Патенты с меткой «пленок»

Номер патента: 985135

Опубликовано: 30.12.1982

Авторы: Пильников, Усвяцова

МПК: C23C 3/02

Метки: осаждения, пленок, раствор, серебра, сульфида, химического

...азотнокислое 0,001 - 0,02 Натрий иодистый О, 1- 3,0 Унитиоп 1 10 о.1 б В предлагаемом растворе осаждение плнок сульфида серебра толщиной 600- 1500 А осуществляют при 70-80 оС в течение 1-1,5 ч. Раствор при корректировке по серебру стабилен в течение более 2,5 мес, Содержание сульфида сереб ра в покрытии составляет 96-99%; по,5.10 2,5510 2,5 0 3 Как видно из таблицы, .но работает в течение 3 зование сульфида серебра п ко на твердой поверхности иодистый, а в качестве серусвосстановителя - унитиол (дипропансульфонат натрия) присоотношении компонентов, моСеребро азотнокислое аствор стабильх мес, а обраоисходит толь подложки. од ержащег меркап толедующем ь/л: 0,0010,1"10 2 атрий иодистнити ол.зобретени р м мического осажденияребра,...

Номер патента: 988572

Опубликовано: 15.01.1983

Авторы: Деев, Кац, Коссе, Кремлин, Чеча

МПК: B29C 27/02

Метки: непрерывного, пленок, полимерных, рукавных, соединения

...друг над другом пластин 12, в зазорах между которыми установлены сопла сварочного экструдера 13 и механизмы 14 для прикатки швов, У основания пластин разделительного приспособления закреплены ножи 15 для разрезки рукавных пленок после их сварки. Сварочный экструдер посредством винтовой тяги 16 может перемещаться вдоль своей продольной оси, перпендикулярно направлению движения пленок, Управление устройством в процессе сварки осуществляется дистанционно с пульта управления 17.Устройство работает следующим образом.Рулоны с рукавной пленкой устанавливают на механизме размотки 2, Концы пленок протягивают над столом 4 таким образом, чтобы пластины 12 разделительного приспособления 11 проходили внутри рукавов. При дальнейшем протягивании...

Номер патента: 990540

Опубликовано: 23.01.1983

Авторы: Зуенко, Кац, Кремлин, Порошин, Тришкина, Чеча

МПК: B29C 27/02

Метки: непрерывного, пленок, полимерных, рукавных, соединения

...экструдер 3 со сварочными головками 4, 990540прикатывающие ролики 5, приспособление б для разделения пленок и меха-,низм 7 намотки.Механизм 2 размотки пленок включает рулонодержатели 8, каждый изкоторых установлен между прижимными 5конусами 9, Прижимной конус 9 с одной стороны рулонодержателя 8 свя"зан с валом 10, проходящим через опору 11, и с тормозом 12, а с другойстороны - с валом 13, имеющим резь Обовое отверстие 14 для прохождениявинтового прижима 15 и установленньжв опоре 16. Опоры 11 и 16 закрепленына каретке 17, которая снабжена вин-;товьи оори 18, перемещающимисяв направляющей рамке 19,Приспособление 6 для разделенияпленок выполнено в виде пакета консольно установленных с зазором другнад другом пластин 20, мелщу которыми...

Номер патента: 992450

Опубликовано: 30.01.1983

Авторы: Белюсенко, Кареев, Кошляк

МПК: C03C 9/00

Метки: керамических, пленок, шликер

...- получение.покрытия при обжиге в интервале температур 980-1050 С.Поставленная цель достигается 15 тем, что шликер.для изготовлениякерамических пленок, включающий керамический порошок, воду, дополнительно содержит стеклобой листовогостекла и борат кальция при следую щем соотношении компонентов, мас.ъ:Керамический порошок 15-35 Борат кальцияСодержание компонентов в составахкерамического порошка приведено в30 табл. 1,. 30 40 35 Таблица 2 Компоненты 2 35 25 Керамический порошок стеклобой 20. 7,5 10 10 20 15 Борат кальция 50 52,5 50 Вода В качестве плавней можно испольэовать нефелиновый концентрат, стеклобой, перлит.Стеклобой имеет следующий, состав, вес.Ъ: физико-химические свойства шпикеров приведены в табл. 3. Шпикер готовят в...

Номер патента: 993007

Опубликовано: 30.01.1983

Автор: Лаанеотс

МПК: G01B 7/06

Метки: мера, пленок, толщины

...2 для настройки на ноль толщиномеров (не показаны) и . пленку 3, нанесенную на подложку993007 Формула изобретения д фие. Е НИИПИ Заказ 439/5 ираж 600 Подписно Фие Г На верхней поверхности подложки 1 выполнен паз, дно 4 которого удалено от верхней поверхности подложки 1 на величину И , равную требуемой .толщине пленки Епокрытия) 3Пленка 3 заполняет паз так, что 5 ее верхняя поверхность совпадает с верхней поверхностью подложки 1.Мера толщины пленок снабжена основанием 5 с пазом 6, в который запрессована подложка 1, выполненная из 10 элементов Е не обозначены) разных материалов.Прочие размеры меры определяются исходя из размеров измерительных головок толщиномеров, а также от раэ новидностей применяемых материалов для изготовления...

Номер патента: 993108

Опубликовано: 30.01.1983

Авторы: Горбачевский, Шпилевский, Янушевский

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезии, пленок, подложке, тонких

...следующим обраэоме 1 ОНа поверхность подложки устанавливаюФтрафарет, имеющий одинаковые рядом расположенные окна, например, в виде кругов,квадратов, элементов микросхем и т.пНаносят, например, термическим испарением 1на подложку через трафарет группу пленокиз испытуемого материала и после конден-сации пленок трафарет снимают, Разделенные на отдельные элементы пленки выравнивают неоднородности от обработки пьверхности подложки и обеспечивают равномерную адгеэию пленок к подложке.Подложку с нанесенными на нее пленками погружают в активную жидкую срду. При этом активная среда одновременно воздействует на границы соединениявсех пленок с подложкой. Воздействиеактивной среды осуществляют до отслоения заданного количества пленок от...

Номер патента: 995016

Опубликовано: 07.02.1983

Автор: Пронин

МПК: G01R 27/26

Метки: диэлектрических, диэлектрической, локальной, области, пленок, полупроводниковых, проницаемости

...расположены над исследуемой пленкой б на подложке 7,Устройство работает следующим образом.В исследуемой области пленки из,вестной толщины наносится локальныйзаряд Чр с помощью коронирующегоэлектрода 2 и блока 1. Заряженнаяобласть транспЬртируется под измери.тельным электродом 3, размеры которого боЛьше расстояния до заземленной подложки 7, так, что справедливо приближение плоскопараллельногослоя,Далее измеряются индуцированныена электроде 3 заряды при расстояниях от него до поверхности пленкиЬ и Ь 2 соответственно и вычисляется значение диэлектрической проницаемости в области, расположенноймежду локализованным зарядом и подложкой.В общем случае заряд, индуцирован,ный на измерительном электроде, определяется соотношением1 (х у )(фх у...

Номер патента: 996907

Опубликовано: 15.02.1983

Авторы: Аким, Грин, Половинкин

МПК: G01N 1/00

Метки: адгезивов, вязко-упругих, клеевых, образец, пленок, свойств

...извлекают из емкости с адгезивом и подвешивают на держатели для удаления избытка адге зива, после чего помешают материал в термостат для высушивания. После окончательного высушивания и кондиционирования вырезают образцы, Образцы предназначены для проведения физико-механических испытаний, предпочтительно воздейст 2 о вием крутильных колебаний. Изготовленные образцы могут подвергаться как однократному, так и многократному пропитыванию адгезивом.996907 Формула изобретения Составитель Г. Новикова Редактор,г 1. Веселовская Техред И. Верес Корректор Г. Решетник Заказ 921/60 Тираж 871 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж - 35, Раушская,наб д. 4/5 Филиал ППП Патентъ, г. Ужгород,...

Номер патента: 996962

Опубликовано: 15.02.1983

Авторы: Мурзаев, Рашидханов, Страхов

МПК: G01R 33/12

Метки: магнитных, пленок, свойств, тонких

...работает следующим образом.В процессе обеэгаживания прибора, на внутреннюю поверхность которого йанесен проводящий слой 5 оО, обеэга живают испаритель с мелкими кристаллами исследуемого вещества (напри.мер СОТе) пропусканием тока силой 5-10 А через молибденовую спираль, намотанную на испаритель 11, иэготов ленный из кварцевой трубки в виде ампулы и впаянный в нижнюю часть стеклянного прибора. При этом кварцевую трубку-заслонку 10 выдвигают наклоном прибора,в положение 10 , предотвращающее попадание молекулярного пучка иэ ампулы испарителя 11 на диск-подложку 6. После обезгаживания при достижении необходимого вакуума, прибор отпаивают от вакуумной уста новки, кварцувую трубку-заслонку возвращают в исходное положение, исключающее...

Номер патента: 997987

Опубликовано: 23.02.1983

Авторы: Глазов, Павлова, Ятманов

МПК: B22F 9/06

Метки: пленок, расплава

...крксталлизатора смещена относктель но.оси привода.На чертеже показана схема устрой-. ства.Устройство включает вакуумную камеру 1, внутри которой помещен вибратор-кристаллизатор 2 с осью . симметрии,смещенной.относительно оси привода вращения, состоящего из электродвигателя 3 и шпинделя 4 Под .вибратором-кристаллизатором 2 расположен быстросьемный приемник 5 ни 10 Умпленок, В вакуумной камере 1 нахо"дится коаксиальный нагреватель 6,внутри которого установлен шток 7 сукрепленными на нем тиглем 8, амежду нагревателем 6 и вибраторомкристаллизатором 2 установлен дозатор 9,Устройство работает следующимобразом.Закаляемый сплав в виде измельченной шихты загружается в дозатор 9,из которого определенная порция сплава поступает в тигель 8,...

Номер патента: 1000861

Опубликовано: 28.02.1983

Авторы: Архипова, Гуров, Иванов, Ключник, Соколов, Тучин

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезии, диэлектрической, металлических, пленок, подложке, тонких

...Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, И, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП "Патент", г. Ужгород, улПроектная,3лических пленок к диэлектрической подложке, заключающемся в том, что подложку с пленкой размещают в электромагнитном поле заданной частоты и увеличивают до отслоения пленки его на пряженность, по которой судят об адгезии, используют электромагнитное поле сверхвысокой частоты 0,640000 ГГц.Способ осуществляют следующим об разом.Тонкую металлическую пленку наносят на диэлектрическую подложку одним из известных методов, например напылением. Подложку размещают в элек тромагнитном поле сверхвысокой частоты. При падении электромагнитной волны на поверхность тонкой металлической пленки происходит...

Номер патента: 1002320

Опубликовано: 07.03.1983

Авторы: Евдокимов, Егорова, Котович, Кузнецов, Мархолия, Музыкантова, Роснадзе

МПК: C08L 23/06

Метки: композиция, пленок, полимерная

...смесителе тяжелого ти па. Компоненты смешивают в расплаве полимера в течение 10-15 мин. при 120-150 фС. Полученную смесь гранулируют. Пленки получают на экструзионной машине при температуре по зонам 130-1750 С методом раздува трубки сжатым воздухом.1 ОВ табл, 1 приведены рецептуры из- Ъготовленных композиций. Оптические, , иэико-механические спектральные характеристики пленок приведены в табл. 2. 15.Старение пленок производят в климатической камере искусственного старения. Атмосферостойкость оценивают с помощью методов, позволяющих обнаружить более ранние признаки старенияг появление карбонильных групп в ИК-спектрах и снижение относительного удлинения при растяжении пленок (появление хрупкости) .Представленные в табл. 2 данные25...

Номер патента: 1002419

Опубликовано: 07.03.1983

Авторы: Бурд, Гриншпан, Журавская, Капуцкий, Кваша, Савицкая, Чеголя

МПК: D01F 8/08

Метки: волокон, пленок, раствора, формования

...в 8670 мл диметилформамида, содержащего 1100 мл,65 четырехокиси азота количество четырехокиси азота соответствует 2,2 мас . на 1 мас.ч. целлюлозы, и к полученному раствору при интенсивном перемешиванни добавляют раствор 39 г полиакрилонитрила в 230 мл диметилформамида. Для получения однородного раствора перемешивание продолжают в течение 1 чустойчивость такого раствора, характеризующая его пригодность для переработки в волокно или пленку, составила 10 суток.После обезвоздушивания и фильтрации из приготовленного раствора вводноорганическую ванну. было сформовано волокно с прочностью22,5 сН/текс и удлинением 20,6,При смешении целлюлозного . раствора, полученного при соотношениицеллюлоза 2:1 мас,ч.) с растворомПАН происходит...

Номер патента: 1004127

Опубликовано: 15.03.1983

Авторы: Иванов, Стробыкин, Третьяков, Шапошников

МПК: B29C 27/02

Метки: излучением, инфракрасным, пленок, сварки, термопластичных

...этого слоя, приваривается к пленке 2, остальные участки пленок за пределами слоя 3 не свариваются, так как инфракрасные лучи проходят через них без поглощения,Пример 1. На одной из наружных сторон сложенной вдвое рукавной полиэтиленовой пленки ГОСТ 10354 - 3 шириной 120 мм и толщиной 60 мкм типографским способом наносится светопоглощающий слой черного цвета (на всю ширину рукава) шириной 3 мм. Далее пленки прижимаются друг к другу планками с окнами шириной 10 мм.Планки с пленками перемеща 1 ртся со скоростью 0,5 м/с перед источником инфракрасного излучения, который располагается со стороны пленки, не имеющей метки. . В качестве источника инфракрасного излучения применяется лампа накаливания ин фракрасная, марки КГ 220 - 1000 длиной 500...

Номер патента: 1004748

Опубликовано: 15.03.1983

Автор: Лаанеотс

МПК: G01B 7/06

Метки: мера, пленок, толщины

...основной паз, дно 4 которого удалено отверхней поВеркности подложки 1 навеличину Ь, равную требуемой толщинепленки 3. Пленка 3 ;,аполняет основной паз так, что ее верхняя поверх- ЗО ность совпадает с верхней поверхно1004748 Формула, изобретения Составитель А, Черны)Техред Е,Харитончик Корректор Н, Корол едактор Н. Горвааказ 1850/49 Тираж 600 Подпис ноеПИ Государственного комитета СССРо делам изобретений,и открытийМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 ВН 1303 Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная 4 стью подложки 1, Кроме того, наповерхности подложки 1 выполнен второй паз, пересекакщийся с основным,прй этом дно 5 второго пазаудаленоот верхней поверхности подложки 1 навеличину Ь + Ь , равную требуемойсуммарной толщийе пленки 3 и...

Номер патента: 1014736

Опубликовано: 30.04.1983

Авторы: Андреев, Блинов, Журавлев, Зимин, Илюхин, Николайчик

МПК: B29D 7/04

Метки: пленок, поливом, фильера, формования

...выполнено в видепо меньшей мере одного пневмоцилиндра, смонтированного на станинепневмоусилителя типа сопло - заслон-ка, междроссельные полости которогосообщены с рабочими полостями пневмоцилиндра, и связанной с заслонкойпневмоусилителя рычажной системы,снабженной размещенным на.одном конце роликом, смонтированным с воэ 10 можностью свободного вращения поповерхности формующего элемента,расположенным на свободном конце на-,конечником, контактирующим с планкой, установленной на боковой поверхности корпуса, и пружинами дляподжатия ролика и наконечника.На фиг. 1 изображена фильера,- общий вид;- на фиг. 2 - разрез А-Ана фиг. 1 на фиг. 3 - принципиальная схема фильеры с устройством автоматического регулирования рабочегозазора при реакции...

Номер патента: 1014845

Опубликовано: 30.04.1983

Авторы: Барыкин, Бильдюкевич, Бобров, Гриншпан, Дубяга, Капуцкий, Каталевский, Пергамент, Юсупов

МПК: C08J 5/18

Метки: гидратцеллюлозных, пленок, пористых

...в осадительную ванну с последующей25 отмывкой и, в ряде случаев, сушкой полученной пленкиСпособ прост в технологическом отношении, а получаемые пленки имеют невысокую стоимость 12Однако пленки, сформованные по данному способу, имеют низкие значения производительности, что сильно ограничивают область их применения в мембранной технологии (7-35 л/м ч при давлении 0,15 МПа). 35Цель изобретения - повышение производительности пористый пленок.Поставленная цель достигается тем, цто согласно способу получения гидратцеллюлозных пористых пленок формиро ванием раствора целлюлозы в смеси диметилформамида и четырехокиси азота при их соотношении (2-4,5):1 в осадительную ванну с последующей отмывкой полученных пленок, в раствор пе ред формованием...

Номер патента: 1016833

Опубликовано: 07.05.1983

Авторы: Гогин, Пыхтина, Станина, Шадрина

МПК: G11C 11/14

Метки: магнитных, пленок, цилиндрических

...выходного сигнала ЦМП Ов, 45Выхот толщины Ферромагнитного слоя; йафиг, 2 - зависимость величины коэрцитивной силы Нс от амплитуты переменНОГО тока меднения 3 перем,В соответствии,с предлагаемым 50способом получения ЦМП для увеличения выходного сигнала с Г."1 П 0неэыхобходимо увеличение толщины Ферромагнитного слоя (Фиг; 1). Однакопри этом величина коэрцитивной силыЦМП НО уменьшается. Поэтому, чтобыпри увеличении толщины Ферромагнитного слоя не уменьшалась величинакоэрцитивной силы магнитного сплаваЙ,. следовательно, область устойчиВой работы ЦМП, необходимо увеличить 60шероховатость медного подслоя. Для.увеличения шероховатости медного подслоя осаждение последнего прово-дят. на постоянном токе с наложениемпеременного тока...

Номер патента: 1019380

Опубликовано: 23.05.1983

Авторы: Епанчинцев, Нюнько, Силантьев, Шелухин

МПК: G01R 33/05

Метки: дефектов, магнитных, одноосных, пленок, плотности, ферромагнитных

...работает следующим образом.Метод измерения основан на движении изолированной доменной стенки образца материала в градиенте поля подмагничивания. Наблюдение страйп-доменной структуры проводится с помощьюмагнитооптического эффекта фарадея.С помощью блока 1 формированияградиентного магнитного поля на образце 2 создается изолированная доменнаястенка, Пучок света с источника света3 проходит через поляризатор 4, образец 2, анализатор 5 и попадает на фотокатод передающей телевизионной камеры 6, С выхода камеры 6 видеосигнал от гребенки страйп-доменов образца 2 усиливается и формируется усилителем-формирователем 9. Усилитедьформирователь 9, синхронизируемый импульсами с синхрогенератора 11, устраняет неравномерность фона видеосигнала,...

Номер патента: 811792

Опубликовано: 30.05.1983

Авторы: Китаев, Ковалев

МПК: C08F 255/00

Метки: модифицированных, пленок, полиолефиновых

...триэтиленгликольдиметакрилата составляет 10-25/ от веса ак риловых мономеров с ее производнымии триэтиленгликольдиметакрилатом, .Количество нанесенной жидкости составляет 12-15/ от веса пленки. Пленку с нанесенной полимеризующейся сме-,сью помещают в герметичную камеру,продувают камеру с оЬразцом в течение3-5 мин азотом и облучают ускореннымиэлектронами с энергией 1,0 ИэВ примощности дозы 1,1 Ирад/мин.Облучение нанесенного на подложкуполимеризующегося слоя приводит к получению пористого покрытия, Для повышения механической прочности этогопокрытия в случае оЬразования в процессе оЬлучения ненабухающего в смеси мономеров сополимера пленку обрабатывают известными способами, которые приводят к склеиванию частиц пористого...

Номер патента: 1023226

Опубликовано: 15.06.1983

Автор: Стадник

МПК: G01N 3/56

Метки: испытаниях, исследования, пленок, смазочных, толщины, трения, узел

...контробраэец с цилиндрической рабочей поверхностью, на образце З дополнительно выполнен цилиндрический поясок с радиусом не менее наи.большего радиуса базовой поверхности, а контробразец выполнен в виде двух электрически изолированных друг 35 от друга дисков.На фиг, 1 изображена схема предлагаемого узла трения; на фиг. 2- разрез А-А на фиг. 1.Узел трения содержит образец 1 40 с базовой поверхностью 2, разделен-. ной пазами 3 на участки, и с цилиндрической поверхностью 4, отделенной от базовой. поверхности кольцевым пазом 5, а также контробразец 6 в виде дисков 7 и 8, разделенных электроизоляционным материалом 9, Поверхность 2 на каждом из участков имеетпеременный радиус и может быть выполнена, например, по спирали Архимеда.узел трения...

Номер патента: 1023230

Опубликовано: 15.06.1983

Авторы: Батырев, Гдалин, Зарецкий, Малинин, Попов, Семенов, Терехин

МПК: G01N 21/17

Метки: одноосно, ориентации, ориентированных, пленок, полимерных, степени

...второе, такой же 60формы.Кроме того, в центре маски выпол-.нено круглое отверстие, между анализатором и маской установлен кинематически связанный с маской кодиро ванный диск, ось вращения которогопараллельна оптической оси, причемкодированный диск имеет на периферии не менее одного отверстия круглойформы, центр которого отстоит от осивращения диска на величину, равнуюрасстоянию между осями,На фиг. 10 бц б приведено изображение масок с раэличныья отверстиями;, на Фиг. 2 - схемапредлагаемогоустройства, содержащего маску сдвумя отверстиями; на Фиг. 3 - то же,содержащего кодированный диск; нафиг. 4 - разрез А-А на Фиг. 3,Устройство (фиг.2) содержит источник 1 монохроматического малорасходящегося и поляризованного света,анализатор 2,...

Номер патента: 1023262

Опубликовано: 15.06.1983

Авторы: Алексеев, Крюков, Папорков

МПК: G01R 33/02

Метки: анизотропии, магнитных, пленок, тонких

...амплитуды высших гармоник ЭДС вторичного сигнала, создают дополнительное постоянное магнитное поле в направлении трудного намагничивания и измеряют напряженность этого поля, при котором ампли" туда второй гармоники максимальна.На фиг. 1 изображена функциональ" ная схема, поясняющая работу устройства; на фиг, 2 - зависимость амплитуды второй гармоники : от велици" ны напряженности постояйного магнит" ного поля Но для нескольких Н /Н 1,Сущность предложенного способа заключается в следующем.Вдоль оси трудного намагничивания 5 одноосной тонкой магнитной пленки, обладающей незначительной величиной угловой дисперсии анизотропии, одно 62 2временно действуют постоянное и сину"соидальное переменное магнитное поле,при этом при соблюдении...

Номер патента: 1023263

Опубликовано: 15.06.1983

Авторы: Вальтас, Ковас, Маргайтис, Чесонис

МПК: G01R 33/06

Метки: насыщения, пленок, потока, ферромагнитных

...выходных сигналов потоко 2чувствительных элементов от полногомагнитного потока включающего какмагнитный поток через пленки, так имагнитный поток рассеяния, а такжвчувствительностью к внешним магнит"ным попям.Цель изобретения " повышение точности измеренияПоставленная цель дос.игается тем,что устройство для измерения потоканасыщения ферромагнитных пленок, содержащее перемагничивающую обмотку,соединенную с источником переменного тока, два потокочувствительныхэлемента, выходы которыхподключенык сравнивающему блоку, соединенномус выходным прибором, два идентичныхразомкнутых магнитопровода, жесткосвязанных между собой и ориентированных йротивоположно причем торцыодного иэ магнитопроводов замкнутыэталонной Ферромагнитной пленкой,а...

Номер патента: 1023265

Опубликовано: 15.06.1983

Авторы: Лисовский, Щеглов

МПК: G01R 33/12

Метки: анизотропии, легкого, магнитных, намагничивания, ориентации, оси, пленок, поля

...плоскости пленки,пленку устаавливают таким образом,цтобы. ось ее вращения совпадала сномалью к поверхности пленки, освещают пленку поляризованным светом ис помощью анализатора и микроскопанаблюдают зарождение доменной структуры, вращают пленку вокруг оси,совпадающей с нормалью к плоскостипленки, подбирают ориентацию и напряженность магнитного поля такимобразом, цтобы в момент зарождениядоменная структура имела полосовойхарактер, снимают зависимости продольной и поперечной (относительнооси вращения пленки) компонент напряженности магнитного поля, соответствующих моменту образования домен"ной структуры от угла поворота плен"гки, пред ста вляют полу ченную з ависимость в виде рядов Фурье и опреде,ляют константы и ориентацию...

Номер патента: 1024714

Опубликовано: 23.06.1983

Авторы: Ананьев, Васкин, Николаев, Прописнов

МПК: G01B 21/00

Метки: волноводных, оптико-электронная, параметров, планарных, пленок

...8 опорного импудьса,внеосевого царабоцического зеркапа 9,фотоприемника 10 и регистрирующего уст714 4носительно плоскости пленки 3. Этому положению плоского врашаюшегося зеркала 7 приводится в соответствие момент появления опорного импульсе на выходе формирователя 8 опорного импульса оптикомеханического сканирующего устройства 6, что достигается соответствующим выбором положения установленных неподвижно нв .поворотном стоиике 2 и входящих в состав формирователя 8 опорного импульса светодиода и фотодиода относительно вращающегося зеркала. При измерения опорный импульс запускает рвэвериску осциллографа 12 и генератор 13 парных импульсов (с регулируемой задержкой). На вход осциллографа 12 поступает сигнал с выхода фотоприемника 10,...

Номер патента: 1024985

Опубликовано: 23.06.1983

Авторы: Водеников, Иващенко

МПК: G11C 11/14

Метки: магнитных, пленок, цилиндрических

...потока насыщения, коэффициента магнитострикции и коэрцитивной силы ЦМП путем регулирования соответственно электрического тока, температуры осаждения слоя ферромагнитного сплава и электрического тока электрополирования не- магнитной основы по результатам сравнения магнитного потока насыщения, коэффициента магнитострикции и коэрцитивной силы с эталонными величинами (1 .Недостатком известного способа является неудовлетворительная надежность, обусловленная тем, что для получения заданной величины шерохо-,. ватости поверхности немагнитной основы, обеспечивающей высокие значе" ния .коэрцитивной силы слоя ферромагнитного сплава, требуются большие величины электрического тока полирования немагнитной основы, что приводит к потерям материала...

Номер патента: 510978

Опубликовано: 30.06.1983

Автор: Жданов

МПК: C23C 13/12

Метки: микроскопа, нанесения, объектодержатель, пленок, тонких, электронного

...в канале объектодержателя со стороны, обращенной к объектодержателю.Сущность изобретения поясняетсячертежом,Объект 1 расположен в патроне 2и прижат к поверхности патрона.втулкой объектодержателя 3, в расширенииканала объектодержателя помещенадиафрагма 4, покрытая слоем испаряемого вещества 5 на части поверхности,.обращенной к объекту, Трубка 6 препят-; ЗЧствует перекосу диафрагмы при уста- .новке объектодержателя в прибор.Испаряемое вещество наносят предварительно на несколько диафрагмво вспомогательной вакуумной установ ке или другим путем, например электролитическим осаждением. Одну .издиафрагм устанавливают в канал объектодержателя так, чтобы слой испаряемого вещества находился на стороне, 40обращенной к объекту. Нагрев...

Номер патента: 1026004

Опубликовано: 30.06.1983

Авторы: Гайнутдинов, Исхаков, Фазылзянов

МПК: G01B 11/06

Метки: наносимых, пленок, подложку, толщины, тонких

...устройство обеспе.чивает повышенную точность 21 .Однако известное устройство непозволяет вести контроль толщины покоэффициенту отражения подложек,таккак при вращении карусели происходитизменение положения рабочих подложек.относительно источника излучения ифотоприемника как по высоте, так ипо углу наклона. Вследствие длинногооятического пути контрольного лучаот источника излучения до фотоприемника (порядка 1,5-2 м) даже незначительные смещения подложек вызываютполную разъюстировку системы контролятолщины. По этой причине невозможновести контроль толщины тонких пленокнепосредственно по рабочим подложкамв отраженном свете. Недостатком уст-,ройства являются также жесткие требования к самим рабочим подложкам, которые должны представлять собой...

Номер патента: 1027506

Опубликовано: 07.07.1983

Авторы: Войтехов, Готра

МПК: G01B 7/06

Метки: пленок, проводящих, толщины

...из-эа деФормаций и механического износа сменных масок .Цель изобретения - повышение точности бпределения толцины проводяцих пленок в процессе их напыления и увеличение долговечности используемого для этого устройства. Поставленная цель достигается тем, что согласно способу определения толщины проводящих пленок в про. цессе их напыления, заключающемся в том, что направляют поток напыляемого материала на рабочие подложки и образец-"свидетель".,и измеряют сопротивление напыляемой пленки на образце-"свидетеле", периодически перекрывают поток напйляемогь материала над образцом-"свидетелем" в течение ин1027506 ВНИИПИ Эакаэ 4720/43 Тираж б 02 Подписное филиал ППП "Патентф, г.ужгород,ул.Проектная,4 терзала времени, составляющего 80-90 от...