Лубышев

Номер патента: 1662127

Опубликовано: 20.11.1999

Авторы: Лубышев, Мигаль

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, нагрева, подложек

Устройство для нагрева подложек в вакууме преимущественно к установкам молекулярно-лучевой эпитаксии, содержащее корпус с размещенными в нем нагревателем и держателем подложек, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения однородности температурного профиля на подложках, нагреватель снабжен тепловыравнивающими пластинами из пиролитического нитрида бора и размещен между ними, при этом плоскости спайности пластин параллельны нагревателю, а толщина каждой пластины менее 4 мм.