Патенты опубликованные 20.09.2001
Способ обработки полупроводниковых материалов
Номер патента: 1523000
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Верин, Газуко, Генералов, Гласко, Губарь, Зимаков, Зыканова, Коршунов, Петровнин, Соловьев, Старикова, Щербина
МПК: H01L 21/268
Метки: полупроводниковых
Способ обработки полупроводниковых материалов, включающий импульсный нагрев, отличающийся тем, что, с целью получения обедненных слоев в кремнии n-типа, в качестве исходного используют кремний, легированный фосфором до концентраций 1013 - 5 1015 см-3, а нагрев ведут на воздухе до температуры 1150oC < T < 1200oC.
Способ получения инверсных полупроводниковых слоев
Номер патента: 1523001
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Верин, Газуко, Генералов, Гласко, Губарь, Зимаков, Зыканова, Коршунов, Петровнин, Соловьев, Старикова, Щербина
МПК: H01L 21/268
Метки: инверсных, полупроводниковых, слоев
Способ получения инверсных полупроводниковых слоев в исходном легированном кремнии, включающий импульсных нагрев, отличающийся тем, что, с целью расширения области применения и исключения эрозии поверхности, в качестве исходного используют кремний n-типа, легированный фосфором до концентраций 1013 - 2 1016 см-3, а нагрев ведут на воздухе в интервале температур от 1200oC до температуры плавления кремния.
Способ определения типа проводимости вырожденных полупроводниковых материалов
Номер патента: 913793
Опубликовано: 20.09.2001
Автор: Коршунов
МПК: G01N 21/00
Метки: вырожденных, полупроводниковых, проводимости, типа
1. Способ определения типа проводимости вырожденных полупроводниковых материалов, преимущественно с различными эффективными массами электронов и дырок, основанный на сравнении параметров, измеренных на исследуемом материале и эталоне, отличающийся тем, что, с целью упрощения и обеспечения бесконтактного определения типа проводимости приповерхностных слоев, в качестве эталона используют невырожденный полупроводниковый материал, образец и эталон освещают поляризованным светом с длиной волны, не превышающей длины волны красной границы поглощения кр.эт эталона, плавно перестраивают длины волн и находят наименее...
Резервированный формирователь тактовых импульсов
Номер патента: 1227099
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Дуров, Иванникова
МПК: H05K 10/00
Метки: импульсов, резервированный, тактовых, формирователь
1. Резервированный формирователь тактовых импульсов по авт. св. 995699, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности формирователя, в каждый из его делителей частоты введен элемент ИЛИ-НЕ, подключенный входами к соответствующим выходам дешифратора, а выходом - к второму входу формирователя импульсов.2. Формирователь по п.1, отличающийся тем, что он выполнен двухканальным, каждый из каналов состоит из дифференцирующей RC-цепи, подключенной входом к входу формирователя, а выходом к соответствующему входу элемента ИЛИ, соединенного выходом с выходом формирователя.
Способ получения п-слоев в антимониде индия
Номер патента: 1017122
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Дубровская, Коршунов, Старикова
МПК: H01L 21/268
Метки: антимониде, индия, п-слоев
Способ получения n-слоев в антимониде индия, включающий ориентированную резку слитка, шлифовку и полировку подложек и облучение подложки импульсным лазерным излучением, отличающийся тем, что, с целью улучшения электрофизических свойств слоя, облучению подвергают поверхность (100), (100), (111) или (211).
Способ совместного получения изобутилена и триметилкарбинола
Номер патента: 594708
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Андреев, Беляев, Бушин, Горшков, Ератов, Казанкина, Короткевич, Кузьмина, Орлов, Павлов, Плечев, Преображенский, Резникова, Рудковский, Скачкова, Смирнов, Смолин, Чуркин, Яковенко
МПК: C07C 1/20, C07C 11/09, C07C 31/12 ...
Метки: изобутилена, совместного, триметилкарбинола
Способ совместного получения изобутилена и триметилкарбинола путем разложения метил-трет-бутилового эфира в присутствии катализатора при повышенной температуре в среде растворителя, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии процесса, в качестве катализатора используют смесь серной кислоты и органического азотсодержащего соединения, взятых в мольном соотношении 1 : 0,1 - 2, в качестве растворителя используют воду и процесс осуществляют при 130 - 180oC и давлении 15 - 35 атм.
Способ ингибирования полимеризации сопряженных диенов
Номер патента: 595970
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Беляев, Бережная, Бушин, Ератов, Каракулева, Троицкий
МПК: C08F 136/04, C08F 2/42
Метки: диенов, ингибирования, полимеризации, сопряженных
Способ ингибирования полимеризации сопряженных диенов введением ингибитора в раствор сопряженного диена в N-алкиламиде низшей карбоновой кислоты, отличающийся тем, что, с целью уменьшения образования полимера и улучшения техники безопасности процесса, в качестве ингибитора применяют 0,5 - 0,2 мас.% от растворителя соли формальдегидсульфоксиловой кислоты общей формулы HO-CH2-SO2-M, где M - цинк или натрий.
Стенд для испытания воздушно-реактивных двигателей
Номер патента: 1347682
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Боков, Верхоломов, Крючков, Панфилов
МПК: G01M 15/00
Метки: воздушно-реактивных, двигателей, испытания, стенд
Стенд для испытания воздушно-реактивных двигателей, содержащий установленный на входе в испытуемый двигатель присоединенный трубопровод с торцовой крышкой и кольцевой ресивер, расположенный перпендикулярно оси трубопровода, отличающийся тем, что, с целью повышения точности испытаний, он снабжен тороидальным кольцевым патрубком, сообщенным входом с ресивером и имеющим плоское выходное сопло, подсоединенное к трубопроводу между крышкой и его торцом при помощи упругих проставок и соединенного с ними тендера, а полость, образованная ресивером, патрубком, соплом и крышкой, сообщена с окружающей средой.
Способ получения самофокусирующихся элементов
Номер патента: 1410438
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Дохикян, Елисеев, Яхкинд
МПК: C03C 21/00
Метки: самофокусирующихся, элементов
Способ получения самофокусирующих элементов преимущественно из таллиевоборосиликатных стекол путем ионного обмена с изотермической выдержкой, отличающийся тем, что, с целью обеспечения обработки элемента на глубину 2,5 - 5 мм, изотермическую выдержку проводят в две стадии: сначала в течение 100 - 120 ч при температуре, соответствующей вязкости 1013 Пз тугоплавкого стекла, образующегося из поверхности ионообменного слоя, и вязкости исходного стекла 107 - 108 Пз, а затем в течение 170 - 400 ч при температуре, соответствующей вязкости 1010 - 1011 Пз тугоплавкого стекла, образующегося на поверхности ионообменного слоя, и вязкости исходного...
Способ определения степени амортизации кристаллических материалов
Номер патента: 597291
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Коршунов, Постников, Тихонов
МПК: H01L 21/66
Метки: амортизации, кристаллических, степени
1. Способ определения степени аморфизации кристаллических материалов, например полупроводниковых, происходящей при облучении их ускоренными ионами, по разности оптических величин, измеренных для облученного и необлученного образцов материала, отличающийся тем, что, с целью повышения точности определения, образцы перед облучением легируют акцепторной примесью с концентрацией носителей заряда от величины, достаточной для компенсации доноров, образующихся при облучении, до величины, определяемой предельной растворимостью акцепторной примеси, а в качестве оптических величин измеряют на длине волны, соответствующей краю полосы собственного поглощения измеряемого образца, арктангенс отношения...
Способ отжига ионно-имплантированных полупроводниковых материалов
Номер патента: 1170926
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Генералов, Зимаков, Коршунов, Соловьев, Тихонова
МПК: H01L 21/268
Метки: ионно-имплантированных, отжига, полупроводниковых
1. Способ отжига ионно-имплантированных полупроводниковых материалов, включающий облучение полупроводника излучением CO2-лазера с длиной волны, лежащей вне полосы собственного поглощения полупроводника, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии при одновременном улучшении параметров и повышении производительности, облучение ведут в импульсно-периодическом режиме с длительностью импульса 1,5 10-6 - 1 10-4 с и количеством импульсов 5 - 900 при температуре облучаемой поверхности не меньше 0,55 т.пл., но меньше...
Способ легирования кремниевых пластин
Номер патента: 1531756
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Авдеев, Верин, Гаськов, Генералов, Гласко, Губарь, Зимаков, Зыканова, Коршунов, Петровнин, Сарайкин, Соколов, Соловьев, Старикова, Тимашева, Шестериков, Щербина
МПК: H01L 21/268
Метки: кремниевых, легирования, пластин
Способ легирования кремниевых пластин, включающий имплантацию в них ионов бора с энергиями 30 - 60 кэВ и дозами, меньшими 4 1016 см-2, и электрическую активацию бора последующим нагревом облучением импульсами света, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности за счет получения поверхностной концентрации свободных носителей заряда, превышающей дозу имплантации, нагрев осуществляют на воздухе импульсами света длительностью 25 10-3 - 10 с, при этом число импульсов и их энергетические параметры выбирают из условия...
Способ легирования кремниевых пластин
Номер патента: 1531757
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Авдеев, Верин, Гаськов, Генералов, Гласко, Губарь, Зимаков, Зыканова, Коршунов, Петровнин, Сарайкин, Соколов, Соловьев, Старикова, Тимашева, Шестериков, Щербина
МПК: H01L 21/268
Метки: кремниевых, легирования, пластин
Способ легирования кремниевых пластин, включающий имплантацию в них ионов бора с энергией 30 - 60 кэВ и электрическую активацию бора последующим нагревом облучением импульсами света, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности за счет получения поверхностной концентрации свободных носителей заряда, превышающей дозу имплантации, при одновременном снижении энергозатрат, нагрев осуществляют на воздухе импульсами света длительностью 2,5 10-3 - 10 с, при этом число импульсов и их энергетические параметры выбирают из условия обеспечения температуры T имплантированного слоя 900oC
Способ очистки бутадиена от алленовых и ацетиленовых углеводородов
Номер патента: 603207
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Андреев, Бытина, Горшков, Ератов, Заикина, Кириллова, Короткевич, Павлов, Серова, Степанов, Шмук
Метки: алленовых, ацетиленовых, бутадиена, углеводородов
Способ очистки бутадиена от алленовых и ацетиленовых углеводородов путем экстрактивной ректификации, экстракции или абсорбции с использованием в качестве экстрагента ацетонитрила, отличающийся тем, что, с целью уменьшения потерь бутадиена и ацетонитрила, процесс осуществляют в присутствии первичных или вторичных аминов, выбранных из группы, содержащей метиламин, диэтиламин, бутилциклогексиламин, циклогексиламин, пиперидин, при концентрации их в экстрагенте 5 - 50 мас.%.
Способ получения 4-метил-5, 6-дигидропирана
Номер патента: 603212
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Беляев, Бушин, Казанкина, Кузьмина, Преображенский, Резникова, Рудковский, Смолин, Яковенко
МПК: C07D 309/18
Метки: 4-метил-5, 6-дигидропирана
1. Способ получения 4-метил-5,6-дигидропирана жидкофазной изомеризацией метилентетрагидропирана при нагревании в присутствии кислотного катализатора, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса, нагревание проводят при температуре 140 - 200oC и в качестве кислотного катализатора используют сульфаминовую кислоту, анилинсульфокислоту или продукты взаимодействия их с формальдегидом.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве анилинсульфокислоты используют сульфаниловую, метаниловую или ортаниловую кислоту.
Способ получения третичных олефинов
Номер патента: 604290
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Андреев, Беляев, Бушин, Ератов, Казанкина, Короткевич, Кузьмина, Лукашов, Павлов, Петухов, Плечев, Преображенский, Резникова, Рудковский, Скачкова, Смирнов, Смолин, Степанов, Яковенко
МПК: C07C 1/24, C07C 11/02
Способ получения третичных олефинов путем дегидратации третичных спиртов в жидкой фазе в присутствии гомогенного катализатора при повышенной температуре, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса и снижения расхода катализатора, в качестве катализатора используют соль серной кислоты и органического азотсодержащего основания и процесс проводят при 130 - 180oC.
Способ обработки антимонида индия
Номер патента: 660499
Опубликовано: 20.09.2001
МПК: H01L 21/265
Метки: антимонида, индия
Способ обработки антимонида индия облучением ионами, отличающийся тем, что, с целью обеспечения регулируемого по глубине увеличения скорости электрохимического травления без изменения типа проводимости и уменьшения подвижности носителей заряда, антимонид индия во время облучения подвергают нагреву от 100 до 290oC.
Способ изготовления проволоки из -титановых сплавов
Номер патента: 1476718
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Белан, Егоров, Кабанова, Никифоров, Селиванов, Харитонов
Метки: проволоки, сплавов, титановых
Способ изготовления проволоки из -титановых сплавов путем нагрева заготовки и прокатки в несколько проходов со скоростью в первом проходе не более 2 м/с, отличающийся тем, что, с целью увеличения производительности, нагрев производят до температуры, определяемой из зависимости T = [(450 - 470) - 20 V1]oC, где V1 - скорость прокатки в первом проходе, а деформацию осуществляют в многовалковых калибрах с суммарной степенью 75 - 80%.
Способ определения типа проводимости полупроводникового материала
Номер патента: 932891
Опубликовано: 20.09.2001
Автор: Коршунов
МПК: G01N 21/17
Метки: полупроводникового, проводимости, типа
Способ определения типа проводимости полупроводникового материала, отличающийся тем, что, с целью его упрощения путем проведения бесконтактных измерений при исследовании вырожденных полупроводниковых материалов, измеряют спектральные зависимости эллипсометрических параметров анализируемого материала и эталонного невырожденного полупроводникового материала при длинах волн света, меньших длины волны, соответствующей красной границе полосы собственного поглощения эталонного материала, а о типе проводимости анализируемого материала судят по величине параметров при...
Способ получения электронно-дырочных структур в антимониде индия
Номер патента: 665611
Опубликовано: 20.09.2001
Авторы: Коршунов, Миркин, Тихонов
МПК: H01L 21/265
Метки: антимониде, индия, структур, электронно-дырочных
1. Способ получения электронно-дырочных структур в антимониде индия, включающий легирование исходного материала, изготовление подложек, облучение ионами и создание инверсионного слоя последующим отжигом, отличающийся тем, что, с целью упрочнения имплантированного слоя, облучение проводят при температурах подложек от 0,6 Tпл до 0,95 Tпл дозами от 6 1014 до 6 1017 см-2 и греющими плотностями ионного тока от 10 до 50 мкА/см2.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью увеличения...