Патенты с меткой «пленок»

Номер патента: 476599

Опубликовано: 05.07.1975

Автор: Ленивцев

МПК: G11C 5/12

Метки: магнитных, нанесения, пленок, поверхность, цилиндрических, числовых, шин

...каналов формирователя (угол скоса не должен превышать 0,5 - :1) сложны, Кроме того, сложность получения многовитковых линий нс позволяет уменьшить токи управления.Целью изобретения является упрощение технологии нанесения числовых шин.Эта цель достигается тем, что по предложенному способу поверхность компаунда металлизируют, наносят рисунок числовых шин с помощью печати на металлизированную поверхность, а затем в соответствии с нане сенным рисунком удаляют с поверхностикомпаунда металл.Последовательность операций при нанесении числовых шин на поверхность магнитных цилиндрических пленок по предлагаемому 10 способу показана на фиг. 1 - б, где 1 - провод, покрытый магнитной пленкой, 2 - компаунд, 3 - проводящее покрытие, 4 в сл...

Номер патента: 477317

Опубликовано: 15.07.1975

Автор: Жаравин

МПК: G01K 17/06

Метки: вакуумного, напыления, пленок, поверхности, подложки, процессе, температуры, тонких

...измерения по предлагаемому способу один конец подложки нагревают до температуры испарения напыляемого вещества, а другой ее конец - до температуры в два раза меньшей, затем производят три последовательных напыления с заданной плотностью парообразного теплового носителя с определением после каждого напыления положения границы пленки и чистой поверхности подложки.Измерение температуры подложки производят следующим образом.На исследуемую подложку напыляют в виде тонкой пленки парообразный теплоноситель, зависимость скорости С осаждения атомов которого от температуры поверхностного слоя подложки имеет вид ется конденсация атомов тепло- поверхности подложки вследстя напыляемого вещества. Поревания одного из концов подпературы Тр, а другого...

Номер патента: 477859

Опубликовано: 25.07.1975

Авторы: Доманский, Курицын, Селимян

МПК: B29H 1/00

Метки: борабанов, коагулюма, пленок, поверхностей, полимеров, удаления

...дрешеюшиеся в разном направлении обогреваемые беребеы 1 и 2 с торцевыми улогеячи 3, поворотный лоток 4 для полечи коегулюме каучуке в зазор между3обогреваемыми барабанами 1 и 2, каждыйиз которых снабжен неподвижным ножом 5 для отделения и сматывания на поверхности барабана пленки 6 в рулон.Каждый из обогреваемых барабанов 1 и 2 снабжен приспособлением для отбора из рулона 6 и подачи на гранулирование жгута 7 каучука, выполненным в виде консольно установленной рядом с торцем каждого обогреваемого барабана и врашаюшийся от привода на чертеже не показан) в подшипниковой опоре 8 цилиндрической головки 9 с полой цапфой 10, расположенной по ее внутренней рабочей поверхности соосно со сматываемым на барабане рулоном 6 каучука и...

Номер патента: 479649

Опубликовано: 05.08.1975

Авторы: Бреслер, Колина

МПК: B29D 7/00

Метки: пленок

...легко уда ляют с поверхности низкокипящей жидкости.Указанным способом получены в чистом виде(без подложки) пленки из полистирола от 5до 03 мк. Пример. Расчетное количество 0,5 - 0,05%-ного раствора полистирола в толуоле с помощью дозирующего устройства, например шприца, наносят на поверхность глицерина (при этом толщина слоя глицерина должна быть менее 10 мм) и нагревают в кристаллизаторе с постепенным повышением температуры до 130 С.Такую температуру поддерживают в течение 3 - 5 час. Эта температура несколько превышает температуру размягчения полистирола и перехода его в эластичное состояние н нагревание при этой температуре приводит к полному удалению растворителя и окончательному формированию пленки определенной структуры. Затем...

Номер патента: 480040

Опубликовано: 05.08.1975

Авторы: Ануфриенко, Кутко, Онсин, Перемыщев, Сандеров, Стременов, Уксусов, Царев

МПК: G03C 1/74

Метки: нанесения, пленок, фоторезистивных

...фоторезистгводержащее т становлснный на он, служащий для размещения ухгнуго систему,для отсоса возной мехачызм вращения шыили 1 ееся тем, что, с целью повыопзводительности и качествавыполнен в виде установленИзобретение относится к устройствам для нанесегния тонких, пленок ыз жидких материаловпреихгущественно фоторезистивных пленок, на плоские гподложки при изготовлении полупроводниковых и гибридных интегральных схем, фотошаолонов, масок и друпих изделий микроэлектроники,Известны устройства для нанесения фоторезистивных пленок, содержащие установленный на шпинделе патрон для подложек, вакуумную систему для отсоса воздуха и приводной механизм вращения шпинделя. Цель нзобретения - повышение производительности устройства и качества пленок...

Номер патента: 481822

Опубликовано: 25.08.1975

Авторы: Дядюн, Матусевич, Рец, Чудинов

МПК: G01N 21/00

Метки: пленок, состава, танталовых, тонких, фазового

...ТехредКарандаШОВЖорректор Н,ЯуКЗаказ 3Изд,9 ЬЪ Тираж ОО 2 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, ЖРаушская набд. 4/5 ППП Патент" Москва, Г 59, Бережковская наб., 24 3тава полученйых пленок эталонный и ана-лизируемий обрарцы размещают рядом так,чтобы поверхность анализируемого иэталонного обращов находилась в полезрения;П р е д м е т и з о б р е т е н и я,Способ определения Фазового составатонких танталовнх пленок, основанннй на окислении пленок и сопоставлении цветов окисленннх пленок, о т л и ч а ющийся т ем, что, сцелью повышения точности определения, окисле ние проводят электрохимически, а цветаокисленннх пленок сопоставляют с цветами окисленных пленок контрольных...

Номер патента: 483609

Опубликовано: 05.09.1975

Авторы: Исаченко, Лукин, Новиков, Парфенов

МПК: G01N 15/02

Метки: осаждения, пленок, скорости, толщины, тонких

...конденсатор. Толщина контролируемой пленки 2 меньше первой критической или равна ей.Устройство помещают в корпус экранированной микрополосковой линии, верхняя крышка которого выполнена из керамики с окнами, позволяющими напылять металлическую пленку только в область планарного конденсатора. Остальные участки подложки затеняются с помощью этой крышки. Затем устройство вместе с корпусом устанавливают в вакуумную камеру в зоне напыления рабочих подложек. Резонансную частоту микрополоскового резонатора 3 измеряют в процессе напыления пленки 2 с помощью герметизированных разъемов и внешнего прибора,При отсутствии металлической пленки емкость между шлейфом 4 и резонатором 3 определяется размером зазора, диэлектрическими проницаемостями...

Номер патента: 485006

Опубликовано: 25.09.1975

Авторы: Жидонис, Паулюс, Розенбергерене, Станевичюс

МПК: B29C 27/02

Метки: газообразным, пленок, сварки, теплоносителем, термопластичных

...для ввода газа и наконечник 3 для подачи нагретого газа к месту сварки.Внутри корпуса размещена перегородка 4, по периферии которой выполнены окна 5 с ,крышками 6, а в центре расположено сопла 7, Перегородка делит корпус 1 на две камеры 8 и 9, В камере 8 расположены нагревательные злементы (на чертеже не гаказаны). На корпусе 1 соосно с соплом 7 установлен диффузор 10, в котором рвэ- И мешена регулировочная игла 11, связаннаитягами 12 с крьппками 6 окон 5. Тяги 1 2 соединены с управляемым рычагом 13.Устройство работает след-ишим образом. жатый газ го трубке 2 поступает в р камеру 8 корпуса 1, где нагревается доопределенной температуры, Во время свар=: кп регулировочная игла 11 перекрывает меньшее отврстие дкффузора 10. а окна 5...

Номер патента: 485133

Опубликовано: 25.09.1975

Авторы: Аблазова, Кучинка, Цебренко, Юдин

МПК: C08G 53/03

Метки: пленок, полимерных

...С. В качестве подложек на которых испаряется диметилформамид, применяют тшательно обработанные и отполированные пластины из тефлона, нержавек- ших сталей различных марок, меди, алюминия, стекла, фарфора.Природа подложки оказывает определяющее влияние на процесс пленкообразования из растворов ПОМ, Только на фарфоровой и стеклянной подложках образуются пленки, на всех остальных подложках ПОМ кристаллизуе 1 я в виде порошка. Очень сушест,11.: Государственного кобнтета Совета Министров СССРгуг делау иаогарстени и открытийааннана, 11303 1 аушсатвн наб., 4"ЕННУО гООЛЬ ПРИ ЕтоЛ ИГРаЕТ ссэкпЕРат Оаиспарения ра.эчв у;ак.у,"ЕК 1 Е атн 1 Э 12 Напо1 ЕНКИ, а НЕ Г 4 О плон, .,. =: .,уб ув,Н ОН 3 Е 15,1 Э 4ПОДДЕРКЛватт. В ИЛТЕВ;. -.а аг:.уд...

Номер патента: 486374

Опубликовано: 30.09.1975

Авторы: Данилов, Жариков

МПК: G11C 11/14

Метки: анизотропных, вакуумной, конденсации, магнитных, пленок

...относительно источника паров магнитного сплава О так, чтобы пучок атомов падал под прямымуглом к боковому относительно направления двпжеия краю подложи и кондспсиру ют слой г 1 оловинпой толщины. Затем подложку располагают так, чтобы пучок атомов падал 5 под прямьи углом к прогпвоположпому краю,и кондснсируют второй слой, доращивающий пленку до требуемой толщины.Сочс а 1 ием двух 1 рпемоь конденсации сло.ев с псод;1 ородвым по площади полем анизоо тропин создается новый эффект - однородность поля анизотропии участков сплошных или дискретных пленок, расположенных на общей гОдчожкеОписываемый способ поясняется чертежом.25 Подогретая нагревателем 1 плоская полированная подложка 2 дважды продвигается вдоль силовых линий магнитного...

Номер патента: 487167

Опубликовано: 05.10.1975

Авторы: Белевич, Колмакова, Раснецова, Сорокина

МПК: C23F 1/02

Метки: избирательного, пленок, раствор, травления, хрома

...ры р а створ а.Предлагаемый раствор отличается тем, что в качестве окислителя использован хромовый ангидрид при следующем количественном соотношении исходных компонентов (г/л): 15Церий сернокислый 5 - 160Хромовый ангидрид 30 - 100. Сернокислый церий и хром растворяют в воде при перем бы улучшить растворение се рия, продлить срок хранения р падения осадка, в него можн ту, например соляную, в к 30 г/л, или смесь кислот.При обработке в растворе ваются края пленки хрома при фоторезистов с различной костью, не надо нагревать раст ся выход годных фоторезистов. Характеристика вариантов раствораЦерий сернокислый, гХромовый ангидрид, гВода, л дТемпература обработки, С 18Время полного стравливанияхромовой пленки толщиной0,08 мкм, мпнЦерий...

Номер патента: 488115

Опубликовано: 15.10.1975

Авторы: Арьев, Некора, Сотников, Хвощевская

МПК: G01N 3/08

Метки: испытания, образцов, пластинчатых, пленок, полимерных, радиальное, растяжение

...расположенными по его длине, на которых закреплены зажимы для крепления образца.На чертеже дана схема предлагаемой установки.На основании 1 размещены нагружающее устройство в виде диска 2 с пазом, выполненным по спирали Архимеда, и размещенными в пазу по окружности диска кулачков 3, на которых размегцены зажимы 4 для крепления образца 5, электропривод 6 нагружающего устройства и редуктор 7, вакуумная камера 8 с крышкой 9, внутри которой размещено нагружающее устройство и устройство для изучения диэлектрических свойств образцов в процессе растяжения, содержащее верхний измерительный электрод 10 и нижний электрод 11, внутрь которого ввинчиваются смен ные термоэлементы 12 устройства для обеспечения заданной температуры...

Номер патента: 491824

Опубликовано: 15.11.1975

Авторы: Буйко, Калошкин, Колешко, Лашицкий

МПК: G01B 11/06

Метки: двухслойных, диэлектрических, пленок, толщин

...к исследуемому образцу как под углом Брюстера, так и нормально к поверхности. По измеренному регистриру ю щим устройством значению коэффициента отражения р-компоненты при падении света под углом Брюстера к верхней поверхности можно рассчитать толщину нижнего слоя двухслойной диэлектрической структуры, Из теорети ческой оценки следует, что коэффициент отра491824 р - 1 Фг) фиг, 1 жения от двухслойной структуры, выращеннойна отражающей подложке, равен Г 24 кГ -1 г -1- 2 Гр )г) сои д,У(1)1+ Г 1 г 1 + 2 Г,р 1 г 1 р соз- и, а - ," где Гр - амплитудный коэффициент отражения р-компоненты от границы раздела воздУх - веРхний слой; 1 г 1 р - сУммаРный амплитудный коэффициент отражения р-компоненты от остальной структуры; Х - длина волны...

Номер патента: 494273

Опубликовано: 05.12.1975

Автор: Козарович

МПК: B29C 27/06

Метки: пленок, полимерных, сварки

...элемента с выступающей частью, например трехгранной призмы. В основании прижимной губки выполнены продольные пазы б, расположенные по обе стороны контакта нагревательного элемента 2 с прижимом 5. Прижим и отвод губки 4 осуществляется пружинно-кулачковым механизмом, состоящим из пружины 7, штока 8, размещенных в корпусе 9, к которому крепится сварочная губка 1, и кулачка 10, связанного с приводом.Устройство работает следующим образом, Подлежащие сварке загрязненные пленки 11 помещают между сварочной 1 и прижимной 4 губками, после чего прижимную губку 4 с помощью пружинно-,кулачкового механизма подводят к сварочной губке 1. В первоначальный момент соприкосновения нагревательного элемента 2, свариваемых пленок 1( и эластичного прижима...

Номер патента: 494710

Опубликовано: 05.12.1975

Авторы: Завгородний, Музыка

МПК: G01R 33/12

Метки: насыщения, пленок, потока, тонких, ферромагнитных

...Устроиство для измерения потока насыщевя тонких ф;рромагнитных пленок, содерИзобретение относится к магнитным измерениям, может быть использовано для измерения потока насыщения тонких ферромагнитных пленок, лент и проволок как из магнитомягких, так и из магнитотвердых материалов.Известно устройство для измерения потока насыщения тонких ферромагнитных образцов, содержащее колебательньш контур с перемагничивающими и измерительными обмотками, Однако функциональные возможности известного устройства ограничены ввиду значительной индуктивности перемагничивающих обмоток, Так, например, создание сильных полей, необходимых для перемагничивания магнитотвердых материалов, вызывает серьезные затруднения и не всегда возможно.Цель изобретения -...

Номер патента: 495211

Опубликовано: 15.12.1975

Автор: Козарович

МПК: B29C 27/02

Метки: загрязненных, пленок, полимерных, сварки

...колебания в плоскости, перпендикулярной направлению прижима.На чертеже изображено описываемое устройство.Оно содержит сварочную губку 1 с нагревательным элементом 2, прижимную губку 3 с эластичным прижимом 4, вибратор 5, например электромагнитный, закрепленный на угловом рычаге 6, в месте сгиба которого с возможностью вращения закреплен ролик 7, связанный с кулачком 8. Короткое плечо рычага имеет отверстие, в котором расположена ось 9 с пружиной 10. К11, размещенные р щ Ртизаторами 13.Устройство работает следующим образом.5 Подлежащие сварке загрязненные пленки14 помещаются между сварочной и прижимной губками, после чего кулачок 8 поворачивается и угловой рычаг 6 под действием пружины 10 перемещается и подводит прижим ную губку 3 к...

Номер патента: 496335

Опубликовано: 25.12.1975

Авторы: Хансюрген, Хельмут

МПК: C23B 5/32

Метки: магнитотвердых, осаждения, основе, пленок, сплавов, электролитического

...ка-2 и 1 тодного токаравной 0,5- 7 А/дм 1 и плотности анодного тока, определяемой иэ уравненияюк т/дД, 2)и-3.Тгде-плотность анодного тока,ф - пдотность катодного тока,- действующая плотность катодного тока.Импульсный ток способствует изменению состояния между катодным покрытием и переносом частиц к аноду, причем оседает тонкий кристаллический слой, создаюший условия для образования необ ходимых магнитных свойств. Изменение частоты, скввжности и действующей или катодной плотности тока оказывает влияние на освждаюшийся слой, изменением тонкого мвгнитотвердого слоя можно добиться максимального значения коэрцитивной силы, отношения оствточчой индукции или оптимального значения обоих парвметров. К электролиту добавляют 10 г/л тетра-ацетагв...

Номер патента: 498169

Опубликовано: 05.01.1976

Авторы: Завьялов, Корб, Тащинский

МПК: B29C 27/02

Метки: пленок, полимерных, сварки

...верхней части клина 1 смонтирован механизм раскрытия рукава пленки, выполненный в виде двух соединенных между собой пружиной 4 планок 5, шарнирно связанных с клином 1. По обе стороны от планок 5 шарнирно установлены на клине 1 стойки 6, связанные между собой и с планками 5 шарнирным параллелограммом 7, две вершины которого шарнирно закреплены на стойках 6, а две - на планках 5, в местах соединения их пружиной 4. Со стороны стоек 6 имеются толкатели 8, на которых закреплены стержни 9, проходящие через отверстия в сварочных губках 10 и связанные с кулачками 11, установленными на кулачковых валах 12, На валах 12 размещены также кулачки 13, связанные со сварочными губками 10. Толка- тели 8 одним своим концом связаны со сварочными губками 10...

Номер патента: 499125

Опубликовано: 15.01.1976

Авторы: Власов, Иванюков, Кабанов, Конышев, Устинов, Фридман

МПК: B29D 7/22

Метки: армированных, ориентировочных, пленок, термопластичных

...поперечной ориентации пленок и узел термофиксации.Известная установка не обеспечивает высокую прочность пленки на раздир.Для повышения прочности пленок на раздир в предлагаемой установке тиснилыный валок выполнен с ромбовидным рисунком, образованным пересекающимися канавками, угол наклона которых к образующей валка составляет не менее 60, причем отношение шага канавок к их глубине составляет от 2,7 до 3,6, а отношение ширины канавок к их глубине составляет от 0,45 до 0,7,На фиг. 1 - общий вид описываемой установки; на фиг. 2 - тиснильный валок.Установка содержит устройство для получения пленочной заготовки, например экструдер 1, валковое приемное устройство 2 с тиснильным валком 3, компенсатор 4, машину 5 продольной ориентации пленок,...

Номер патента: 500497

Опубликовано: 25.01.1976

Авторы: Бойков, Гольцман, Синенко

МПК: G01N 25/18

Метки: коэффициента, пленок, теплопроводности, тонких

...подложки,судят об искомых величинах,Однако этому устройству свойственнанизкая точность при измерениях образцовс малыми толшинами. Вызвано это тем,что о теплопроводности образца судят повремени прохождения тепловой волны черезпоперечное сечение исследуемой пленки,которое для пленок малой толщины (порядка одного микрона) равно 10-8+10-10 секв зависимости от температуропроводности 2 о образца, Регистрация и измерение подобнькк процессов представляют собой а настоящее ,время большие трудности и не могут бытьосуществлены с достаточной точностью.Бель изобретения - повышение точностф измерения коэффициента теплопроводности пленок.Достигается это тем, что проводящий ,слой выполнен в виде полоски, расположен- ной в средней части подложки между...

Номер патента: 503193

Опубликовано: 15.02.1976

Авторы: Лысый, Штельмахов

МПК: G01R 33/12

Метки: анизотропии, магнитных, пленок, поля, тонких, участков, цилиндрических

...причем вход формирователя подключен к выходу избирательного усилителя, вход ключа - к выходу усилителя мощности, а выход ключа - к регистрирующему прибору.На чертеже дана блок-схема предлагаемого устройспва.Устройст последовательно мощности, прох ельного усилителя яющего напряжени гистрирующего прибора 7 и модулятора 8, поченного к усилителю 2 мощности, причеключа подключен к выходу усилителя 2 щности,5 Устройство работает следующим образом.При помощи генератора 1, усилителя 2мощности и датчика 3 создается переменноемагнитное поле, перемагничивающее испытуемые участки пленки до насыщения вдоль0 трудной оси намагничивания. Сигнал, пропорциональный величине перемагничивающеготока, через ключ 6 поступает на регистрирующий прибор 7.В...

Номер патента: 504663

Опубликовано: 28.02.1976

Авторы: Белый, Михневич, Неверов, Пинчук

МПК: B29D 7/00

Метки: пластифицированных, пленок, термопластов

...формируют пленку путем экструдирования через плоскую щель. Материал - коллоидный раствор на основе полиэтилена низкой плотности и углеводородного масла МВП, взятых в равном весовом отношении. Толщина пленки в 25 раз превышает толщину готового изделия,Б, После затвердевания студня вальцуют пленку до значения относительного сжатия 20,В. Вымывают дисперсионную среду - масла МВП из поверхностного слоя пленки с помощью, например, ацетона, вводят в процессе его испарения вспомогательную жидкость,10 15 20 25"5046 оЗ ".Составитель Т, Никольская Текред 3, Тараненко Корректор Е. Рогайлина Редактор Т. Никольская Заказ 1029/7 Изд,1187 Тираж 814 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий...

Номер патента: 505441

Опубликовано: 05.03.1976

Автор: Крищюнас

МПК: B05C 5/02, H01C 17/06

Метки: методом, нанесения, пленок, разлива

...прикрепленную к смежным стенкам сосуда, и нижнюю подвижную часть, а для соединения частей и контроля цх положения пред-И На фиг. 1 изображено предложенное устройство, общий вид; на фцг, 2 - разрез по А-А на фиг, 1,Устройство содержит корпус 1 сосуда ;для исходной суспензии. Передняя стенка 2 .сосуда, ,образующая щель с днищем сосу да, выполнена с, прореэящЭ, которые делят ее на верхнюю неподвижную часть 4 и нижнюю чтодвцжную, часть 5. Последняя с помощью регулировочных винтов 6 имеет возможность передвигаться в оаправлениц по стрелке Б. Верхняя часть 4 передней стенки прикреплена винтами 7 к смежным стенкам корпуса, а по бокам этой стенки установлены микронные индикаторы 8.прокладка 9. Винтами 6 изменяют плошадь сечения отверстия а,...

Номер патента: 506605

Опубликовано: 15.03.1976

Авторы: Концова, Пономарев, Черноусова, Юкельсон

МПК: C08L 1/28

Метки: композиция, пленок

...пленки разрезают на образцы(10 Х 100 мм), снимают со стекла и испытывают их физико-механические свойства на30 разрывной машине,0,9514 0,9450 1,1040 230 в 2 245 в 2 195 в 2 не темнее1а Таблица 2 Молекулярный вес о хо" Ох Формула найдено вычислено 0,14: 297,60 0,14310,5 0,14245,1 С,з 1-1 зО, СзНззОз С 1 зНззОз 298,45312,48248,0 Таблица 3 Композиции, вес. ч. Поливинилхлорид 100 Растворитель (циклогексанон) 900.Пластификатор 20,Этилцеллюлоза 100. Растворитель (циклогексанон) 900. Пластификатор 20, О о Э о х о хйово2654,021 225723 1.2.3. 168 190 175 7324 15 31 ; 53 2739 160 155 4.5. 16 12 Таблица 5 Таблица 4 Название Компоненты Название Компоненты 100 900 ПоливинилхлоридЦиклогексанон1) 2,2-Пентаметилен-нонилоксиметил,3-диоксолан...

Номер патента: 506649

Опубликовано: 15.03.1976

Авторы: Айходжаев, Исмаилов, Козин, Розыахунов, Усманов

МПК: D01F 2/28

Метки: ацетиленцеллюлозных, волокон, пленок

...иков шт,в 1 млХарактеристика раствора 15 10 20 60 21 19 19 19 100 101 117 101 ЛАЦ 15 оо без форезаПосле фореза через 20 мин40 мин 10 63 65 86 72 124 129 142 133 144 149 167 152 150 177 197 183 12 14 16 19 60 мин следования. Измерение свойства раствора диацетата целлюлозы после электрофореза приведены в табл. 2. Таким же образом, как в примере 1 получаем раствор диацетата целлюлозы с концентрацией 20%, а так же проводим его исТаблица 2 Фнльтрат, мл при 1 атм Число геликов,шт.Вязкость,Образец,время, мин Характеристика раствора 10 15 20 60 4965 85 109 5472 7390 17 3033 55 20 34 28 46 113 113 111 11 15 40 73 46 62 ЛАЦ 20 ОО без форезаС форезом через 20 мин40 мпн 28 ЗО 31 32 60 мин ности определяют средне-весовой радиус мик ро"сльчасгп (...

Номер патента: 510531

Опубликовано: 15.04.1976

Авторы: Вовнянко, Воробьева, Кондак, Черноус

МПК: C23B 13/06

Метки: осаждения, пленок, суспензия, токопроводящих, электрофоретического

...содержащую 100 г/л поТипог)а 1)ия, по. Сапунова, и рошка метяллополиме 1)а разаС 1)0) 0,1 мкм, состоящего из 85% цинк : 157 о сОлы 3-41,О0,1 /О дпс 1.пэрован(Ой всды: 0,2 вес.,оо ,от ВЕСа ТВЕрдой фяЗЬ ) ЗО 1 рОППЛбси)ОЛС С ьфоиата оа 1)ия, КОТ 01)ьй ьводят в впдс 50(ио раствора в масле ДС, прп использовании ь качестве дисперсноШой среды гексяна. Лпод катод металлплеские. Покрыт;е япосят па диэлектрик пягрме 1) (1)яр(1)ор ил: стекло, па- ходЯщийсЯ пя 1)ясстОЯии 1.с богсс чсм 0,э с)1 от металлчсского катода или и пепосредст- ПЕННОМ КОНТКТЕ С НИЭ, 1,анрягКСПОСЬ ЭЛЕК- трического поля составляет 250 и,см 1 температура - 18 - 25 С. Через 15 сек ня диэлектрике образуется металлополпмерняя пленка толщиной 20 - 25 мкм, которая зятем...

Номер патента: 512214

Опубликовано: 30.04.1976

Авторы: Григоренко, Князева, Манекина, Медведева, Розенберг, Склема, Соловьева, Тяжло, Якубов

МПК: C08F 216/06

Метки: линейный, пленок, покрытий, сополимер, статистический

...(МВЭДЗГ), 50 г мстанола и О, 72 г д 1 гиитрила азоизомасляиойкислоты. Смесь нагревают до 65 - 70 С и полксп 1: "От и 1:со смен1 2 П 111 В тс" синс 12 час. Полси;11 Сопол;1 мср ВА с мБЭ ЭГс .1 О я от ппи 00 - 00 С в тс:сцентрация), после 1 сго ргстзор охлгжда 10 т до 40 С иНс 1 Доба;1 ля:От 1%-ньй раствор едкого 1;гтра В мстгно.10 из расчета 1.5 моль иг 100 мольнь;х звс 11 ьсв сополимера.Рс 2 кц 1 ю Омылния продол 1 кгют В тссние 2 ч 2 с при псрсмсш:В 2 нии. ПО;1, ч.От порошкообразный сополимср ВС с 3 мол, /о Л 133 З,.Э 1, кото 0 ь й Отделя 10 т От ыаточ 1:Ои жидкости и сушат при 35 - 0 С в вакууме 300 - 500 мм рт. ст.Выход от теоретического 96,5%, харгктерисп 1 ческая вязкость 0,75 дл,г, Сопол;1- мер растворяется в воде при...

Номер патента: 512349

Опубликовано: 30.04.1976

Авторы: Буравцев, Введенский, Прохоров

МПК: F26B 3/30

Метки: пленок, плоских, подложках, полимерных, термической

...вакуумного коллектора 6 и далее переходят в замкнутый контур ресивера 7.В центре платформы 1 вертикально установлен распределитель лучистого теплового 20 потока, выполненный, например, в виде конуса 8, основание которого размещено в отверстии платформы 1 совместно с приводом. Устаногка также содержит камеру 9, 25 торой по вертикальной осп смонтирова 1лектор 10 с источником инфракрасного чеппя 11. В каче:твс источника ИК-и нпя 11 могут быть использованы зерка сушильные лампы или галогенные ламп 30 каливання.Термическая обработка полимерных пленок на ситалловых подложках осуществляется следующим обр азом.Подложки 4 с полимерными пленками устанавливаются на платформу 1. Создается небольшое разрежение в полости, и подложки 4 плотно...

Номер патента: 513117

Опубликовано: 05.05.1976

Авторы: Кершман, Максимова, Федоров

МПК: C23F 1/02

Метки: арсенида, галлия, локального, пленок, раствор, травления

...может быть осуществлено ни одним из известных травителей. Либо травитель не являетея полирующим к используемой плоскости (100), либо обладает недопустимо большой скоростью травления (1,0- - выше), либо дает Чмкмобразный профиль травления с одновременным разрушением пленки фоторезиста, либо обладает диф- М Плавиковая кислотаПерекись водородаФторид аммония 385,71,5-26 стальн условиях комнатной температуры (20 С) и ушает пленки фоторезиста. Травление эпитак ых пленок ОаА 5 проводится в объемес пе раэаль. та пленок ОаА 5 используется пр меэа-планарных транзисторов, р -ди назоне, н раствор для локал,ного травлнок арсенида галлия, содержащий плавиколоту и перекись водорода. Раствор обеспечивает получение полированноиверхности дна фигур...

Номер патента: 513865

Опубликовано: 15.05.1976

Авторы: Анохин, Бровцев, Добровольский, Ляшенко, Рогожин

МПК: B29C 27/02

Метки: пленок, полимерных, сварки

...и подпружиненный сварочный элемент. Однако эти устройства позволяют получать только прямолинейные швы 5 на пленке.Целью изобретения является получение шва с плавным криволинейным контуром.Поставленная цель достигается тсварочный элемент выполнен в виде штановленного в корпусе с помощью шопор.На чертеке изобракено предлагаемоетройство.Устройство содержит корпус 1, в котором 15 смонтирован нагреватель 2 в виде индуктора или электронагревателя в керамической изоляции. Нагреватель обхватывает часть сварочного элемента 3, выполненного в виде шара, связанного через фиксирующий антифрик ционный элемент с корпусом 1. Фпкснру 5 ощнй антифрикционный элемент выполнен в виде шаровых опор 4, одна из которых снабжена регулируемым прижимным...