Кершман

Номер патента: 513117

Опубликовано: 05.05.1976

Авторы: Кершман, Максимова, Федоров

МПК: C23F 1/02

Метки: арсенида, галлия, локального, пленок, раствор, травления

...может быть осуществлено ни одним из известных травителей. Либо травитель не являетея полирующим к используемой плоскости (100), либо обладает недопустимо большой скоростью травления (1,0- - выше), либо дает Чмкмобразный профиль травления с одновременным разрушением пленки фоторезиста, либо обладает диф- М Плавиковая кислотаПерекись водородаФторид аммония 385,71,5-26 стальн условиях комнатной температуры (20 С) и ушает пленки фоторезиста. Травление эпитак ых пленок ОаА 5 проводится в объемес пе раэаль. та пленок ОаА 5 используется пр меэа-планарных транзисторов, р -ди назоне, н раствор для локал,ного травлнок арсенида галлия, содержащий плавиколоту и перекись водорода. Раствор обеспечивает получение полированноиверхности дна фигур...