Груич

Номер патента: 1781899

Опубликовано: 15.12.1994

Авторы: Абдулов, Булат, Гершович, Груич, Кирсон, Мальцев, Пичко, Плисс, Эстерлис, Юнусов

МПК: B08B 3/10, B21B 45/04

Метки: вакууме, ленточного, проката, разрядом, электродуговым

УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ЛЕНТОЧНОГО ПРОКАТА ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ В ВАКУУМЕ, включающая вакуумную камеру, средства создания вакуума и транспортировки проката, средство возбуждения дугового разряда, источника тока с токоподводами, электронный узел с анодами, выполненный в виде пар зеркально - параллельных призм с электроизолированными экранами, отличающаяся тем, что, с целью повышения производительности и качества очистки путем обеспечения неограниченного перемещения катодных пятен дугового разряда вдоль обрабатываемой ленты, призмы анодов установлены токоприемными гранями симметрично относительно оси ленты, параллельно ей и вдоль направления ее перемещения, а экраны монтированы за пределами обрабатываемой ленты и только на анодах.

Номер патента: 1802550

Опубликовано: 15.12.1994

Авторы: Абдулов, Булат, Груич, Кирсон, Эстерлис

МПК: C23C 14/56

Метки: испаритель, металлов, протяженный, электродуговой

...электродуговой испаритель (фиг. Ц состоит из электроизолированных секций катода 1, каждая из которыхизготовлена иэ металла, входящего в составмногослойного покрытия, механизма 2 перемещения катода, обеспечивающего поступательное перемещение его в горизонтальнойплоскости. Вдоль катода, с обеих сторон35 40 жигают дугу, в результате чего обеспечивается перемещение катодных пятен по длине секции катода 1, После завершения напыления определенного металлического слоя выключают источник 5 питания. Затем с помощью механизма перемещения катода 2 подводят в рабочую зону другую секцию катода 1, изготовленную из другого материала, так, чтобы обеспечить надежный контакт ее с токоподводами от отрицательного полюса 45 иСточника 5 питания,...

Номер патента: 1802437

Опубликовано: 15.12.1994

Авторы: Абдулов, Булат, Груич, Кирсон, Пичко, Эстерлис

МПК: B08B 9/04

Метки: внутренней, поверхности, трубы

...блока 13.Установка работает следующим образом,Очищаемую трубу 1 с помощью механизма 2 загрузки-выгрузки подают в рабочую зону катода 3, Прижимают подвижное вакуумное уплотнение 5 к трубе 1 с помощью механизма 6 прижатия, тем самым вводят электрод 10 внутрь трубы 1 и прижимают к токовому контакту 11, расположенному в центре неподвижного вакуумногоФормула изобретения1, УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ТРУБЪ, содержащая механизм фиксации трубы, выполненный в виде катода, с закрепленными на нем неподвижным уплотнением и подвижным уплотнением, посредством которого труба соединена ссистемой вакуумной откачки, и анод, 354050 55 мощью механизма 2 .загрузки-выгрузки на следующую технологическую операцию., Следующую трубу подают...

Номер патента: 1836992

Опубликовано: 30.08.1993

Авторы: Абдулов, Булат, Груич, Кирсон, Эстерлис, Юнусов

МПК: B08B 7/04, B08B 9/00

Метки: внутренней, поверхности, трубы

...подключен к переключателю 14, через который потенциал передается попеременно на секции механизма 3 фиксации трубы 1. Мощность источника питания 9 регулируют изменением напряжения блока 15.Установка работает следующим образом. Очищаемую трубу 1 с помощью механизма 2 загрузки-выгрузки подают в рабочую зону механизма 3 фиксации, Прижимают подвижное вакуумное уплотнение 5 к трубе 1 с помощью механизма б прижатич, тем самым вводят анод 10 и экран 12 со щелью внутрь трубы 1 и прижимают элект-. род 10 к токовому контакту 11, расположенному в центре неподвижного вакуумного уплотнения 4, Через отверстия 7, расположенные вокруг токового контакта 11 с помощью системы вакуумной откачки, создают давление. остаточных газов в трубе, необходимое уля...

Номер патента: 1695704

Опубликовано: 23.12.1992

Авторы: Груич, Кирсон, Эстерлис

МПК: C23C 14/02

Метки: вакууме, дуговым, поверхности, разрядом

...поверхУдельнаямощность, кВт ч/м Сталь горячекатаная Х 18 Н 10 Т Окалинаполно 200 20 10 0,21 0,21 стью удалена То же0,680,770,8 150 300 250 Бр, АЖИМЗ Сталь 65 Г Сталь Рб М 5 Сталь горячекатаная . Х 18 Н 10 Т 2,047,73,2 23 24 23 1 5 1 3 10 4 Окалина удалена, поверх- . ность оп- лавлена 200 19 1,67 1,2 0,82 ность электрода-анода, так как в процессе перемещения экрана открываются участки анода, ранее не участвовавшие в работе. Это устраняет перегрев поверхности, чем повышается качество обработки. Кроме того, наличие экрана с отверстием уменьшает поток продуктов эрозии, осаждающихся на электроде, Это приводит к стабилизации процесса горения разряда, а следовательно, и к повышению качества обработки.Способ обработки осуществляется следующим...

Номер патента: 1145690

Опубликовано: 30.10.1992

Авторы: Арустамов, Груич, Пичко, Эстерлис, Юнусов

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...рованный ограничительный экран, торецанода, обращенный к катоду, выполненв виде выступа треугольного профиля,снабженного остриями, а ограничительный экран размещен между анодом истаканами катода и выполнен с отверстиями, совпадающими с местоположениями острий и зазора между внешним ивнутренним стаканами,На чертеже показано устройстводля нанесения покрытий в разрезе.Устройство содержит катод, выполненный в виде соосных разновысокихстаканов 1-3 с центральным стержнемвыполненных иэ тугоплавкого металла и установленных с зазором друг отдруга, полый цилиндрический анод 5 иэлектроизолированный ограничительныйэкран 6, Стаканы катода сообщаютсямежду собой отверстиями 7, выполненными в боковых стенках внутреннихстаканов, и размещены в...

Номер патента: 1698916

Опубликовано: 15.12.1991

Авторы: Белкин, Груич, Джурахалов, Морозов, Пичко, Умаров

МПК: H01J 49/14, H01J 49/26

Метки: анализа, количественного, кристаллических, послойного, твердых, тел

...атомы мишенив направлении, практически перпендикулярном плоскостям падения и рассеяния ионов, т,е. рассеянные и распыленные частицы пространственноразделены, вследствие чего увеличивается отношение сигнала к Фону, чтоприводит к увеличению чувствительности анализа в 10 раз,Кроме того, при скользящих углахпадения ионов облегчается анализ распыленных компонент твердой кристаллической мишени в связи с тем, что онивылетают в определенном азимутальномнаправлении ( 1. = 85 + 5 ) по отношению к плоскости рассеяния пучка. Спомощью моделирования на ЗВИ в приближении парных столкновений былиисследованы траектории ионов Аг сЕ = 7 кэВ, испытывающих скользящеерассеяние ф = 5 ) на поверхностимонокристалла Си (100) ( 110), атакже образование...

Номер патента: 1269216

Опубликовано: 07.11.1986

Авторы: Груич, Пичко, Суровцев, Тухтаев

МПК: H01J 49/48

Метки: энергоанализатор

...0(. О 6 Н ОСТЬ Э Н Ср Г О я Н илизаторд. Диафрагмы 4 и 5 ограничивают в цсм сектор в 63,6", и диафрагмы 5 и 6сектор с углом ряс) воря Г), соответствукщим конкретно выбрзцному энергознализзтору.ЗО 113 Выхо(с энсРГОс)цс(11 изстОРЗ за лис 1 фРс(гмой 6 расположен детектор 9 зцилизирусмыл 10 Э 1 СРИ 51 М Зс 1 РЯ Ж(с 1(1 Ь Х с 3 СТИ 1.Устройство работает следу)опп(м обрг(зос(.ДЛя ИСПряВНОй рс(бо ц СГО раСВЛаГаКт В Вс 1 КУУМС С ЛЗВЛ(ИСМ, НС ПРСВЫПаК)1 СИ(с р(1 10гор. 11 аряллсльнцй пучок знилизирусмых заряжсннцх частип сечением, 0 риничсннь(м п,опсадьн 1 ЛЯ. Ис(.и 7 13 коллимирукшнй диафрагме 4, перпендикулярцо к плоскости Иели 7 входит в иилинл 4 О ричсскии кондс цсдтор 1. Зятем в 63,6"- секторном элс ктричсском иоле, орациченлиафрсгмами 4 и...

Номер патента: 1092209

Опубликовано: 15.05.1984

Авторы: Груич, Пичко, Тангриберганов, Эстерлис

МПК: C23C 13/12

Метки: легкоплавких, металлов, нанесения, покрытий

...и электрод 14 образ лот короткофокусную линзу, формир глощую сходявийся пучок ионов иепарлемага металла, Изменением разности поте - циалов между анодам 1 к электродом можно управлять кривизной плазменной поверхности в объеме анода и изменять фокусное расстояние образующей линзы, Цилиндрические электроды 14 и 15 в свою очередь образуют длиннафокусную иммерсианную линзу, в которой иаыдополнительно ускоряются да высоких энергкй приложением между ними саответствуошей разности потенциалов ат высоковольтного ксточнкка. Выборам соотношений разностей потенциалов, приложенных между электродами 1, 14 и 15 плязмооптическсй систены можно добиться параллельности пучка ионов и размера плащадк подложки, обрабаты 50 ваемой пучком с равномерной...

Номер патента: 820388

Опубликовано: 07.02.1984

Авторы: Груич, Загромов, Косицын, Куликов, Пучкарева, Раджабов

МПК: G01N 25/18

Метки: металлов, свойств, теплофизических

...этой термопары, предварительно усиленный Фотоэлектрическим усилителем 11 Ф/2), подается через магазин 12 сопротивлений на самопишущий потенциометр 13 КСП). Вблизи образца помещается датчик 14 парциального давления газов типа И ПДО, сигнал от которого поступает на самопишущий потенциометр 15 КСПи электрометр 16.Для того, чтобы определить количество частиц, десорбируемых с поверхности образца при электронной бомбардировке, вакуумный объем 2 35 изолируют от средств откачки цеолитовый насос 17, магниторазрядный насос 18) с помощью высоковакуумного крана 19 и регистрируют изменение парциального давления с помощью дат чика 14 и общего давления с помощью ", высоковакуумного датчика 20 типа МИв течение 5 мин после изоляции вакуумного объема при...