толщиной Ь составляющбй 0;03-0,07 максимального линейного размера пакета 8 и его сечения(диагональ для прямоугольного сечения идиаметр для круглого),Способ осуществляют следующим образом. Пакет 8 с паяемыми деталями размещают на противне 7 вйутри контейнера 1 сзазором А относительно боковых стеноккойтейнера, превышающим суммарную толщину припоя в 4-8 раэ. Затем пакет 8 накрывают противнем 11, на которыйустанавливают плиту 12 толщиной Л, равной 0,03-0,07 от максимального линейногоразмера пакета 8 деталей, и герметизируютконтейнер жестким закреплением крышки 4из тонколистовой стали сварным...

Номер патента: 1827398

Опубликовано: 15.07.1993

Автор: Ушков

МПК: C23C 14/02, C23C 14/06

Метки: вакууме, водорода, поглотителя

...пленку путем рхности титана, После лладия толщиной 25 товления поглотителя уме при 10 5 х 10 мм й таким способом по- водород как в бескисак и в присутствии. 1827398 Ф ор мул з и зоб рете н и я Составитель А.УшковТехред М,Моргентал Корректор О. Густи Редактор Заказ 2345 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент, г, Ужгород, ул.Гагарина, 101 рода с титаном приблизительно в двз раза выше энтропии системы Рб-Н, з согласно второму закону термодинамики: самопроизвольно могут протекать только процессы и реакции, в ходе которых энтропия возрастаетпоэтому палладий будет передавать свой растворенный водород...

Номер патента: 1827399

Опубликовано: 15.07.1993

Авторы: Манулик, Мовчан, Оноприенко, Ульянов

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, покрытий

...В качестве основного покрытия на проволоку наносили следуоцие материалы: титан, никель, алюминий, диборид титана, карбид кремния и диоксид циркония.Для сравнения были изготовлены образцы проволоки по прототипу и по авторскому свидетельству М 783361. В этих случаях в первый кристаллизвтор загружался слиток ферроцерия или магния,В этих опытах все металлические слитки были предварительно переплавленц элекронным лучом в вакууме, а штабики керамики спрессованы и отожжены в вакууме. Сплав ферроцерий-алюминий выплавлялся порциями непосредственно в установке У 3-173 У, В качестве исходных материалов применяли чистый аломиний и ферроцерий марки МЦ - 40 по ТУ 48 - 4-280-73. Химический. Состав ферроцерия был следующим: ( ,4), Се 52,8; Ее 2,1; Х РЗМ...

Номер патента: 1827400

Опубликовано: 15.07.1993

Авторы: Буланкин, Василенко, Ивашов, Оринчев, Степанчиков

МПК: C23C 14/50

Метки: вакууме, детали, механизм, нанесении, перемещения, покрытий, прямолинейного

...перемещения содержит корпус 1, внутри которого расположен подвижный стержень 2 на опорах в виде упругих пружин 3. Упругие пружины 3 выполнены в виде бипластин 4 с углом наклона к горизонтали 40 - 50, жестко связанных между собой с возможностью подачи на них электрического напряжения регулируемой величины от источника напряжения 5. Бипластины 4 (фиг. 1) выполнены из металлов с различными коэффициентами линейного расширения или в виде биморфов (фиг. 2) - одна пластина 6 - металлическая, а другая 7 пьезокерамическая, Углы наклона бипластин к горизонтале 40-50 выбраны таким образом, чтобы перемещение стержня 2 было максимальным.Механизм прямолинейного перемещения детали при нанесении покрытий в вакууме работает следующим образом.При подаче...

Номер патента: 1832130

Опубликовано: 07.08.1993

Авторы: Матяшов, Шаповалов

МПК: C23C 14/02

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...С, 1 емпературь: нагреваподложки определены экспериментальноиз условя полученля требуееиых томпераГИтур химической активности нзГревэемцх ди"электриков (например, Липин 1 О,В, и др.Вакуумная металлизация погплмернь 1 х материалов, ЛХ 1 ле, ля, 108 Р,. 91 98. МоряковО,С, Термические процессы в Р 1 икрозлектрание. М.: Высшая школа, 1987, с, 53. Попов В.(РэГорие Ю,Н. Процессы и установкиэлектронно-ионной технологии. МВысшаяшкола, 1988),У стекла температура, при которой наступает химическая активность, соответствует температуре нагрева подложки +450+ 10 ОСПерегрев стекла (выше 450"С) недопустим, поскольку приводит к электрохимическому разложению его состава, и за счетвыделееРля кислорода стекло пригорает вместах контакта с...