C25D 3/66 — из расплавов

Номер патента: 827610

Опубликовано: 07.05.1981

Авторы: Барабошкин, Котовский, Куранов, Салтыкова, Смирнов, Сюткин, Тимофеев

МПК: C25D 3/66

Метки: металловгруппы, платины, электроосаждения

...рмтсп 51 испосрсдстсиио В рдс 1 С ,ОРИ:О И ,1 ОЧ 1 К М СЛОВ ИЛ И ииолиь 1 рдсторсиием рутения.При осдждсиии покрти идд рдспла Во, создают атмосферу инертного газа,иприс гелия, что предотвращает окис..Сиие .;л)д;1 ротсиия позо,ст стаби:3 ИРОВДТЬ и)ЦСС.11 ри тсмпсратурс расплава ниже 450 С 20 оордзуотся напряженные хрупкие осадки,д ири тс п рдтурс выше 680 С осадок состоит 3 ) Гдс.1 иь 1 к изолироВииы. кри.СТДЛ,1:В.В качестве аода используют рутений.2;, При анодой плотности тока вышс0,05 Асма иа дш)дс образуется твердая солевая корка рутения, что приьодит к прскрдисиио с и рисорсиия, пддеиик) кошситрдпп расплав и ооразоваиию Зо иа катоде порошксюбрдзиык осддкоь.827(01 о к р ь 1 Т 3151, и О;1 усгособоч, светлые, и)сироп;)водяпсй решетки...

Номер патента: 827611

Опубликовано: 07.05.1981

Авторы: Делимарский, Зайцева, Перекупко, Сарнавский, Святненко, Таранишина, Туманова

МПК: C25D 3/66

Метки: расплав, электролитическоговольфрамирования

...расплав, содсржд)ций хорид и во(5 ь. фрамат Ецслочцого мстя.)ла, а тд)кс мстдфосфат и пирофосфат шслочцого металла 21.Недосте)1 ое известцык расплавов вольфрамировация является высокая температура осаждеиия, что мо)кст привести Ес чкчд- исеиО структуры под(ЕО)и и тем самы ОрапиЕепаст Есо(ЕИ)сство мстя,),)ов, ця которые можно цацс)сить покрытие. Цс(Е )о изобретсци 5 является сиижсцс температуры процесса (до 140 - 180 С), что умсцыцаст вероятность царуисция структуры подложки и сокращает цспрс)изводитсг)Е,. цый рас.од элсктроэцсргци цд )юдо рс электролита.(казациа 5 цель достигался за счет того, )О расцЛЯВ, содсрждцЕИй ВОЛЬфраг)ЯТ ПЕЕ. лочцого или шелочио-земсльцого металла и ,лорид дммоция, дополцитслы)О содержит 2карбамид прц...

Номер патента: 834265

Опубликовано: 30.05.1981

Авторы: Барабошкин, Молчанов

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамирования, электролит

...предлагаемого электре лита позволяет получать сплошные мелко- кристаллические покрытия из вольфрама с микротверцостью 420-600 кгс/мм и толщиной до 3 мм в интервале температур 700 - 900 С на графите, молибде 0не и вольфраме со скоростью 440 мкм/ч, при плотности тока 0,6 А/см а так.ке выходом по току 70-80% при 700 Со и 95-100% при 800 - 900 С.Наличие в электролите фтористого натрия в количестве 27-35 вес.% обеспечивает снижение температуры процесса получения сплошных вольфрамовых покрытий до 700 С в широком интервале 268 4плотностей тока. При содержании фтористого натрия ниже 27 вес,% и выше35 вес.% при электролизе образуетсяплохо сцепленный с подложкой порошокВольфрамаНижний предел концентрации К ЖСВь2 вес.% обусловлен тем, что...

Номер патента: 865998

Опубликовано: 23.09.1981

Авторы: Белов, Бушуев, Виноградова, Дробот, Игумнов, Козлова, Ловчиновский, Малышева

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамирования, электролит

...и увеличении концентрации9 масс,7. происходит образование вольфрамовых броуз. т.е. получаются покрытия низкого качества, содержащие вольфрамовые оксиды.Электролит готовят следующим образом.Сплавляют заданные количества предварительно просушенных солей и диоксида вольфрама в инертной атмосфере азота, Электролит предварительно прорабатывают током в течение1-3 ч при плотности тока 0,5 А/см, что позволяет удалить из расплава следы влаги и электроположительные примеси.Электролиз проводят при катодной плотности тока 0,01-0,09 А/см, темпеоратуре 800-900 С в течение 2-3 ч в графитовом или синтеркорундовом тигле. Анод - вольфрам. Катод " гра фит, никель, ниобий, титан, молибден или тантал. При этом получаются вольфрамовые покрытия толщиной...

Номер патента: 870511

Опубликовано: 07.10.1981

Авторы: Кузнецов, Маслов, Поляков, Стангрит, Фрейдин, Хаютин

МПК: C25D 3/66

Метки: ниобиевых, покрытий, электролит

...чем ниобий, и переводят его из ок-сифторианых соединений во фгоридные, сами образуя при.этом оксифториды. Образукщиеся оксифториаы алюмиьия, титана,тантала, пиркония разряжаются при потенциалах более отрицательных, чем ниобий,и в процессе нанесения покрытий не участИэ электролита МОСЕ М- с содержанием 2-30 мас.% В, были получены покрытия с со 0,04-0,06 мас,%. кислорода с 0,01%. Образец с покрытием только однократную навивку в диаметром 6 мм. В то же в ролитах с добавками осаждали 511 4вуют. Уменьшение. содержания кислорода вгпокрытии уменьшают пористость покрытий и повышает их пластичность.П р и м е р, В электролизер загружали обезвоженную эквимолярную смесь хлоридов калия и натрия, гептафторниобат калия и комплексную соль...

Номер патента: 876800

Опубликовано: 30.10.1981

Авторы: Богданович, Муха, Приходько, Сарнавский, Туманова, Четвериков

МПК: C25D 3/66

Метки: нанесения, покрытий, расплав, титановых, электролитического

...компонентов в расчетных количествах и цовецением смеси ао зацанной температуры электролиза. Процесс нанесения покрыти вецут в интервале температур 95- 120,С, интервал плотностей тока 2- 8 А; ам с использованием титановыхХаноцов. Применение расплава позволяет наносить светло-серые титановые покрытия толщиной цо 12 мкм, тверцостью 290-345 кг/мм Я со скоростью 0,15- 0,48 мкм/мин в интервале плотностей тока 2-8 А/цм на поцложки из стали2цинка, свинца и олова.Расплав электролита не гигроскопичен и не требует за щиты инертной атмосферой.Оптимальный температурный интервал опрецелен из условий поццержания цостаПримеры осажцения титановых покрытийпривецены в таблице.7 876800Как вицно из приведенных ценных, при- н менение предлагаемого расплава...

Номер патента: 926082

Опубликовано: 07.05.1982

Авторы: Денисов, Лебедев, Ничков, Пятков, Распопин

МПК: C25D 3/66

Метки: железоцинкового, покрытия

...цинк. Состав и свойства покрытия во времяпроведения процесса не контролиру;ются. В .то же время получение железоцинковых покрытий с заданнымсодержанием железа необходимо в ряде случаев перед нанесением лакокрасочных покрытий, а также для плакированияЦель изобретения - получение задан.ного по составу покрытия и повйшение его однородности по толщине.Поставленная цель достигается тем, что в способе, включающем926082 Пример Содержание ,железа в покрытии, ь Температураэлектролита,С Плотностьтока,А/см Вре 1,явыдержки, с Выдержкаобразцадо потенциала, мВ 420 На поверхностиизделия блесткиметаллическогоцинка 0,1 530 480 20 О,1 420 10 5 0,4 420 6,5 30.0,3 450 25 7 600 0,4 450 с 1 7 0,08 с 1 12 Формула изобретения ВНИИПИ Заказ...

Номер патента: 945254

Опубликовано: 23.07.1982

Авторы: Асташева, Косило, Савенков, Щетковский

МПК: C25D 3/66

Метки: молибденовых, нанесения, покрытий, электролитического

...ионов молибдена низшей валентности, склонных к диспропорционированию с образованием металлического молибдена согласно схеме реакции2.+ЗМо с Мо + Мо (тв)С увеличением концентрации молибдена возрастает общее количество ионов молибдена низшей валентности, что приводит к усилению метаплизации и скорости ее в начальный момент погружения по всей поверхности образца.При концентрации трихлорида молибдена менее 15,6 мол.3 общее содержание Мо в расплаве недостаточо.+но для образования равномерного слоямолибдена. Образующиеся при электролизе ионы Мо+ диспропорционируют иосаждаются в виде металлическогомолибдена вблизи токоподвода, чтоприводит к получению неравномерногопокрытия,При концентрации трихлорида молибдена выше 29,2 мол.3...

Номер патента: 968103

Опубликовано: 23.10.1982

Авторы: Делимарский, Котюк, Николаева, Пивен, Сарнавский, Туманова, Шамрин

МПК: C25D 3/66

Метки: никелевых, осаждения, покрытий, расплав, электрохимического

...температуре электролита 115 С, плотностях тока д, = дд = 5 А/дм;. время выдержки при этом составило 60 мин. Мате риалом подложки служил титан марки ВТ.Зависимость толщины, внешнего вида икатодного выхода по току %-покрытий от концентрации компонентов расплава приведена в табл. 1. Светлый, мелкокристаллический Темно-серый, шероховатый Темно-серый, мелкокристаллический Светлый, мелкокристаллический Темно-серый,мелкокристаллицеский Светлый, мелкокристаллический Темно-серый, мелкористаллический Темно-серый, шероховатый Светлый, мелкокристаллицеский Темно-серый, шероховатый96803 Таблица 2 Толщинапокрытия, мкм Катодная и аноднаяплотности токадк = д, А/дм 2 5,0 0,2 8,0 0,5 15,0 1,0 21,0 2,0 25,0 3,0 28,04,0 30,0 5,0 6,0 31,0 32,0 7,0 8,0 33,0...

Номер патента: 1062315

Опубликовано: 23.12.1983

Авторы: Барабошкин, Молчанов

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамирования, электролит

...цезия и хлорид цезия при следующем соотношении компонентов, мас,: Гексахлорвольфраматцезия 11-54 Гидроокись калияили натрия 0,2-9,2 Хлорид цезия Остальное и ионном отношении ОН:Ы1/3-2,Электролит также в качестве гексахлорвольфрамата щелочного металла и галогенида щелочного металла содержит соответственно гексахлорвольфрамат калия и смесь Фторнда натрия и хлорида калия при следующем соотношении компонентов, мас,: Гексахлорвольфраматкалия 5., 2-25 Гидроокись калияили натрия 0,15-6 27-35 Фторид натрия Остальное и ионном отношении ОН ): Ы 1/3-2.Электролит готовят следующим образом.Гексахлорвольфрамат щелочного металла получают хлорированием металлического вольфрама над расплавом хлорида цезия или калия при 850-900 С. В полученный расплав...

Номер патента: 1108135

Опубликовано: 15.08.1984

Авторы: Арбуханова, Бабенко, Барабошкин, Бутримов, Вакарин, Гасаналиев, Злоказов, Калиев

МПК: C25B 1/00, C25C 3/36, C25D 3/66 ...

Метки: бронз, ванадиевых, кислородных, осаждения, фазы, электролит

...и оксидщелочного металла, дополнительно содержит трехокись молибдена или вольФрама при следующем соотношении компонентов, мол.:Пятиокись ванадия 20-85Оксид щелочногометалла 5-25Трехокись молибденаили вольфрама 10-65Электролит готовят смешением и переплавлением компонентов,Данный состав позволяет получать-фазу кислородных ванадиевых бронзс выходом по току до 90.Если электролит содержит меньшетриоксида молибдена вольфрамачем 10 мол., то не достигается существенного увеличения выхода по токуиз-за значительной диссоциации пятиоксида ванадия до четырехвалентныхФорм ионов ванадия.Если электролит содержит большетриоксида молибдена ( вольфрама ),чем 65 мол., то на катоде совместно 65 с в -фазой кислородных ванадиевых бронз выделяется диоксид...

Номер патента: 1381202

Опубликовано: 15.03.1988

Авторы: Асташева, Косило, Поляков, Полякова, Смирнов, Стангрит, Щетковский

МПК: C25D 3/66

Метки: нанесения, покрытий, танталовых, электролит

...1 при следующем содержаникомпонентов, мас,;:Гептафтортанталаткалия 5-20Фторид натрия 5-20Евтектическаясмесь хлоридовнатрия, калия ицезия ОстальЭлектролит готовят следующим образом.Смешивают расчетное количествообезвоженных фторида натрия и хлордов цезия, калия и натрия, загружаэту смесь в электролизер, которыйвакуумируют сначала при комнатной.температуре, затем при ступенчатомнагреве до 400 . Электролиэер запоняют аргоном, расплавляют смесь, Псле охлаждения смеси до комнатнойтемпературы в нее вводят расчетноеколичество гептафтортанталата калиАппарат вакуумируют при нагреве доо100 , заполняют аргоном. Расплавляэлектролит при 500-550 С, поднимают 40температуру расплавленного электролита до рабочей (720-760 С), послечего в него...

Номер патента: 1454880

Опубликовано: 30.01.1989

Авторы: Авалиани, Гасвиани, Супаташвили, Тварадзе, Шаповал

МПК: C25D 3/56, C25D 3/66

Метки: молибдена, осаждения, основе, покрытий, расплав, электрохимического

...показывает, что ее значениеувеличивается от глубины до края образца в слое толщиной 80 мкм в 6 раз,Такое изменение микротвердости характеризует наличие диффузионного подслоя, Далее проводят рентгенозондирование образца в покрытом слое. Содержание кобальта и никеля достигает 15 Х, остальное молибден,П р и м е р 2, По предложенной1 технологической схеме проводят покрытие и легирование Ст 3 с электролитом состава, мас.7.: КС 1 34, ИаС 1 11,ВаГ 3. 40, БаМо 04. 13, ЙЗ.СХ 1,СоС 11. Температура процесса 700 С,плотность тока 0,05 А/см, время 6 ч,Толщина покрытого и легированногоподслоя 50 и 80 мкм, соответственно содержание Со и И в покрытии 7 Х.П р и м е р 3. По предлагаемойтехнологической схеме проводят покрытие и легирование Ст...

Номер патента: 1468981

Опубликовано: 30.03.1989

Авторы: Бабаева, Барабошкин, Бутримов, Гасаналиев, Казак, Калиев

МПК: C25D 3/66

Метки: бронз, вольфрамовых, электролит

...тонкие,равномерные пленки вольфрамовых 80146898(54) ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ИЯ ВОЛФРАМОВЦХ БРОНЗ(57) Изобретение относится к гальваностегии, в частности к расплавамдля получения вольфрамовых бронз.Цель изобретения - получение вольф"рамовых бронз в виде тонких пленок.По изобретению бронзу осаждают изэлектролита, содержащего 10-20 мол. Хвольфрамата щелочного металла, 5 -10 мол. Ж оксида вольфрама (Ч 1) и70-85 мол.Е нитрата щелочного металла. Процесс ведут при 400-420 Си плотности токаА/см, За времяэлектролиза 10 мс на подложке формируется пленка вольфрамовой бронзытолщиной 1-2 мкм с высокими электрохромными свойствами, 1 табл. бронз, отличающиес р имрофотохромными и полупровосвойствами.Увеличение содержания влите нитрата щелочного метлее 85...

Номер патента: 1493689

Опубликовано: 15.07.1989

Авторы: Барабошкин, Дягилев, Мартемьянова, Тарасова, Хватов

МПК: C25D 3/66

Метки: германиевых, осаждения, покрытий, расплав, электрохимического

...и, в конечном счете, к ухудшению сцепления покрытий германия с подпожкой.Получение сцепленных с осадков германия позволяе пластины с покрытием герм толщины (10-20 мкм) с пар1493689 Фо рмула изобретения Составитель 1 О. ИпатовРедактор М. Товтин Техред М, Дидык КорректорО.Кравцова Заказ 4069/29 Тираж 605 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина,101 ветки а = 5,6563 1, что соответствуетчистому материалу. Сцепление осадковопределялось по изгибу подложк- соосадком германия под углом до 90П р и м е р 1. Электролиэом при900 С на вольфрамовой подложке иплотности тока 0,01 А/см...

Номер патента: 1527325

Опубликовано: 07.12.1989

Авторы: Авалиани, Анфимиади, Волков, Гасвиани, Двали, Кобаладзе, Комаров, Паршин, Стриталов, Циклаури

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминирования, расплав, электрохимического

...анодов, эа 15-20 мин электролиза получают беспористые, светло-серебристые прочно сцепленные с подложкой коррозионно-стойкие покрытия толщиной 40-60 мкм.При более низких значениях плотности тока покрытия плохо сцеплены с подложкой, отдельные участки изделий покрытия не имеют, а при более . высоких - образуются неоднородные пористые дендритообразные покрытия. Хлорид бария, помимо снижения температуры плавления электролита, субественна влияет на процесс электро1527325 ных средах, а также деталей, имеющихсложную конфигурацию: крепежные болты, гайки, элементы конструкций высоковольтных линий электропередач. Формула изобретения Расплав для электрохимического алюминирования, содержащий хлориды алюминия и натрия, о т л и ч а ю - щ и й...

Номер патента: 1601203

Опубликовано: 23.10.1990

Авторы: Кузнецов, Кузнецова, Поляков, Стангрит

МПК: C25D 3/66

Метки: гафниевых, нанесения, покрытий, расплав, электрохимического

...85 1 О Нг, 10 ЭО 5 88 5 1 ог 104 Г 11 105 80,31 электр ониение сотелла(известнын 1 О 1 г 8 9 4 г,в по- вллическ тиллированной воде. Толщину гафниевого покрытия определяют по прибыли веса образцов или измеряют микрометром. Затем подложку с покрытием помещают в раствор соляной кислоты для удаления подложки, После растворения подложки гафниевое изделие заданной формы отмывают от остатков . кислоты, промывают в спирте, высушивают в вакууме, а затем проводят измерения толщины стенок изделия которая составляет 107 мкм.Аналогичным образом получают гафниевые покрытия при других соотношениях компонентов расплава электроли.та, включая их запредельнь 1 е значения.Состав расплава электролита и по- лученные результаты приведены в...

Номер патента: 1671738

Опубликовано: 23.08.1991

Авторы: Гасаналиев, Калиев, Крылов, Минченко, Смыков

МПК: C25D 11/26, C25D 3/66

Метки: бронз, вольфрама, молибдена, нанесения, оксидных, основе, покрытий, расплав, тонкопленочных, электрохимического

...металла 25-75 Расплав готовят смешением и плавлением компонентов в кварцевои ячейке, Вкачестве нитратов и нитритов щелочных металлов берут соли натрия, калия, цезия, обеспечивающие образование расплава при рабочих температурах электролиза 200- 270 С. При электролизе под действием приложенного электрического поля между электродами в расплавах указанного состава возникает ориентация полимеризованных полосчатых структур, направляющих развитие кристаллов, образующих на аноде тонкопленочное покрытие вдоль каналов в объеме электролита, Создающееся упорядочение на фронте кристаллизации оксидных бронз вызывает развитие текстуры, что является причиной усиления электрооптических и адгеэионных характеристик покрытий. Полимеризующий эффект...

Номер патента: 1708941

Опубликовано: 30.01.1992

Авторы: Бабенко, Власенко, Воденников, Кропачек, Симонов, Темногорова, Хараман

МПК: C25D 3/66

Метки: алюминирования, электрохимического

...электролитическим алюминированием в расплаве солей. Для алюминирования на воздухе берут электролит, содержащий 29-32Май, 15-18 ИаС, остальное А 1 Рз. Алюминирование ведут в течение 2-10 мин при плотности тока 0,05-2.5 А/см и температуре 700-850 С, Катодом служит формообразующая деталь,а в качестве анодов используют графитовые,Способ был реализован в промышленных условиях. Испытания проведены на матрице для отливки корпуса ДУ. Заготовку матрицы, выполненную из стали 40 Х, после механической обработки подвергли термической обработке. заключающейся в закалке при 980 ОС., После термической обработки твердость составила 40-45 НВС. Расплав солей для электролиза был приготовлен в трехфазной электропечи с графитовыми электродами, После...

Номер патента: 1114084

Опубликовано: 27.06.1999

Авторы: Арбуханова, Барабошкин, Бутримов, Гасаналиев, Калиев

МПК: C25B 1/00, C25D 3/66

Метки: бронз, оксидных, осаждения, цезий-вольфрамовых, электролит

Электролит для осаждения оксидных цезий-вольфрамовых бронз, содержащий триоксид вольфрама и вольфрамат цезия, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода по току и чистоты бронз, электролит дополнительно содержит хлорид цезия при следующем соотношении компонентов, мас.%:Триоксид вольфрама - 30 - 60Вольфрамат цезия - 30 - 50Хлорид цезия - 10 - 20

Номер патента: 1376616

Опубликовано: 10.07.1999

Авторы: Барабошкин, Виноградов-Жабров, Голубев, Мохина, Рымин

МПК: C25D 3/66

Метки: покрытий, хромовых

Способ получения хромовых покрытий из расплава хлористых солей щелочных металлов и хрома, включающий предварительную обработку расплава и электроосаждение покрытия при температуре 400 - 500oС и плотностью тока 20 - 100 мА/см2, отличающийся тем, что, с целью повышения толщины и расширения диапазона твердости покрытий, предварительную обработку ведут путем выдержки расплава, дополнительно содержащего хлорид магния, при соотношении компонентов, мас.%:Хлорид калия - 15 - 50Хлорид натрия - 10 - 40Дихлорид хрома - 2 - 10Хлорид магния - 35 - 65в течение 30 - 60 мин при температуре осаждения в контакте с твердыми карбонатами щелочноземельных...

Номер патента: 1202299

Опубликовано: 10.07.1999

Авторы: Барабошкин, Дмитриев, Есина, Молчанов, Салтыкова, Тимофеев

МПК: C25D 3/66

Метки: группы, металлов, осаждения, платиновой, электролит

Электролит для осаждения металлов платиновой группы, преимущественно платины и палладия, содержащий хлорид металла платиновой группы и хлорид щелочного металла, отличающийся тем, что, с целью получения сплошных покрытий с пониженной пористостью, он дополнительно содержит хлорид алюминия при следующем соотношении компонентов, мол.%:Хлорид металла платиновой группы - 0,05 - 1,0Хлорид алюминия - 40 - 70Хлорид щелочного металла - Остальное

Номер патента: 1441837

Опубликовано: 10.07.1999

Авторы: Барабошкин, Есина, Тарасова

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамовых, монокристаллических, осаждения, покрытий, расплав, электрохимического, эпитаксиальных

Расплав для электрохимического осаждения эпитаксиальных монокристаллических вольфрамовых покрытий, содержащий вольфрамат натрия и трехокись вольфрама, отличающийся тем, что, с целью получения гладких бездефектных покрытий, он дополнительно содержит вольфрамат калия при следующем соотношении компонентов, мас.%:Трехокись вольфрама - 8 - 16Вольфрамат калия - 9 - 40Вольфрамат натрия - Остальное

Номер патента: 581717

Опубликовано: 10.07.1999

Авторы: Барабошкин, Косихин, Ксенофонтова

МПК: C25D 3/66, C25D 5/38

Метки: вольфрамовых, покрытий

1. Способ получения вольфрамовых покрытий электролизом оксидных расплавов, отличающийся тем, что, с целью получения сплошных беспористых покрытий на электроотрицательных металлах и их сплавах, непосредственно перед погружением в расплав покрываемый металл нагревают в кислородсодержащей атмосфере.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что бериллий нагревают на воздухе при температуре от 400 до 600oС в течение 5 - 10 мин.3. Способ по пп.1 и 2, отличающийся тем, что ниобий нагревают на воздухе при температуре от 100 до 300oС в течение 10 - 30 мин.4. Способ по пп.1 - 3, отличающийся тем, что титан, хром, ванадий нагревают на воздухе при температуре от 450 до...

Номер патента: 1284277

Опубликовано: 10.07.1999

Авторы: Барабошкин, Бутримов, Злоказов, Калиев, Ракша

МПК: C25B 1/00, C25D 3/66

Метки: бронз, металлов, оксидных, переходных, покрытий

Способ получения покрытий из оксидных бронз переходных металлов путем электрохимической обработки подложки из переходного металла в расплаве, содержащем оксиды щелочных и переходных металлов, отличающийся тем, что, с целью получения тонких пленок, обладающих электрохромными свойствами, обработку ведут при анодной поляризации подложки в режиме ее растворения при потенциале от -500 до +250 мВ относительно кислородного электрода сравнения в течение 10-1 - 10 с.

Номер патента: 1450401

Опубликовано: 27.06.2007

Авторы: Балакир, Бержатый, Киракосян, Кириенко, Чавчанидзе

МПК: C23C 28/00, C25D 3/66

Метки: комбинированной, электротехнических

1. Способ комбинированной обработки электротехнических деталей, включающий последовательное нанесение подслоя на основе металлов и слоя оксидов, отличающийся тем, что, с целью повышения электрической прочности деталей, подслой формируют со структурой твердого раствора путем последовательного легирования поверхности детали элементами, выбранными из группы, включающей хром, железо, ванадий, алюминий, иттрий, электролизом из солевого расплава галогенидов, содержащего 65-98 мас.% галогенидов щелочных металлов, при 725-950°С, катодной плотности тока 50-800 А/м2 в течение 0,5-5 ч, а в качестве слоя оксидов на подслой наносят слой оксида иттрия.2. Способ по п.1,...