Перемыщев

Способ формирования слоя фоторезиста

Загрузка...

Номер патента: 570870

Опубликовано: 30.08.1977

Авторы: Блинов, Кутко, Перемыщев, Перемыщева, Сандеров, Царев

МПК: G03C 1/74

Метки: слоя, формирования, фоторезиста

...особенностями технологического процесса и оборудования. Всспчгпа избыточного внсшне- О го дав;сипя па каждом пз этих эапов должна превышать давлсшс парогазовой смеси внутри пузырьков.11 р и м с р, Проводилось техническое опробоваппс способа формирования слоя фоторепа окпс,снных пластинах кремнияспсцпальном устройствс,На чсртсжс прсдставлсно устройство длярсалпзацпп предлагаемого способа.Устройство состоит из камеры 1, цгп 2, столика 3, нагревательного элеэкрана 5, дозатора 6 с фоторезистором, системы 7 подачи давления, клапана 8 подачи фоторезиста.Окисленные кремниевые пластины 9 с низкой заранее определенной дефектностью окисла закрепляются на столике 3 центрифуги 2. Опускается и закрывается колпак камеры...

Устройство для нанесения фоторезистивных пленок

Загрузка...

Номер патента: 480040

Опубликовано: 05.08.1975

Авторы: Ануфриенко, Кутко, Онсин, Перемыщев, Сандеров, Стременов, Уксусов, Царев

МПК: G03C 1/74

Метки: нанесения, пленок, фоторезистивных

...фоторезистгводержащее т становлснный на он, служащий для размещения ухгнуго систему,для отсоса возной мехачызм вращения шыили 1 ееся тем, что, с целью повыопзводительности и качествавыполнен в виде установленИзобретение относится к устройствам для нанесегния тонких, пленок ыз жидких материаловпреихгущественно фоторезистивных пленок, на плоские гподложки при изготовлении полупроводниковых и гибридных интегральных схем, фотошаолонов, масок и друпих изделий микроэлектроники,Известны устройства для нанесения фоторезистивных пленок, содержащие установленный на шпинделе патрон для подложек, вакуумную систему для отсоса воздуха и приводной механизм вращения шпинделя. Цель нзобретения - повышение производительности устройства и качества пленок...

Устройство для термообработки фоторезиста на изделиях

Загрузка...

Номер патента: 457197

Опубликовано: 15.01.1975

Авторы: Голото, Лаврищев, Перемыщев

МПК: H05K 13/06

Метки: изделиях, термообработки, фоторезиста

...издели рован конден Изобретение относится к области радиоэлектроники и приборостроения.Известны устройства для термообработкифоторезиста на изделиях, содержащие камеруобработки с нагревателем, охлаждаемые камеры загрузки и выгрузки изделий и механизмтранспортировки изделий,Недостатком известных устройств являетсянизкое качество обработки фоторезиста.С целью повышения качества термообработки фоторезиста в предлагаемом устройстве камера обработки выполнена в виде ванны, заполненной жидкостью, препятствующей уда.лению растворителей из фоторезиста, и расположенной над ней крышки, делящей ванну на 15зоны нагрева и охлаждения изделий, причем взоне нагрева смонтирован конденсатор паровжидкости.На чертеже дано предлагаемое...