Тацуичиро

Номер патента: 1442080

Опубликовано: 30.11.1988

Авторы: Тацуичиро, Тосинори, Юносюке

МПК: C23C 14/00

Метки: металлического, нанесения, подложку, покрытия

...1, В 2-В 2,Устройство работает следующим образом.В камере 3 парового осаждения поддерживают вакуум в пределах 1,33 10 -1,33 10 Па. С помощью разогретогокатода 8 под действием приложеннойразности потенциалов 0,1-10 кВ междукатодом 8 и тиглем 7 (анодом) происходит его электронная бомбардировкаи тигель 7 нагревается до 200-2500 С.В результате в тигле 7 создаетсяизбыточное давление паров, под действием которого пары материала 12сбрасываются через выходное отверстие, диаметр которого составляет1-ЗОЕ диаметра тигля 7 в виде струи,Образовавшийся за счет адиабатического расширения пучок ионизируется за счет столкновения с электроннымпотоком, который образуется с помощью источника 10 электронов и ионизирующего электрода 9, являющегосяанодом,...