Либерто
Устройство для нанесения тонких пленок в вакууме
Номер патента: 1809840
Опубликовано: 15.04.1993
Авторы: Либерто, Франческо
МПК: C23C 14/32
Метки: вакууме, нанесения, пленок, тонких
...и направляются к противоположной стенке под углом, ограниченным 30 градусами. Атомы доходят до противоположной стороны катода и возвращаются в обратном направлении, но при этом они не сталкиваются с другими частицами,При таком рикошете атомы с большей вероятностью сталкиваются с электронами газа, образующего плазму, и в свою очередь ионизируются. Между стенками катодов образуется большое количество ионов, которые под действием положительного заряда анода 5 устремляются к противоположному выходу и затем к подложкодержателю 8, на котором происходит осаждение требуемого покрытия,Для получения достаточной степени ионизации атомов и соответствующих ионов и для получения требуемой толщины тонкого слоя, расстояние между мишенями 1 и 3...