C23C 13/12 — C23C 13/12

Номер патента: 444834

Опубликовано: 30.09.1974

Авторы: Седых, Сидоров

МПК: C23C 13/12

Метки: графитовый, нагреватель, подложек

...практически всей площади нагревателя.Этопозволяет существенно повыситьвроизводительность вакуумной устаноаки; Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано.для нагревания подложек микросхем.Известные графитовые нагреватели подложек, выполненные в виде пластины, электрически соединенной с токопроводами, имеют изотермическую зону, площадь которой существенно меньше общей площади нагревателя, и, следовательно, не позволяет с мшксимальной эффективностью использовать вакуумные установки,Цель изобретения - расширение изотериической зоны нагревателя.Это достигается тем, что в теле пластины на участках, прилегаацих к токопроводам, выйолнены отверстия, поперечное сечение и количество которых выбраны в...

Номер патента: 449119

Опубликовано: 05.11.1974

Авторы: Белов, Козаков, Плышевский, Пономаренко

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель

.... О,.т вго ширины по краям, Испариталь снабжен токоподводамй 4,Испаритвль работает следующимобразом.Мвталлизирувмая лента 5 дви 15 жется Вдоль центральной Оси 6 ис)арителя. Ширина ланты 5 равнаили близка ) по ширине зоне испарения. Испарявмый материал нагревается за счет пропускания через него20 ПОСтсяННОго ИЛИ ПЕРемвнного тока.Ток к испарявмому материалу подвоДИтСЯ С тОМОщЬВ ОХЛажДавМЫХ ТОКОподводов 4, вварвнных э твердуючасть материала 3 и Вынесенных за25 повделы зоны испарения. Р канале 2поддврживавтся постоянный уровень испарявмого матвриала. Скорость испарения регулируется за счет изменения твмпвратуры процесса путвм изменения подводимой к испаритвлю мощности. Вследствие постоянства поперечного свчвния расплавленного матвриала...

Номер патента: 454284

Опубликовано: 25.12.1974

Авторы: Клыков, Кокориш

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, паро-газовых, прямоточный, смесей

...испаритель.Испаритель содержит цилиндрический сосуд 1, например, из кварца, разделенный на две части перегородкой 2. Нижняя часть испарителя представляет емкость 3 для испаряемого вещества, снабженную трубкой 4 для наполнения этой смкостц испаряющимся веществом (лигатурой). Верхняя часть испарителя (камера 5 насыщения) снабжена трубками ввода б и вывода 7 газа-носителя, Йс 5 паритель с установленным в нем капилляром8 помещен в термостат 9, внутри которогоциркулирует термостатирующая жидкость.Испаритель работает следующим образом,Газ-носитель проходит через камеру 5 насы 10 щения, где захватывает пары легцрующегокомпонента с поверхности капилляра 8. Диаметр капилляра определяется в зависимостиот требуемого диапазона концентрации лигатуры...

Номер патента: 456053

Опубликовано: 05.01.1975

Авторы: Клебанов, Сумароков

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, испарения, тигель

...нейтральных атомов 8. Крышка 9 устраняет испарение материала вверх, выполняет функции экрана. Боковые отверстия 10 служат для откачки виутренней полости тигля,мет изобретени Тигель для ис ме, отличающ вышения качеств электрбэнергиц п 25 противоположнох ля, стенки и дно капиллярными кИзобретение относится к области нанесенияпокрытий в вакууме и может быть использовано для получения покрытий методом термического испарения.Известен тигель для испарения материаловв вакууме. Для получения потока паров в направлении вне зоны видимости открытой поверхности испаряемого материала в тигле егооснащают экранами, нагреваемыми до высокой температуры, установленными над тиглем 10и направляющими поток нейтральных атомоввниз. Однако отмечается...

Номер патента: 461164

Опубликовано: 25.02.1975

Авторы: Курилин, Лисов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель

...типа лодочка, выполненный из листового тугоплавкого металла с токоподводами, рабочая часть которого имеет секции в виде углублений для испаряемых металлов. Однако из известного испарителя выбрасываются части испаряемого материала при испарении с большими скоростями сублимирующихся веществ.Кроме того, подобные испарители при получении пленок сплавного характера не обеспечивают их высокого качества в случае испарения нескольких исходных материалов с близкими температурами испарения, загружаемых в соседние секции испарителя, испаряющихся из жидкой фазы, за счет недостаточного перемещения паров.Цель изобретения - повышение однородности многокомпонентного покрытия путем перемешивания паров отдельных компонентов и устранения выброса кусков...

Номер патента: 466300

Опубликовано: 05.04.1975

Авторы: Бальчюнас, Гайдялис, Монтримас, Таурайтис, Янкаускас

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель

...экран укреплен на теплопроводе. Форма перфорации диафрагмы выполнена идентичной форме перфорации крышки. На чертеже представлен испаритель.Испаритель состоит из контейнера 1 с перфорированной крышкой 2, нагревателей 3 и 4, отражательного экрана 5, теплопровода 6, установленного внутри контейнера 1, и перфорированной диафрагмы 7, перфорация которой идентична перфорации крышки 2,Отверстия крышки 2 перекрываются диафрагмой 7, выполненной с возможностью перемещения относительно крышки 2. Для предотвращения попадания капель испаряемого вешества на напыляемую поверхность экран 5 смонтирован на теплопроводе 6 и выпо виде навеса.Подбором диаметра отверстий или и чества в крышке 2 испарителя, а так пенью открытия отверстий диафрагмой но в...

Номер патента: 474575

Опубликовано: 25.06.1975

Автор: Урьяш

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...обра зование брызг при испарении и обеспечиваетулучшение качества получаемых покрытий. дмет изобретен 20 Электродуговой авт. св. Ме 297707 что, с целью искл испарении металл 25 годностью и улуч снабжен дополни тродом, располож говых электрозов.Изобретение относится к технологическому оборудованию для производства изделий электронной техники, радиотехники, приборостроения, в частности, к устройствам для нанесения покрытий в вакууме.В известном электродуговом испарителе металлов по авт. св. Ме 297707 при испарении некоторых тугоплавких металлов наблюдаются включения в пленку металлического покрытия отдельных мелких частичек металла, Появление этих частичек обусловлено разбрызгиванием испаряемого расплавленного металла вблизи границы...

Номер патента: 476342

Опубликовано: 05.07.1975

Авторы: Жунда, Колуж, Розенберг

МПК: C23C 13/12

Метки: вакуумных, испаритель, установок

...экрана. Эффективность действия этого экрана увеличивается тем, что он нагрет до высокой температуры, что вызывает испарение как выброшенных на него макрочастиц, так и частиц молекулярного потока. Тем самым такой экран является самоочищающимся.Испаритель работает следующим образом.Иопаряемый металл 3 в виде гранул или обрсзков загружается через отверстия 3 в контейнер 2. Испаритель помещают в вакуумную камеру с изделиями, подлежащими металлнзации, получают в ней рабочее разрежение и подают на контакты 7 и 8 испарителя начальное напряжение, достаточное для разогрева испаряемого металла 9 до температуры плавления, При этом ток проходит через нагреватель 1, торцовую крышечку 4, контейнер 2 и испаряемый металл 9, как показано на...

Номер патента: 478893

Опубликовано: 30.07.1975

Авторы: Николаев, Сычик

МПК: C23C 13/12

Метки: кислородной, нагреватель, образцов, окисляемых, плпзме, подогрева

...является контактповерхности столика с корпусом установки, Крышка 4 столика вакуумно плотно соединена с его корпусом 1 с помощью вакуумного уплотнения - металлической прокладки 6.10 Диэлектрические прокладки 2, служащиедля предотвращения короткого замыкания нагревательного элемента и максимальной передачи от него тепла на стенки корпуса, изготовлены из тугоплавкого вакуумного и теплопро водящего диэлектрика (например, окисноберрилиевой керамики).С целью осуществления процесса получениянеобходимой окисной пленки диэлектрическая подложка 7 с нанесенным слоем окисляемого 20 вещества 8 жестко закрепляется на столике иподводится к окну плазменного генератора 9.Процесс подогрева образцов осуществляетсяследующим образом.В момент...

Номер патента: 484267

Опубликовано: 15.09.1975

Авторы: Кириченко, Юков

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, электродуговой

...состояние, при котором электрод замыкается с катодом, образуя снова цепь тока катод - электрод в электромагнит в ,20 испам 2, изокорю атной элек- ктроП ет изобретени Электродуговои анод, катод, экран,25 источник питания,что, с целью повыш он снабжен электро механически связан дом, а обмотка вкл 30 жигающий электродИзобретение относится к области "а "есения покрытий в вакууме.Известен электродуговой испаритель, содержащий анод, катод, экран, поджигающий электрод и источник питания электродуги. Однако при поджигании дуги в таком испарителе часто происходит приварка поджигающего электрода к катоду.В целях повышения надежности работы предлагаемый испаритель снабжен электромагнитом, якорь которого механически связан с поджигающим...

Номер патента: 512249

Опубликовано: 30.04.1976

Авторы: Ельчанинов, Зиновкин, Красанов, Панкратов

МПК: C23C 13/12

Метки: вакуумная, нанесения, поверхностью, подложки, покрытий, рельефной

...расположены испарители 3. На барабане закреплены подложкодержатели 4 с подложками 5, на которые наносится пленка 6 (фиг. 2). С внутренней и внешней сторон барабана расположены нагреватели 7.Установка работает следующим образом.Вакуумная камера 1 откачивается до давления, необходимого для термического испарения напыляемого материала. Затем включается вращение барабана 2. Подложкодержатели 4 начинают вращаться вокруг своей оси. Включаются нагреватели 7, и барабан с подложками нагревается до необходимой температуры, Затем испарители 3 нагреваются до температуры термического испарения наносимых материа лов. Пары материала при соприкосновении сболее холодными подложками осаждаются на них в виде тонких пленок.В связи с тем, что...

Номер патента: 284883

Опубликовано: 15.05.1976

Авторы: Андреев, Козлов, Романов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, электродуговой

...хуз малых зазоравольно возвращность катода, прверхности катодпроизвольно не дом 3 и ого ано катодн боковую дшим ус х катод ается н и этом а при а спет. анодом 2, а ток в цеда 4 появляется лишь ого пятна с торцевой ловиям горения дуги ное пятно самопроиза торцевую поверх- дуга на торцевой по- таких условиях самоПредложенный испаритель отличается от известного наличием дополнительного анода, охватывающего нерабочую поверхность катода. абильное горение дуги 10 бретени ФормЭлектродуговподжигающий э 15 чающийся тстабильного гор испаритель сна охватывающим ла ой и лектр ем, ч ения бжен нера авлен пред аемыи ит из поджигаю атода 3 и допо ающего нерабочу щего электрода 1, нительного анода ю поверхность каокрыти авис распол ителе г...

Номер патента: 359977

Опубликовано: 15.05.1976

Авторы: Андреев, Романов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, электродуговой

...появление двойного дугового разряда и,как следствие, дуговой разряд между анодоми экраном, приводящий к выходу из строяиспарителя,Целью данного изобретения является повышение надежности и устойчивости испарителя.,Эта цель, достигается тем, что между экрном и анодом включен конденсатор.На чертеже представлен общий вид испарителя.Испаритель состоит из анода 1, испаряемого катода 2, экрана 3, охватывающего нерабочую поверхность катода, и поджигающего приспособления 4. Между экраном 3 ианодом 1 включен конденсатор 5. Катод 2 иэкран 3 укреплены на изоляторе 6, Поджигающее приспособление 4 изолировано откорпуса испарителя изолятором 7 и соединено с анодом 1 через ограничивающее сопротивление 8. Сопротивление 8 уменьшает токчерез...

Номер патента: 367755

Опубликовано: 15.05.1976

Авторы: Андреев, Романов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...анода.На чертеже представлен предлагаемый электродуговой испаритель металлов, общий вид.Испаритель состоит из корпуса-анода 1, внутри которого расположены катод 2, поджигающее устройство 3 и дополнительный анод 4, расположенный коаксиально с катодом 2. Катод 2 выполнен в виде стакана, обращенного внутренней поверхностью в сторону корпуса-анода, причем верхняя кромка а- тода расположена не выше верхней кро н дополнительного анода 4.После откачцванпя воздуха из камеры довысокого вакуума кратковременным прикосновением поджигающего устроцства к верхпеи кромке катала зажигают электрическло дугу. Катодное пятно сбегает внутрь полости катода и начинает гореть ца дне стакана, ис паряя его. Часть испарившегося металлаконденсируется на...

Номер патента: 515835

Опубликовано: 30.05.1976

Авторы: Абеле, Екимов

МПК: C23C 13/12

Метки: контактное

...с контактами 2, водоохлаждаемых и токоподВодящих труоок 3.Стойка 1 представляет собой трубу 4 с распределительной головкой 5. В верхней части распределительной головки 5 выполнены отверстия, часть из которых - сквозные.В верхней части распределительной головки 5 расположены попарно четыре водоохлаждаемые и токоподводящие трубки 3, обеспечивающие подвод к каждому контакту 2 и отвод от каждого из них охлаждающей воды. Контакты 2 соединены термобиметаллическимэлементом 6, находящимся в зоне нагрева испарителя, причем оп расположен так, что активных слой Б при нагревании удлиняется5 больше, чем пассивный В,Работа устройства происходит следующимобразом.Испаритель помещается между контактами2. Вода для охлаждения подается в полость10 трубы 4 и...

Номер патента: 519501

Опубликовано: 30.06.1976

Авторы: Бобровничий, Воронин, Зиновьева, Клебанов, Ночный, Сумароков, Цыбульский

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, испарения, конденсации, материалы, нанесения, покрытий, порошковые, путем

...8 порошка, выполненного в виде гиб кой мембраны, края которой имеют борта и кцентру которой при помощи полой стойки 9 и узла уплотнений 10 присоединен вибропривод 11. В центре гибкой мембраны выполнено отверстие, в которое вставлена конусная проб ка 12, соединенная внутри стойки 9 тягами 13и рычагами 14 с механизмом 15 подъема и опускания пробки 12, расположенным вне камеры 1. Под мембраной расположен нагреватель 16.20 В другом вариант выполненперемешивателя 8 к го заккуумной камере 1 едствомментов 17.Процесс нанесения покрытий на порошко.25 вые материалы происходит следующим обра.зом.В загр 5 поленное к шка.закрываю ней в30 10 -- 10 - дозамое количество порошка поступает в держатель-перемешиватель 8, который...

Номер патента: 532659

Опубликовано: 25.10.1976

Авторы: Белов, Плышевский, Пономаренко

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель

...3,дет зв пределы зоны испарения и попадет под загрузочное устройство. При этом не допускается выход тигля с металлом зв пределы эоны испарения, Минимальная величина хода тележки в одну и другую сторону от зоны испарения равна поповине длины тигля, при общей длине тигля не менее, чем в 2 раза превышающей длину эоны испарения, Загрузочные устройства 4 и 5 в этоМслучае располагаются непосредственно эвзоной испарения. Процессы испарения и загрузки метаппа при движении тигля 1 в одном и другом направлении аналогичны,Составитель Л. АнисимоваТехред М, Левицкая Корректор В. Куприянов Редактор Л. Лашкова Заказ 5543/256, Тираж 1068 ПодписноеПНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССРпо делам изобретений и открытий113035,...

Номер патента: 544711

Опубликовано: 30.01.1977

Авторы: Вигдорович, Долидзе, Ухлинов, Якашвили

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, многокомпонентных, нанесения, пленок

...числу испаряемых компонент, и нагреватель, поддерживающий заДля обеспеданного сосения секций с требуемым лений па ов данную температуру испарения.чения стабилизации конденсата затава на подложке поперечные сечтигля выбраны в соответствии5 соотношением парциальных дав РкомпонентИзвестный испаритель содержит секции, поперечные сечения которых должны с высокой точностью соответствовать требуемым соотно шениям парциальных паров компонент, чтозатрудняет применение этого устройства в связи со сложностью его изготовления с требуемой точностью.Целью изобретения является получение пле нок заданного состава.Это достигается тем, что в испарителе длянанесения многокомпонентных пленок, содержащем тигель из тугоплавкого материала и нагреватель,...

Номер патента: 349325

Опубликовано: 30.03.1978

Авторы: Гетман, Гольдинер, Горбунов, Долотов, Киршфельд, Саблев, Усов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...а дру- ЗО- с камерой-анодом 1, Между корпусом и камерои-анодом установлена электроизоляционная прокладка 6.При давлении в вакуумной камере ниже 110 втор. кратковременным прикосновением поджигающего электрода к поверхности катода зажигается дуга. Дуга горит в парах металла при сколь угодно низком давлении остаточных газов в вакуумной камере. Для стабильного горения дуги необходимо, чтобы катодное пятно дуги находилось на рабочей поверхности катода. При нахождении катодного пятна на рабочей поверхности катода поток металлической плазмы направлен на стенки вакуумной камеры, являющейся анодом. Как только катодное пятно переходит на боковую поверхность катода, поток металлической плазмы направляется в сторону корпуса испарителя, электрически...

Номер патента: 368807

Опубликовано: 05.07.1978

Авторы: Атаманский, Гетман, Долотов, Луценко, Саблев, Ступак, Усов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, электродуговой

...1.достигается установкой магнитного экрана 6. На катодах 1, помещенных в однородное магнитное лойе, наблюдается горение дуги на боковой поверхносж катода, твк квк в таком поле отсутствуют силй, воэврашающие квтодное пятно на рабочую поверхность катода. Катодиое пятно, попадая на боковую поверхность катода, совершает :вращательное движение, Чтобы создать силу, вынуждаюцую катодное пятно вернуться о на рабочую поверхность, катоду 1 придается форма усеченного конуса. Рабочей поверх ностью является меньшее основание конуса. Оптимальным является конус с углом прио 4вращении не менее 14 . При.такой форме И катода линии магнитного поля образуют острый угол с боковой поверхностью катода и; по принципу максимального поля, катодное...

Номер патента: 363375

Опубликовано: 05.01.1979

Авторы: Горбунов, Долотов, Саблев, Усов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...общий вид,Испаритель состоит иэ катода 1,анода 2, являющегося внутренней поверхностью вакуумной камеры, поджигающего приспособления 3 и магнита4, расположенного с обратной сторонырабочей поверхности катода. Магнит4 снабжен устройством 5 для его перемещения.Устройство работает следующим обт При низком давлении остаточных гов в вакуумной камере (ниже 110 мм рт.ст) . зажигают дугу. Зажигание дуги производят кратковременнымприкосновением поджигающего приспособления 3, электрически связаннымс анодом, к поверхности катода 1.Кроме того, дуга горит в парах металла катода. Так как катодное пятно вакуумной дуги стремится находиться научастках катода с максимальной индукцией магнитного поля, то оно перемещается в район катода, находящийсяпод...

Номер патента: 307666

Опубликовано: 05.01.1979

Авторы: Атаманский, Горбунов, Долотов, Лунев, Луценко, Саблев, Усов

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...ваней в вакууме.лектродуговой испарительержаший корпус, катод, подктрод и анод.Овышения стабильности горепуса, внутри которого коаксивл ршен катод.На чертеже представлен предлагаемый испвритель, общий вид,Испаритель содержит выполненный изнемагнитного материала корпус 1,. внутрикоторого коаксиально размещен катод 2,поджигающий электрод 3, анод 4 и соленоид 5, расположенный снаружи корпуса.Дуга возбуждается кратковременнымприкосновением поджигающего электрода3 к поверхности катода 2 и горит в парах 2 Ометалла катода между рабочей поверхностью катода (той, с которой происходит испарение металла) и внутренней поверхнос. Атаманский, В. 11. ГорбуновН. Луценко, В. М. ЛуневВ. В. Усов Через столб плазм, звклю ду квтодной областью дуги и...

Номер патента: 652237

Опубликовано: 15.03.1979

Авторы: Антон, Гюнтер, Роберт

МПК: C23C 13/12

Метки: виде, напыления, непрерывного, подвижную, подложку, полосы

...ленты. В положении минимальное рас-, стояние верхняя кромка торцовой тигельной стенки 16 достигает гарантированного расстояния до ленты 3. В этом рабочем положении приблизительно равны расстояния между стальной лентой .3 и боковыми тигельными стенками 21, 22. При этом верхние края этих стенок могут на несколько миллиметров выступать над поверхностью стальной ленты 3. Торцовая тигельная стенка 16 имеет соответствующее геометрии электронного луча проходное отверстие 24, В боковой стенке 21 тигля для наполнения ванны имеется другое отверстие 25. При использовании лишь одной емкости для испа" ряемого материала 19 необходимы два отверстия 25, которые должны находиться вблизи торцовых стенок 16, 18 тигля, и расстояния между которыми должно...

Номер патента: 659642

Опубликовано: 30.04.1979

Авторы: Беккер, Валеев, Ванин, Евдокимов, Фишель, Хрусталев

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, нанесения, сложных, соединений

...расположенные секции, число которых равно числу цспаряемых компонент, и фокусцрующпй электрод-прожектор с размещенным в нем нагревателем-катодом, ко аксиальцо расположенные секции тигляэлектрически изолированы одна от другой и находятся под различными потенциалами относительно нагрсвателя-катода, потенциал которого отличен от потенциала корпуса.На чертеже представлена конструкцияцспарителя.На нижней плите 1 на изоляторах 2 крепится верхняя плита 3, на которой установлен фокусирующий электрод-прожектор 4. Нагреватель-катод 5, выполненный в виде кольца, размещен внутри фокусцрующего электрола-прожектора. Один вывод нагреватель-катода соединен с верхней зо плитой, второй изолирован, Секции 6 и 7тигля располагаются вн три фокусирую-...

Номер патента: 804719

Опубликовано: 15.02.1981

Авторы: Ишимов, Панасюк

МПК: C23C 13/12

Метки: длинномерные, нанесения, подложки, покрытийна

...привода. При вращении валадозатора лунки проходят под отверстиями в бункере и налолняются веществом. Дальнейшее вращение вала дозатора приводит к попаданию вещества ,б 5 в желоба, по которым Оно направляется в испарители. Период поступления вещества в каждый отдельно взятый испаритель задается периодом вращения вала дозатора и устанавливается таким образом, что к моменту поступления порции вещества предыдущая полностью испаряется. В момент поступления порции вещества в испаритель экран-заслонка находится в исходном положении и прерывает молекулярный поток на пути из испарителя к подложке. Через время , соответствующее началу испарения необходимых фракций, вал привода занимает положение, при котором край выступающего сектора...

Номер патента: 834245

Опубликовано: 30.05.1981

Авторы: Левченко, Радзиковский

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...лопаточный завихритель или 10 любой другой элемент, придающий потоку соответствующее вращательное движение.Поток испаренного материала после выхода из испарителя течет в свободно-молекулярном режиме. Причем, благодаря вращательному движению в испарителе, каждая частица центральной области потока движется под некоторым углом к оси потока. Но, так как центральные области приобретают в испарителе большую угловую скорость чем периферийные, то за время пролета частиц материала до подложки происходит перераспределение их в пото ке из центральных областей в периферийные, что приводит к достижению более пологого максимума диаграммы направленности, в результате чего повышают равномерность по толщине на пыляемых пленок при высоком коэффициенте...

Номер патента: 863717

Опубликовано: 15.09.1981

Авторы: Гружинскис, Мачюлайтис, Мишкинис

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, испарения, термического

...поверхности пластин в напыляемой партии) с соответствующим отверстием 3, остальные отверстия 3 закрываются заслонкой 4. Наныляемые объекты 11 кладутся на плоскую, например графитовую, подставку 10, Иэ установки откачивается воздух, после чего с помощью плавного регулирования подводимой мощности, подставка 10 разогревается до нужной температуры. Затем пропусканием электрического регулируемого тока через испаритель последний разогревается до температуры, необходимой для создания нужной плотности частиц испаряемого вещества в потоке через патрубок 5. (в данном случае нижний). Толщина получаемых пленок определяется скоростью и временем процесса напыленияЧдновременно с напылением в нижнем направлении при необходимости возможно производить...

Номер патента: 745189

Опубликовано: 15.10.1981

Авторы: Гольдинер, Саблев, Ступак

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...погасание дуги на Ьтыке ее с катодом. Обечайку 6 целесообразно изготавливать из лйстовоГо материала толщиной 1-2 мм. Для исключения загрязнения металлического покрытия металл обечайки должен быть "идентичен металлу испаряемого катода 2Катод с обечайкой горит стабильнои может быть испарен,практически полностью. Толщина 1-2 мм неиспаренного катода определяется креплением обе-. чайки 6,Применение обечайки позволило значительно увеличить коэффициент исйоль Зованйя испаряемого .металла. Например, в испарителе катод с диаметром 100 мм, толщиной 60 мм из Т.беэ обечайки прекращает стабильноработать при толщине 20-25 мм, т,е,используется 60 запаса металла, приналичии обечайки шиРиной 25 мм толщина неиспаренного катода 2 мм,...

Номер патента: 889743

Опубликовано: 15.12.1981

Авторы: Новиков, Парфенов, Чердаков

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель

...и нагреватель 2 Наиболее блипо техническойиспаритель, содрасположенные т рител рытий Недостаяются низка ми ое данного ис качество пдительност я зогревается до зада ы нагревателем 5 ил так нои темпера пропускание выполнении я произв арение п к исходит с мало лощади тигля интегральных схем.Известен испаритель, содержащий тигель, выполненный в виде полосы, и рибропитатель 11 .Недостатком этого испарителя является небольшая площадь тигля, что не позволяет создать перенасыщенный молекулярный пучок пара при испарен и многокомпонентных материалов; а также снижает скорость измерения. тока через тигель, при о из проводящего мате88974 НИИПИ Заказ 0903 ираж 051 Подписн риала,вибропитатель 7 подают испаряе мое вещество на дно 2, которое...

Номер патента: 901357

Опубликовано: 30.01.1982

Авторы: Белан, Иващенко, Маштылев, Ткаченко, Шипилов

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, многокомпонентных, нанесения, покрытий

...обеспечивает получение многокомпонентныхпокрытий, обладающих высокими эксплу".атационнымн свойствами.Формула изобретения. Устройство для нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме,содержащее соосно размещенные расходуемый катод, анод, электромагнитную катушку, источник ионизованного газа, подложкодержатель и.источник электропитанйя, о т л и ч а -ю щ е е с я тем что, с целью улучшения качества покрытий за счет снижения микрокапельной фазы в пароплазменном потоке испаряемого материала катода, источник ионизованногогаза выполнен в виде полого цилиндрического катода, а расходуемый катодвыполнен с центральным отверстием, причем полый катод размещен вобласти, прилегающей к центральномуотверстию расходуемого катода.2. Устройство по п, 1....