Патенты с меткой «подложку»

Номер патента: 1395384

Опубликовано: 15.05.1988

Авторы: Баженов, Белов, Митькин

МПК: B05C 5/02

Метки: движущуюся, нанесения, пленкообразующего, подложку, раствора

...зазор между полюсными наконечниками 1 и 2. При этом ферромагнитная среда в диамагнитной оболочке препятствует свободному вытеканию состава покрытия. За счет движения подложки перед ферромагнитной средой в диамагнитной оболочке создается повышенное гидростатическое давлецие состава покрытия, под действием которого ферромагнитная среда в диамагнитной оболочке отжимается от поверхности подложки, образуя с ней щелевой зазор. Г 1 од действием гидростатического давления 5 О 5 20 30 35 40 45 50 состав покрытия равномерно распределяется по всей ширине щелевого зазора и ровным слоем наносится на движущуюся подложку.Количество состава покрытия, поступающего из емкости 7, регулируется таким образом, чтобы не допускать перетекания состава...

Номер патента: 1431684

Опубликовано: 15.10.1988

Авторы: Реми, Эрвин

МПК: B32B 5/08, D04H 11/00

Метки: ворсового, имеющего, подложку

...устройство 21 с радиальными лопатками22, длина которых неодинакова, Данноеустройство аналогично колесу 15, Установка имеет вентилятор 23 для обеспечения Формирования петель ворса водном направлении,Установка в другом варианте выполнения по фиг. 5 имеет средство, длясообщения матрице возвратно-поступательного перемещения в пласкости,перпендикулярной направлению перемещения подложки, для чего оно имеет ку-,лачок 24, щуп 25, подпружиненный пружиной 26 и шарнирно соециненный с кулисой 6. Средство имеет направляющую27 для расположения другого концащупа. Кулачок 24 синхронизирован сработой шатуна 14. Для формирования .петель ворса имеется гребенка428, зубья которой выполнены в видевертикальных пластин, расстояние между которыми соответствует...

Номер патента: 1442080

Опубликовано: 30.11.1988

Авторы: Тацуичиро, Тосинори, Юносюке

МПК: C23C 14/00

Метки: металлического, нанесения, подложку, покрытия

...1, В 2-В 2,Устройство работает следующим образом.В камере 3 парового осаждения поддерживают вакуум в пределах 1,33 10 -1,33 10 Па. С помощью разогретогокатода 8 под действием приложеннойразности потенциалов 0,1-10 кВ междукатодом 8 и тиглем 7 (анодом) происходит его электронная бомбардировкаи тигель 7 нагревается до 200-2500 С.В результате в тигле 7 создаетсяизбыточное давление паров, под действием которого пары материала 12сбрасываются через выходное отверстие, диаметр которого составляет1-ЗОЕ диаметра тигля 7 в виде струи,Образовавшийся за счет адиабатического расширения пучок ионизируется за счет столкновения с электроннымпотоком, который образуется с помощью источника 10 электронов и ионизирующего электрода 9, являющегосяанодом,...

Номер патента: 1452475

Опубликовано: 15.01.1989

Автор: Эгберт

МПК: B65H 5/08

Метки: длину, заданную, захвата, отрезаемой, отрезной, планки, пленки, подложку, положения, транспортировки, устанавливаемой, фиксации

...трубе 16, на которой крепится нагретая отрезная проволока 19, которая проходит перпендикулярно относи 5 тельно рабочей плоскости. Посредством силовых цилиндров 18 отрезная проволока 19 при выходе поршневых штоков силовых цилиндров 18 проходит возвратно-поступательно в плоскости 20 резания.Отрезное приспособление 4 имеет направляющие отверстия 21, которые предназначены для штанг 22, переме -" 15 щающихся вертикально вниз и вверх. На нижних концах штанг 22 расположены отрезная планка 23, на которой крепится подложка 24, содержащая в плоскости 20 резания отрезную канав 20 ку 25. Перемещаемая возвратно-поступательно горизонтально с помощью силовых цилиндров 18 нагретая отрезная проволока 19 отрезного приспособления 14 после отрезания...

Номер патента: 1452615

Опубликовано: 23.01.1989

Авторы: Вареник, Лазарев

МПК: B05C 5/02

Метки: нанесения, подложку, светочувствительных, слоев

...и крышкой 8. В разрыв между перегородкой 7 и крышкой 8 установлена перфорированная труба 9, внутри которой на оси расположена лопатка 1 О, выполненная с ,бочкообразной формой по длине. Ось лопатки 10 опирается на щеки 11 и 12 вакуум-камеры, с осью связан механизм 13 поворота лопатки 10, представляющий из себя рычаг с ручкой и фиксатором ее положения. Для подключения вакуумной магистрали служит 2 С штуцер 14.Устройство работает следующим образом.Экструзионная головка 1 формирует плоскую струю покрытия 2, которая наносится на подложку 3, движущуюся равномерно с опорой на вал 4. Для лучшего сцепления с подложкой под мениском нанесения покрытия в вакуум-камере 5 поддерживается пониженное давление 15 - 20 мм вод. столба. 5Воздух постоянно...

Номер патента: 1465430

Опубликовано: 15.03.1989

Авторы: Евстишенкова, Сасина, Ушаков, Федорова

МПК: C03C 27/04

Метки: металлическую, нанесения, подложку, стекла

...корпусе детали выбирают необходимое время Формирования35 стеклазаготовки, Так при диаметре в корпусе 2,5 мм в кааксиальной системе электродов проводят осаждение в течение 3 с, Далее стеклазаготовки сушат при 100 + 10 С в течение 10 + + 5 мин и обжигают при 500 + 10 С в течение 10 + 5 мин, Собирают металлостеклянный узел путем вставления стеклозаготовок на гермовводах в отверстия корпуса детали, помещают 45 сборку в печь с температурой 540 + + 10 С и выдерживают в течение 10- 60 мин в зависимости от размеров детали и охлаждают вместе с печью.П р и м е р 2. Технологические операции те же, что и в примере 1, только стеклазаготоьку Формируют на гермавводе из ковара а обжиг стекло- заготовки и спаивание с корпусом из легированной стали...

Номер патента: 1466802

Опубликовано: 23.03.1989

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/02, G03C 1/74

Метки: жидкости, нанесения, подложку, слоев, фотографических

...слоев на подложку, содержащем корпус с поверхностью свободного стекания, выполненный с распределительным каналом и выпускной щелью, поверхность стекания покрыта слоем пористого материала, часть которого расположена в выпускной щели,Слой пористого материала может быть выполнен из отрезка ткани, закрепленного в распределительном канале.Кроме того, слой пористого материала может быть выполнен из пористой пластмассы, напыленной на поверхность свободного стекания и часть поверхности выпускной щели.Причем слой пористого материала может быть приклеен к поверхностям свободного стекания и выпускной щели.Наносимая жидкость движется под действием сил капиллярного давления и сил гравитации по капиллярам пористого материала и поступает на...

Номер патента: 1469444

Опубликовано: 30.03.1989

Автор: Гутлянский

МПК: G01N 29/04

Метки: диэлектрическую, металлических, нанесенных, пленок, подложку, ультразвукового

...перпендикулярно контролируемой пленке фиксируют поперечные колебания подложки, При наложении магнитного поля параллельно контролируемой пленке Фиксируют продольные колебания подложки. При наложении поля под острым углом к пленке Фиксируют продольные или поперечные колебания.Для определения площади р отслоенного участка, в случае если его площадь меньше площади Ы пятна магнитно го поля, измеряют амплитуды Аз и А колебаний для неотслоенного и отслоенного участков соответственно и определяют по Формулеа рА55А 1Устройство, реализующее способ контроля, работает следующим образом. Акустические колебания в подложке 17 возбуждаются силами Лоренца, которые возникают при прохождении переменного электрического тока, генерируемого генератором...

Номер патента: 1469454

Опубликовано: 30.03.1989

Авторы: Абаджев, Алиев, Амирханян, Карапетьян

МПК: G01N 30/96

Метки: нанесения, подложку, слоя, сорбента

...дляния тонких слоев суспепзии на подложки. Целью изобретения являетсяповышение качества слоя сорбента. Вустройстве, содержащем две боковыепластины и пластину-нож с регулирующими винтами, устанавливаются двастальных основания, изогнутых подуге и закрепленных в нижней кромкеножа под винтами. Использованиестальных гибких изогнутых па дугеоснований в устройстве дает возможность получать однородные потолщине слои на непрецизионных стеклянных подложках, а также повьппаетнепрерывность и плавность движенияпотока пластин. 3 ил,ных подложек регулируется винтами 7 и 8, упирающимися в стальные основания 9 и 10 и фиксируемыми гайками 11 и 12.Перед началом работы подложки 5 укладывают на выступы стола 4 Нож 6 вставляют в углубления боковых...

Номер патента: 1541542

Опубликовано: 07.02.1990

Авторы: Антонов, Самиуллин, Цветков

МПК: G01R 31/02, G01R 31/303

Метки: внешних, выводов, диодами, замыканий, изолирующими, интегральных, коротких, корпус, обрывов, отсутствия, подложку, схем, твердотельных

...по номиналу ограничительные резисторы 4.1-4.п, Этонапряжение должно быть больше, чемнапряжение обратимого пробоя диоднойизоляции в интегральной микросхемеа ток пробоя не должен превышать значения, гарантирующего обратимостьпробоев любых р - и-переходов микросхемы (Фиг.2-5)На ТТЛ-микросхеме (Фиг.2) при подключении выводов 3.1-3,5 к отрицательному полюсу источника 5 через токоограничивающие резисторы 4,1-4.5 открываются входные 8-10 и изолирующие11-13 диоды. При отсутствии обрывови коротких замыканий выводов на корпус или подложку нз всех резисторах4,1-4.3, 4,5, подключенньх к выводам3.1-3.3, 3.5, устанавливается напряжение источника 5 за вычетом прямого5 154 падения напряжения йа диодах. На резисторе 4.4, подключенном к выводу 3,4...

Номер патента: 1567873

Опубликовано: 30.05.1990

Авторы: Байгильдин, Гавриленко, Гайнутдинов

МПК: G01B 11/06

Метки: многослойных, нанесении, оптических, подложку, покрытий, слоев, толщин

...иэ того, что матрица, являющаяся результатом произведения матриц, соответствующих четырем чередующимся слоям, при выборе длины волны излучения согласно (1) эквивалент на единичной матрице. Другими словами, пропускание системы слоев на длине волны, вычисленной по (1), не зависит от числа систем (ВН) или (НВ)2 нанесенных на подложку (В и Н - слои 45 с высоким и низким показателями преломления).Из (1) видно, что аргумент арксинуса не превышает единицу при любом Х. Таким образом, предлагаемый способ 50 позволяет использовать вещества с любыми показателями преломления.Длина волны Фк в зависимости от Х. системы;и - показатель преломления подложки; и - показатель преломоления исходной среды (воздух). Результаты для Х и 1/Х аналогичны.Видно, что...

Номер патента: 1569685

Опубликовано: 07.06.1990

Авторы: Зелимханов, Трофимов

МПК: G01N 23/203

Метки: вещества, диэлектрическую, кондерсации, молекулярного, подложку, пучка, электропроводящего

...и теневое изображение 6 края подложки 1 с пленкоР конденсата имеет не" искаженный характер. По появлению такого неискаженного теневого изображе ния 6 индицируютконденсацию молекулярного пучкаП р и м е р 1. Берут в качестве 10 подложки свежий скол кристалла хлористого калия (КС 1), с поверхностным сопротивлением= 10 Ом/цполмещают в колонну электронограФа ЭГИ, которую откачивают до давле ния 10Па. На поверхность подложки направляют пучок быстрых электронов с энергией 80 кэВи током в пучке 50 мкА под скользящим углом 1-3 . Лю минесцентным экраном, ориентированным 20 перпендикулярно направлению падающего электронного пучка, регистрирукт некогерентно,рассеянные подложкоР электроны. При этом наблюдают теневое изображение края подложки в...

Номер патента: 1585669

Опубликовано: 15.08.1990

Авторы: Байгильдин, Гайнутдинов

МПК: G01B 11/06

Метки: многослойных, нанесении, оптических, подложку, покрытий, слоев, толщин

...отсюда получены формулы (3) и (4).Для второго слоя из (6) получаем формулу (2).Нанесение первого слоя прекращается по достижении им определенной величины, Очевидно, что наименьшаяошибка в толщине слоя получается когда нанесение слоя прекращается в точке перегиба, т.е. в точке, гдеДифференцируя дважды (5), получа-.ют формулу (1)Доказательство расширения диапазона показателей преломления наносимых слоев и подложки. Т = 3.+Б+Рф(5) Я ного Я 0 14 ---2Нанесение слоя прекращают по достижении потоком прошедшего (отраженного) излучения экстремального значения.При выполнении указанных условий оптическая толщина каждого слоя равна 0,25 ДЭто вытекает из следующих рассуждений: п ип - показатели преломления череП+ 1дующихся слоев.Поток пропущенного...

Номер патента: 1606919

Опубликовано: 15.11.1990

Авторы: Безверхий, Марченко, Плынин

МПК: G01N 21/88

Метки: нанесенных, непрозрачных, отверстий, подложку, покрытиях, прозначную, регистрации, сквозных

...способа.Установка содержит осветитель 1, направляющий под углом к нормали поток когерентного излучения на прозрачную подложку 2 с непрозрачным покрытием в виде маскирующего слоя 3. Параллельно подложке 2 и с противоположной ее стороны расположен плоский экран 4, способный перемещаться в своей плоскости, на поверхность которого нанесен светочувствительный слой 5, в котором после фотохимической обработки наблюдаются дифракционные изображения отверстий 6.Способ осуществляют следующим образом.1606919 Формула изобретения Составитель Л. ЛобзоваРедактор А. Ревин Техред А. Кравчук Корректор О. КравцоваЗаказ 3547 Тираж 511 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж 35, Раушская...

Номер патента: 1613191

Опубликовано: 15.12.1990

Авторы: Волков, Стецко

МПК: B05C 5/02

Метки: нанесения, пленкообразующего, подложку, раствора

...концы уемрычагов 19, верхние концы которых шарнирно соединены с корпусом б с помощью паяц цев 20. Гружины 21 одним кон- )ацом прикреплены к корпусу 6, а другим - к рычагам 19 и способствуют прижатию шестерни 17 к шестерне 16. Вал18 связан с валом редуктора 8 с помощью двойного карданного шарнира 22, допускающего изменение положения оси вала 18.. Устройство работает следующим образом.При отключенном приводе в блок 1 . формования через патрубок 13 подают раствор до заполнения полости 14. Затем включают привод 2, и ведущая шестерня 8 получает вращение через редуктор 3 от вала 15 блока колебаний частоты вращения. Шестерня 8 переда ет вращение шестерне 9. Обе шестерни вращаются в направлениях, указанных стрелками, и переносят раствор из...

Номер патента: 1670385

Опубликовано: 15.08.1991

Авторы: Рыков, Харионовский

МПК: G01B 11/06

Метки: нанесенных, пленок, подложку, толщины, тонких

...значенияющих соседнимэксционной картины втре,Из формулы (1) следует, что в спектрах прозрачности при длинах волнЯох = , пч = 2, 4, 6 (2) наблюдаются максимумы, а при длинах волн4 п 1 л =4 пб%=1,3,5гпнаблюдаются минимумы.Если показатель преломления пЯ) зависит от длины волны, то из интерференционных полос нельзя определить толщину пленки, однако, часто можно считать пЯ ) = сопзс, тогда на основании длин волн Ат, и А - 1, соответствующих соседним экстремумам в спектре прозрачности, может быть определено произведение пб из равенства 4 пб в Ьл = (гп - 1 Яг - 1, откуда Способ осуществляют следующим образом. На тонкую стеклянную подложку размерами 10"0,5"0,2 мм с одной стороны в качестве непрочного слоя наносят тонкую алюминиевую...

Номер патента: 1691790

Опубликовано: 15.11.1991

Авторы: Балабанов, Цветков, Шаевич

МПК: G01R 31/02, G01R 31/303

Метки: внешних, выводов, диодной, замыканий, изоляцией, интегральных, коротких, корпус, обрывов, подложку, схем, твердотельных, фиксации

...источника 5. При нали.чии на всех входах блока 6 компараторов 45потенциалов, отличных от нуля и меньшихнапряжения источника 5, на выходе блока 6компараторов имеется напряжение, соответствующее уровню "0",. В случае обрыва любой из клемм 3,1 - 50З.п микросхемы 1 на соответствующем входе блока 6 компараторов устанавливаетсянулевой потенциал, В случае обрыва клеммы 2, соединенной с подложкой кристалламикросхемы 1, нулевой потенциал устанавливается на всех входах блока 6 компараторов. В случае короткого замыкания любойиз клемм 3.1 - З.п микросхемы 1 на корпусили подложку кристалла на соответствующем входе блока 6 компараторов устанавливается полное напряжение источника 5. Появление на любом входе блока 6 компараторов нулевого потенциала,...

Номер патента: 1691909

Опубликовано: 15.11.1991

Автор: Медведев

МПК: H01L 21/60, H01L 23/48

Метки: алюминиевой, золотой, кремниевую, нанесенной, пленке, подложку, присоединения, проволоки, тонкой

...до 320 С термопластичный компаунд сульфарил окунают конец золотой проволоки диаметром 30 мкм при вязкости сульфарила 200 10 Па с,-2 Размещают конец золотой проволоки на алюминиевой пленке и, прикладывают перпендикулярно к ее оси и поверхности пленки давление 70-100 Н/мм . Использование2данного способа позволяет повысить выходгодных до 99% щадь контактирования. В момент резкого поднятия инструмента вязкий компаунд тормозит движение проволоки вслед за инструментом, что облегчает отделение проволоки от инструмента и предотвращает возможность отрыва проволоки с частью металлического слоя от кристалла, Таким образом достигается увеличение механической прочности соединения,Экспериментально установлено, что вязкость термопластичного...

Номер патента: 1739358

Опубликовано: 07.06.1992

Авторы: Блатов, Васильев, Красовский, Филиппов

МПК: G03C 1/74

Метки: влагосодержащих, вспомогательных, движущуюся, подложку, полива, пропусков, растворов, слоев, фоточувствительных, эмульсий

...эмульсий и растворов для вспомогательных слоев на движущуюся подложкуработает следующим образом. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Переменное электрическое поле, создаваемое блоком 1 поляризации, через активный электрод 2 наводит ЭДС в пассивном электроде 4, которая затем усиливается усилителем 6, сигнал с которого подается на блок 7 сравнения двух сигналов, вторым из которых является сигнал с источника 8 опорного напряжения. Подложка с политым влагосодержащим слоем ослабляет ЗДС, наводимую в пассивном электроде 4 тем сильнее, чем больше влажность слоя, Сигнал с источника 8 опорного напряжения соответствует по величине сигналу с усилителя 6 при нормально политой подложке.Таким образом, на выходе блока 7 сравнения двух сигналов при...

Номер патента: 1630154

Опубликовано: 15.06.1992

Авторы: Пащенко, Ткач, Уваров, Шеремет

МПК: B23K 15/00

Метки: нанесения, подложку, покрытий

...повышении плотности мощности до ц - 5 10 Вт/м поверх 12 2ность становилась неровной, толщина покрытия колебалась от 0 до 150 мкм, на поверхности наблодались кратеры. Таким образом, приемлемое качество покрытий получается, когда 11 находится в диапа оне 5 10 щ ц 5 10 д Вт/м 2 При О = 4 10 Вт/м были проведены испы 11 2тания по определению оптимального расстоянияслоя от подложки. Вначале алюминиевую фольгу толщиной 100 мкм расположили непосредственно на подложке, После облучения электронным пучком с параметрами, указанными выше,получали оплавленную неровную поверхность медной подложки со следами алюминия на поверхности, При удалении фольги от подложки на расстояние 2 мм получали сплошное покрытие с микротвердостью Н,Я - 4260-3710 МПа....

Номер патента: 1773499

Опубликовано: 07.11.1992

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/02

Метки: гибкую, нанесения, подложку, покрытия, экструзионное

...подложку, содержащем щелевую головку и два опорных вала, между опорными валами расположен полый элемент, снабженный продольным пазом, который расположен против формировочной щели головки, причем со стороны, противоположной головке, к опорным валам примыкает короб, сообщенный с источником пониженного давления, внутренняя полость полого элемента сообщается с источником повыщенного давления.1773499 О армуд а изобретения оставитель А,Шатоехред М.Моргентал С вактор Е.Хорина Корректор А.Мотыль аказ 3886 ВНИИПИ Госуда Тирак Подписноевенного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 роизводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул,Гагарина, 10 На чертеже изображено...

Номер патента: 1778019

Опубликовано: 30.11.1992

Авторы: Копьев, Корнилов

МПК: B43K 27/00

Метки: красок, нанесения, подложку, разноцветных, чернил

...цветного изображения.На фиг,1 показан пишущий наконечник; на фиг,2 - вид А на фиг.1, где позициями обозначены; Р - усилие нажима; а - угол наклона; Р - угол поворота; 1 - пишуший наконечник; 2 - корпус; 3 - подложка; 4 - перегородка; 5 - сектор; 6 - защитная обоЦелью изобретения является расшиние диапазона цветовых тональностей ибражения и упрощения в реализации. Сущность изобретения заключается леду ернил или т путем по- истого пилненного красками; ен ие разноцветных подложку осуществл руг продольной оси наконечника, эа ными чернилами и Нане красок на ворота во шущего разноцве(21) 47 22) 04. (46) 30. (71) Мо (72) К, (56) Па кл, В 4 (54) С НЫХ Ч КУ (57) Ис шущих и красок на ем поворота го пишущего зноцветными истый пишун из...

Номер патента: 1782671

Опубликовано: 23.12.1992

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/02

Метки: гибкую, нанесения, подложку, покрытий, поливная, светочувствительных, экструзионная

...источником пониженного давления,крометого, весь набор трубчатых элементовразделен вакуум-рольгангами на отдельныеучастки.На фиг. 1 изображена предлагаемая машина, общий вид; на фиг, 2 - щелевая головка, опорный вал, набор трубчатыхэлементов с вакуумными рольгангами и короб студенения,Машина содержит размотку 1, тянущееустройство 2, опорный вал 3, щелевую головку 4, опорный тракт, выполненный в виденабора трубчатых элементов 5 с отверстиями 6, расположенные с зазорами 7 друг отдруга и присоединенным снизу коробом 8.Набор трубчатйх элементовразделен на отдельные участки вакуум-рольгангами 9, Наднабором трубчатых элементов расположен:.-.: в .короб студенения 10, За коробом студенения расположена сушилка 11, тянущийрольганг 12 и намотка...

Номер патента: 1785530

Опубликовано: 30.12.1992

Автор: Пащенко

МПК: C12M 3/00

Метки: биологических, микрофрагментов, подложку, посадки, тканей

...ь упьтцпцраванипУназаннэч ц 1 эпь дастцгаетсч цспа 11 ь)апанцем усгростпа, ь атарае састацт идву ПОПЫ ЦИПИНДРОП ППОтНг 7 1 птдпд ьь-1один в другом, а подпо н н:а в виде ппастины унреппена нэ и ни;кни, торцан и в ней выполнены снвозные отверстия дпч проода нидности в виде усеченны конусов, обращенны меньшими основаниями вверк 5 При этом внутренний цилиндр соединен со всасывающим приспособлением, обеспечивающим поступпение суспензцц микро- фрагментов биопогичесн и тн аней в полость внутрейнего цилиндра 10На фиг 1 пон:азана устройство, общий вцд; на фиг 2 - подложка с нанесенными на ней снвозными отверстиями 1 рэзреэ Л - А; ца фиг, 3 - устройство в сбор еУстройство состоиг из подпоэ,нц 1, со дер нэщей отверстич в виде усеченцык ионусов 2,...

Номер патента: 1818617

Опубликовано: 30.05.1993

Авторы: Котов, Лупарев, Мкртичан, Попов, Селимханов, Шнейдман

МПК: G03G 5/082

Метки: изображения, нанесения, носителя, подложку, промежуточного, цилиндрическую

...ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 носителей информации следует изменитьрасстояние между подложкой и испарителем, изменяя и их диаметры. Оптимальноесоотношение диметров испарителя и под-,ложки должно соответствовать условию4исп5, При ис4 фоточувстви Оисп ОиспОподлОподлтельность промежуточного носителя изображения уменьшается, т.е, градиенттемпературы в слое низкий и удельный тепловой поток, проходящий через слой не может формировать высокочувствительнуюнадмолекулярную структуру аморфного селена.При соотношении5 градиентОиспОподлтемпературы в слое высокий, на свободнойповерхности...

Номер патента: 1827691

Опубликовано: 15.07.1993

Авторы: Комаров, Корчагин

МПК: H01L 21/312

Метки: нанесения, подложку, покрытия

...вмещается более 1000 мл материала покрытия, что составляет 1000 доз величиной 1 мл.Работа устройства происходит следующим образомЧерез штуцер 16 в дополнительную емкость 5 из технологических емкостей заливается материал покрытия - врассматриваемом примере фоторезист, Затем включается электропривод 15, сообщаащий возвратно-поступательное движение рабочему элементу - сильфону дозатора 1. При движении вниз сильфон растягивается, внутри него создается разрежение, и фоторезист через входной всасывающий) клапан дозатора 1, трубопровод 2, фильтр 3 и заборный патрубок 4 поступает из дополнительной емкости 5 внутрь дозатора 1 до тех пор, пока флажок 13 не дойдет до датчика 12, фиксирующего момент заполнения доза- торэ 1. Датчик 12 формирует...

Номер патента: 1836655

Опубликовано: 23.08.1993

Автор: Томас

МПК: G03C 1/74

Метки: виде, жидкой, завесы, композиции, нанесения, падающей, подложку, покрытия, свободно

...предпочтительному варианту оно должно отстоять на (0,2-1,2) 10 м от участка столкновения 5 завесы 5 с подложкой 6. Удаление отверстия25 вверх на большее, чем максимальное, расстояние обуславливает меньшую эффективность направляющей для кромки при стабилизации завесы и удалении загрязне ний, о которых речь шла выше. Вмесго круглого можно испольэовать отверстие любого поперечного сечения, в частности, удлиненное, щелевидное или комплект нескольких отверстий меньшего размера, общая площадь поперечного сечения которых равна той, что необходима для удаления омывающей жидкости, В том случае, когда устрой- стао автора настоящего изобретения, вариант которого описан в связи с фиг, 7, работает в предпочтительных интервалах параметров, укаэанных...

Номер патента: 2003735

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Иовдальский, Рыбкин

МПК: C23C 14/04

Метки: маска, напыления, пленочных, подложку, элементов

...подложки, отверстия имеютразмер, превцшающий заданный размеротверстий на 50-2000 мкм, а стенки отверстий заданного размера могут быть выполпод угло 15-85 к плос остипластин ц,Изготовление масок с уменьшеннымразмером элементообразующих кромокснижает экранирование стенками отверстий в маске и дает возможность увеличить воспроизводимость геометрии пленочныхэлементов путем повышения равномерности толщины напцляемцх пленочных элементов.5 Ограничение высоты расположениярасширения отверстий от плоскости маскименее 5 мкм определяется соображениямипрочности, а более 100 мкм - увеличениемэкранирования. Ограничение расширения10 отверстий маски менее 50 мкм объясняетсяувеличением явления экранирования края.ми отверстий, а более 2000 мкм -...

Номер патента: 1829679

Опубликовано: 20.05.1995

Авторы: Гунина, Комаров, Суровцев

МПК: G03F 7/26

Метки: нанесенного, подложку, слоя, термообработки, фоторезиста

...способа для термообработки резиста позволит повысить качество слоя резиста, а именно равномерность слоя по толщине по поверхности подложки, уменьшить дефектность, а следовательно, увеличить выход годных после литографических операций за счет повышения качества термообработки. Все зто дает возможность ввести в КД допуск на размеры не +0,3 мкм, а + 0,2 мкм, получить воспроизводимость от пластины к пластине и по пластине уменьшить реставрацию. термопарой, Для сравнения проводилисьоперации термообработки известными методами; для шаблонов - конвекционным,для кремниевых пластин - посредством го 5 рячей плиты, Режимы обработки приведеныв табл. 3,Все полученные данные обрабатывались статистическим методом в производственных...

Номер патента: 1674644

Опубликовано: 27.10.1995

Авторы: Витовтова, Чиркунов

МПК: G03C 1/74, G03F 7/16

Метки: нанесения, пленочного, подложку, покрытия

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНОГО ПОКРЫТИЯ НА ПОДЛОЖКУ, содержащее столик для размещения и фиксации подложки, кинематически связанный с приводом вращения, магистраль для подачи сжатого газа на подложку со стороны столика и дозатор для подачи исходного материала покрытия, отличающееся тем, что, с целью расширения эксплуатационных возможностей устройства, в столике выполнено кольцевое углубление, соответствующее форме и размеру подложки, соединенное с магистралью для подачи сжатого газа, причем высота h его внутренней стенки и высота h его внешней стенки связаны соотношениемh