Патенты с меткой «подложку»

Номер патента: 891459

Опубликовано: 23.12.1981

Авторы: Горохов, Леонов, Ращепкин

МПК: B29D 7/08

Метки: нанесения, пленкообразующего, подложку, раствора, фильера

...6и гаек 7, образующих дифференциальныйвинт, и контргаек 8, Между ограничительной планкой 4 и рубашкой 3 термо Остатирования установлена термоиэоляционная прокладка 9, Рубашка 3 терностатирования выполнена с каналами 10,расположенными у нижнего и верхнегоее краев и сообщающимися между собой. 15Каналы 10 снабжены штуцерами 11 спробками 12 для заполнения рубашки 3легкоиспаряющейся жидкостью. Рубашкагерметизирована с помощью уплотнительного кольца 13. В рубашке 3 термостатирования имеется паз 14 длядоступа к контргайкам 8.Рубашка 3 термостатирования и механизм крепления ограничительной планки 4 изолированы от полости корпуса 1передней стенкой 15 с термоизоляцион"ной прокладкой 16. Барабан 17 выпол"няет роль подложки.Фитиль 18 размещен в...

Номер патента: 901355

Опубликовано: 30.01.1982

Авторы: Вернер, Вольфганг, Детлеф, Клаус, Лотар, Ханс-Дитер, Хельмут, Элимар

МПК: C23C 13/06

Метки: масок, нанесения, подложку

...после чего удалением Фотореэиста с нанесенным на него маскиРующим защитным покрытием получают рисунок маски. На чертеже схематически изобраае" ио осуществление предлагаемого способа.На подложку 1, изготовленную из фенольной смолы, для улучшения сцепления нанесенного, например вакуумным испарением, рисунка структурного слоя 2 наносится сцепляющее вещество 3.901355 Плотно прилегающая к сцепляющему веществу 3 маска 4 состоит из металлической основы в виде сетки 5 . на стали, настолько тонкой, чтобы не было теней рисунка из фоторезиста 6 и нанесенного испарением защитного .слоя 7 из хрома, который предохраняет фоторезист 6 от нагрузок во время процессов испарения и восстановления. Предназначенный для испарения материала, например медь, при...

Номер патента: 934339

Опубликовано: 07.06.1982

Авторы: Епанешникова, Лебедь

МПК: G01N 27/02

Метки: металлического, наличия, нанесенном, подложку, свинца, спекании, стеклоприпое

...после чего определяют его температурный коэффициент сопротивленияизвестным методом. На упомянутый образец кладут стеклоцемент и спекают их при температурном режиме, обес.пецивающем получение требуемыхсвойств стеклоприпоя (термостойкость,прочность спаивания и др.), Затемвновь определяют температурный коэфФициент сопротивления образца изрезистивного материала,При отсутствии восстановленияметаллического свинца, температурныйкоэффицент сопротивления которогоравен 4200 10 1/ С, температурныйкоэффициент сопротивления образцане изменяется или уменьшается засчет тензоэффекта в случае, когдатемпературный коэффициент линейногорасширения резистивного образцабольше, чем у стеклоприпоя. При восстановлении в стеклоприпое свинцатемпературный...

Номер патента: 947688

Опубликовано: 30.07.1982

Авторы: Ханжин, Яковлев

МПК: G01N 3/00

Метки: металлическую, нанесенной, пленки, подложку, прочности

...В процессе деформированияматериал подложки упрочняется и О,предел текучести повышается. Однако947688 формула изобретения 30 Составитель М. Кузьмин Техред М. Надь Корректор М. Шарошн Редактор М. Янович Тираж 887 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Заказ 5620/64 филиал ППП 1 Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 это увеличение ограничено предель-, ным значением предела текучести, после достижения которого увеличение деформации уже не вызывает существенного увеличения напряжения. Этот факт используется при последующем совместном деформировании подложки и пленки, когда предел текучести не изменяется и остается равным предельному значению...

Номер патента: 952373

Опубликовано: 23.08.1982

Авторы: Гетманенко, Горбачев

МПК: B05C 5/02

Метки: головка, многощелевая, нанесения, подложку, фотоэмульсии

...накладками 12 и 13. Накладка 13 одновременно является корпусом вакуум камеры 14. Все пластины в блоках и блоки между собой соединены стяжными болтами 15 - 18 (фиг. 1) по длине головки резьбовые втулки 3, 4, 8 и 9 чередуются со стяжными болтами соответственно 15 - 18. Вставка 11 служит для объединения блоков. Между рабочими концами контактирующих регулировочных пластин блоков размещена прокладка (фиг. 3), выполненная в виде пакета, содержащего металлическую пластину9 с наклеенными на ее боковых поверхностях полосками из упругого материала 20 и 21 и обернутого тонкой пленкой 22, имеющей гладкую поверх- го ность.Регулировка щелей осуществляется следующим образом,Для изменения размера щели, образованной пластинами 1 и 5, вращают резьбовую...

Номер патента: 973171

Опубликовано: 15.11.1982

Авторы: Косыгина, Музыкант, Степанов

МПК: B04B 5/00, H01C 17/06

Метки: нанесения, подложку, фоторезиста, центрифуга

...от стенок сборника капель фоторезиста, указанное устройство состоитиэ пластин, изогнутых по пирали Архимеда и укрепленных на внутренней поверх-ности крышки сборника с образованиемканалов для отсоса излишков фоторезиста,при этом концы пластин, распопоженные 1 4у подложки, имеют скосы, обращенные к последней.На фиг. 1 изображена предлагаемая центрифуга, продольный разрез; на фиг. 2 разрез А-А на фиг, 1; на фиг. 3 - вид Б на фиг. 2 (форма пластины).Центрифуга для нанесения фоторезиста на подложку содержит сборник 1 фоторезиста с крышкой 2, установленную на валу электропривода 3 оправку 4 дпя закрепления обрабатываемой подложки 5 и устройство дпя предотвращения попадания на последнюю отраженных от стенок сборника капель фоторезиста,...

Номер патента: 983096

Опубликовано: 23.12.1982

Авторы: Голованов, Грибов, Григос, Дубровин, Козыркин, Кощиенко, Старшинина

МПК: C03C 17/245

Метки: нанесения, подложку, покрытия, стеклянную, электропроводящего

...зочества прозрачных электропроводящих слоев.Процесс совместного термического разложенияВд 8 п и Взи (или Вз и О (СгНя)г) характеризуется высокой воспроизводимостью параметров получаемых электродов (+3%). Слои, полученные по предлагаемому способу, имеютповерхностное сопротивление Вз = 500 Ом/сми не требуют дополнительной термообработки,что существенно упрощает процесс и повышаетвыход годных электродов.Предлагаемый способ прост, дешев и универсален, что делает его удобным для промышленного использования. При соотношенииВаап:Взи (или Взи 0(СгНя)г ( 1:0,01осаждают прозрачные электропроводящие слоиокиси олова с содержанием пгОз ( 0,8 вес.%характеризующиеся низким качеством получае.мого на них фотолитографического рисунка.При. соотношении В 48...

Номер патента: 994032

Опубликовано: 07.02.1983

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/00

Метки: нанесения, подложку, светочувствительных, слоев

...коллектора 2 каналы 9, 1 ОФормула изобретения 3 99403 и 1 1 для прохода жидкости. На передней части устройства выполнена на" клонная плоскость 12. В нижней части устройства расположена ракля 13, закрепленная между планкой 14 и корду" сом 1 винтами 15. В заднюю стенку устройства ввернут штуцер 16, имею" щий канал 17, сообщающийся с полостью 8. Ракля 13 опирается на подлож" ку 18. На перегородке 6 шарнирно эа" 1 в креплены откидные накладки 19-28, и механизмы 29"38 их прижатия к на" клонной плоскости 12. Верхняя часть наклонной плоскости 12 имеет кром" ку 39, Количество накладок выбирают в зависимости от требуемой ширины покрытия, наносимого на подложку,Устройство работает следуюцим образом.Жидкость через канал 17 в штуце ре 16...

Номер патента: 994033

Опубликовано: 07.02.1983

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/02

Метки: головка, нанесения, подложку, фотоэмульсии, щелевая, экструзионная

...пластины 1,2 и 3 и образованные ими распределительные каналы С 1 и о с выходными ще-лями С и Ц, выходящими на поверхнос"ти свободного стекания И ипластин.Головка снабжена разделительными профилированными вставками 9 и 10 с за-45остренной выходной кромкой, закреплен"ными на торцовых крышках 7 и 8 и образующими с ними полостииЬ, открытые со стороны выхода щелевой головки и сообщающиеся с источником желатинового раствора (на чертеже не по 50казан) .Разделительные профилированныевставки 9 и 10 установлены с обеихкраев в выходной щели С между распре"делительным каналом с и выходнымучастком щели и делят щель с на триучастка , ,1 . Участки 1 и Й черезполостиии каналы тъ и и сообщаются с источником желатинового раст"вора, а участокчерез...

Номер патента: 1026004

Опубликовано: 30.06.1983

Авторы: Гайнутдинов, Исхаков, Фазылзянов

МПК: G01B 11/06

Метки: наносимых, пленок, подложку, толщины, тонких

...устройство обеспе.чивает повышенную точность 21 .Однако известное устройство непозволяет вести контроль толщины покоэффициенту отражения подложек,таккак при вращении карусели происходитизменение положения рабочих подложек.относительно источника излучения ифотоприемника как по высоте, так ипо углу наклона. Вследствие длинногооятического пути контрольного лучаот источника излучения до фотоприемника (порядка 1,5-2 м) даже незначительные смещения подложек вызываютполную разъюстировку системы контролятолщины. По этой причине невозможновести контроль толщины тонких пленокнепосредственно по рабочим подложкамв отраженном свете. Недостатком уст-,ройства являются также жесткие требования к самим рабочим подложкам, которые должны представлять собой...

Номер патента: 1033853

Опубликовано: 07.08.1983

Авторы: Кайбин, Калнин, Кулешов

МПК: G01B 7/06

Метки: диэлектрической, нанесенной, пленки, подложку, проводящую, толщины

...натянута полимерная пленка с металлнзированным покрытием, Цилиндр заполнен жидкой средойили тонкой суспенэией, давцение которойрегулируется, благодаря чему может бытьплавно изменена пластичность электрода,чтопозволяет контролировать неравномерное по",крытие с особо шероховатой поверхностью Я.Однако выполнение электрода емкостного преобразователя из металлцолимерного композиционного материала не позволяет измерять толщину диэлектрическогопленочного покрытия, меньшую чем 35 мкм на неболыцих участках поверхности,площадь которых не превышает десятыхдолей квадратного сантиметра.Целью изобретения является повьццениеточности измерения толщины тонких пленок порядка О, 015 - 3 мкм с большой50пористостью и повышение степени локааности...

Номер патента: 1063474

Опубликовано: 30.12.1983

Авторы: Кириенко, Шевченко

МПК: B05C 5/02

Метки: головка, нанесения, подложку, слоев, фотографических, щелевая

...ограничители 3 и 14 ширины наносимых слоев с кромкой 15, соприкасающейся с подаваемюм материалом (Фиг. 2) . В щелевой головке рабочая ширина щелей 9 и 10 в месте выхода их на наклонные поверхности 11 и 12 равна расстоянию 1 между кромками 15 ограничителей 13 и 14 (фиг. 2). Это Расстояние 1 наклонной поверхности 12 больше, чем расстояние 1 между кромками 15 в местах выхода щелей 9 и 10 на наклонные поверхности 11.и 12, т.е. ширина направляющего канала, образованного кромками 15 ограничителей 13 и 14 и наклонной поверхностью 12, увеличивается от щели 10 до конца наклонной поверхности 12, обеспечивая тем самым растекание подаваемого материала по направляющему каналу. Кромки 15 ограничителей 13 и 14 состоят из двух участков 1 б и 17...

Номер патента: 1071993

Опубликовано: 07.02.1984

Авторы: Зеленина, Постников, Табатадзе

МПК: G03G 5/082

Метки: аморфного, вакууме, информации, испарением, носителей, подложку, селена, электропроводящую

...Толщина Фототермопластического слоя 2 мкм. Материал высушивают в вакуумном шкафу прн комнатной температуре в течение 2 ч.П р и м е р 2. Образец Фотатермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 1, с той лишь разницей, что давление остаточного газа при получении слоя селена составляет 1 10 5 мм рт. ст., скорость движения подложки 5 м/мин, толщина слоя селена 0,12 мкм.П р и м е р 3. Образец фототермопластической пленки приготавливают аналогично примеру 2, с той лишь разницей, что скорость движения подложки составляет 7 и/мин,П р и м е р 4. Термическим испарением в вакууме 8 10- мм рт,ст. наносится слой аморфного селена со скоростью 12 мкм/мин на рулонную полиэтилентерефталонную подложку с проводящим слоем хрома. Скорость...

Номер патента: 1081624

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Богатыренко, Кулинченко, Южаков

МПК: G05D 5/03

Метки: жидкости, нанесения, подложку, процессом

...и ме 40ханизму регулирования скорости протяжки, а входы подсоединены к входамдатчика нанесения жидкости на подложку, к блоку отклонения и датчикускорости протяжки, соединенным между собой, блок задания ширины слояи блок задания высоты слоя соединеныс,блоком отклонений, к которому подключен датчик расхода жидкости черезблок запаздывания, соединенный сблоком задания объема тракта жидкости 2").Недостатком известного устройстваявляется низкая точность стабилизации толщины наносимого слоя из-эа 55изменения параметров объекта управления в зависимости от вязкости жидкостие Вязкость жидкостифотоэмульный валик 7 для подложки 8 с подсоединенным механизмом 9 протяжки подложки, механизм 10 регулирования скорости протяжки, блок 11 задания скорости,...

Номер патента: 1087195

Опубликовано: 23.04.1984

Авторы: Тимченко, Шевченко

МПК: B05C 5/02

Метки: головка, нанесения, подложку, слоев, фотографических, щелевая, экструзионная

...имеет форму лемнискаты Бернулли.На фиг. 1 схематически изображена экструзионная щелевая головка, разрез; на фиг. 2 - вариант выполнения головки; на фиг. 3 - участок щели, расширяющейся на выходе, по фиг. 1 в увеличенном масштабе; на фиг. 4 - то же, по фиг, 2.Экструзионная шелевая головка содержит пластины 1, 2 и 3, образующие наклонные плоскости 4 и 5 свободного стекания, распределительные каналы а и в и щели с 35 40 45 50 55 и д, расширяющиеся на выходе в сторону наклона плоскости свободного стекания. При этом щель с имеет расширение е, а щель с - расширение 1,Расширение е щели с образовано, с одной стороны, прямолинейной поверхностью 6, являющейся продолжением щелеобразующей поверхности, с другой стороны - криволинейной поверхностью...

Номер патента: 1140170

Опубликовано: 15.02.1985

Авторы: Гогин, Пилексин, Пыхтина, Станина, Стяжкина, Шадрина

МПК: C25D 17/10, G11C 11/14

Метки: магнитных, осаждения, пленок, подложку, цилиндрических

...прикреплены две анионитовые мембраны 5 в форме прямоугольного параллелепипеда, предназначенные для разделения анодного и катодного пространств, внутри каждой анионитовой мембраны 5 равномерно по ее длине расположены группы платиновых анодов 6, выполненныхв виде штырей или плоской пластины. Концы анодов выведеньна крьпку аиодной коробки и заканчиваются клеммами 7 для подвода электрического тока извне.Устройство работает следующим образом.Перед началом рабдть технологической линии проволочную подложку 4 устанавливают в анодную коробку 1,затем в нее заливают электролит и сверху закрывают крышкой 2 с прикрепленными к ней анионитовыми мембранами,в которых установленыплоские аноды. Через отверстия в крышке электролит заливают также в...

Номер патента: 1169967

Опубликовано: 30.07.1985

Авторы: Бердников, Ждамарова, Копеина, Лапина, Леви, Мельникова, Морозова, Тихонова

МПК: C07C 143/12

Метки: диэфиры, качестве, кислоты, нанесении, подложку, слоев, смачивателей, смешанные, сульфоянтарной, фотографических

...эфира сульфоянтарнойкислоты в виде 403-ного водного раствора, содержащего менее 0,17 бисуль"фита натрия с числом омылениямгКОН55 38 . Средняя мол, масса810,55,Полученному соединению можно приписать следующую структурную формулуСНСОО(С 2 ЕВО)ЗС 2 Нв1ЗО 3 фПоверхностное натяжение 0,1 Иводного раствора данного соединенияпри концентрации 1 ммоль 25,5 дин/см;6 Е-ного водного раствора желатинапри концентрации 1 ммоль 22,5 дин/смфкритическая концентрация антикометного действия 0,5 ммоль; статическийкраевой угол смачивания "вверх" 13,".вниз" - 19 (при концентрации 1 ммоль)П р и м е р 2. В условиях приме-.ра 1 из 200 г (0,4441 г-моль) 2,4-диэтилоктанола, оксаэтилированногоб моль окиси этилена, 43,274 г(0,46 С 4...

Номер патента: 1171122

Опубликовано: 07.08.1985

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/00

Метки: жидкости, нанесения, подложку, слоев, фотографических

...коллектор 2, закрытый с торцов крышками 3 и 4. В распределительном коллекторе установлена вертикальная перегородка 5 с закрепленными на ее торцах планками 6 и 7, Сопряженные поверхности планок 6 и 7 выполнены по форме распределительного коллектора 2. Перегородка 5 делит распределительный коллектор 2 на две полости 8 и 9, сообщенные между собой каналом 10, Канал 10 имеет по всей своей длине постоянный размер, что обеспечивает равномерное распределение жидкости по всей длине канала. Полость 9 через кромку 1 выходит на наклонную плоскость 12.В нижней части устройства размещена гибкая вставка 13, закрепленная между план. кой 14 и корпусом 1 винтами 15. Гибкая вставка опирается на подложку 16. Устройство работает следующим образом.Наносимая...

Номер патента: 1187705

Опубликовано: 23.10.1985

Авторы: Отто, Рейнард

МПК: B05B 1/04, B05B 7/08

Метки: вещества, нанесения, подложку, слоя, сопло, твердого

...19 и 20соответствующих углов наклона и установленными смежно с каждым концомлент 19 и 20, разделяющих призматическое пространство 15 на три равныхобъема, и средством продольного на"э 1187 тяжения металлических лент 19 и 20. Противолежащие концы лент 19 и 20 опираются на две направляющие,идентичные поверхности, расположенные на другом конце сопла. Опорные поверх ности 31 и 32 закреплены перпендикулярно двум стенкам 33 и 34 соответственно, расположенным в продолжении корпуса сопла.Средство продольного натяжения 10 лент 19 и 20 содержит стержень 35 с нарезкой 36, размещенной на одном из его концов, зажимные приспособления 37 и 38 для зажатия конца соответствующих лент 19 и 20, прикреплен ные винтайи 39, втулку 40 с наружной винтовой...

Номер патента: 1210912

Опубликовано: 15.02.1986

Авторы: Киричек, Ольховик, Ткаченко

МПК: B05C 5/02

Метки: гибкую, нанесения, подложку, покрытий, экструзионное

...6, два приспособления 7 и 8 дляобнаруживания склейки, блок 9 управления,блок 10 реле времени, качающуюся траверсу11, привод 12 качания траверсы, два упора13 и 14 для траверсы. 11 одложка обоз.цачена позицией 1 о.Выходы 16 и 17 приспособлений 7 и 8соединены с входами блока 9 управления, 20выходы 18 и 19 которого соединены с входами привода поступательного перемещения экструзионной головки 3, выход когорого механически связан с ползушками 4,ца которых установлена экструзионная головка 1, а выход 20 концевого выключателя 6 соединен с входом блока 10 реле времени, выход 21 которого соединен с входом привода качающейся траверсы 12, выход которого механически связан с качающейся траверсой 11.30Устройство работает следую 1 цим...

Номер патента: 1213016

Опубликовано: 23.02.1986

Авторы: Алейников, Карслянц, Сарваниди, Фрезоргер

МПК: G05D 27/00

Метки: бумажную, нанесения, подложку, покрытия, полиэтиленового, процесса

...наб., д. 4/5.Филиал ППП "Патент", г, Ужгород, ул, Проектная, 4 Изобретение относится к областиизготовления, полимерных комбинированных. материалов и может быть использовано для управления экструзиониым нанесением полимерного покрытия, например полиэтиленового, .наподложку.Целью .изобретения является повышение качества комбинированного упаковочного материала. ОНа чертеже представлена схема,реализующая,предлагаемый способ регулирования.В процессе работы экструдерыи 2 выдавливают расплавленный полимерный материал в виде плоскихструй 3 и 4, которые соединяютсявалками 5 и 6 с основой 7. Степень адгезии и толщину первого по.лимерного покрытия измеряют миогоканальными (по числу контролируемыкзон) датчиками 8 и 9, сигналы с которых...

Номер патента: 1214243

Опубликовано: 28.02.1986

Авторы: B29L 9:00, Шевченко

МПК: B05C 5/02, B29C 47/14

Метки: головка, нанесения, подложку, фотослоев, щелевая

...установлены огра ничители 13 и 14 ширины наносимых слоев с кромками 15.Б щелях 9 и 10 поц ограничителями 13 и 14 помещены вставки 16 и 17, имеющие участки 18 и 19.ЗОШирина каждой вставки 6 и 17 выполнена переменной с плавным увеличением от нулевого значения на входев щели 9 и 10 цо максимального значения, пргвьш 1 ающего ширину ограничителей 13 и 14, с последующим плавнымуменьшением цо нирины на выходе изщелей 9 и 10, равной ширине Ограничителей 13 и 14,Щелевая головка работает слецу.сщим Образом.Наносимая жидкость поступает враспределительные каналыи Я, равномерно распределяется 1 о вссй ихдлине и через щели 9 и 10 поступаетна наклонные поверхности 11 н 12.,гце движется по ним, удерживаясьпо краям кромками 15 ограничителейЗи 14,1...

Номер патента: 1228062

Опубликовано: 30.04.1986

Авторы: Зайцев, Котов, Лупарев, Селимханов

МПК: G03G 5/08

Метки: напыления, подложку, покрытия, преимущественно, процессе, селена, толщины, цилиндрическую

...материала на подложку, например селена, теплопроводность которого очень мала (0,123 Вт/м град), замедляется теплопередача через систему: слой селена - подложка, что при стабильной температуре напылителя приводит к понижению скорости нагрева подложки. Так как толщина подложки остается постоянной величиной в про цессе напыления, а температура напыли-, теля, также стабильна, то понижение скорости нагрева может быть вызвано лишь увеличением толщины слоя селена.Тогда толщина слоя фотополупроводникового материала определяется по зависимости: Ь=й(Ъо - Г ),где Й - коэффициент, определяемый конструкцией установки;Ро - скорость нагрева подложки без слояфотополупроводникового материала35Р. - текущее значение скорости нагреваподложки.Причем...

Номер патента: 1242906

Опубликовано: 07.07.1986

Авторы: Браницкий, Голубинцев, Каралюнец, Котов, Попов, Тазенков, Шнейдман

МПК: G03G 15/00

Метки: вакуумным, металлическую, напылением, носителя, паров, подложку, селена, электрофотографического

...при термообработке слоя 80-90 фС парам селена перед их конденсацией дополнительно сообщают кинетическую энергию разогрева струнным нагревателем, расположенным между испарителем и подложкой,. с одновременным облучением паров ее конденсата светом, имеющим длины волн меньше б 20 нм с энергией больше, чем 2,2 В, а затем после соз-дания сплошного кристаллического нодслоя высокой адгезионной прочности толщиной до 1 мкм дополнительный разогрев пара и облучение конденсата прекращают,Температурное поле струнного нагревателя, имеющего температуру 1500- 2000 С, дробит длинноцепочные молеку- лы пара селена на короткоцепочные молекулы вплоть до атомарного селена и увеличивает их кинетическую энергию в 3-4 раза. Увеличение кинетической энергии...

Номер патента: 1264991

Опубликовано: 23.10.1986

Авторы: Биленко, Кислицын, Никулин

МПК: B05D 1/26, G05D 27/00

Метки: гибкую, нанесения, подложку, процессом, фотоэмульсии

...расход фотоэмульсии первого слояследует корректировать, кроме того,по скорости движения подложки, апоследующих - по значению фактического содержания компоненты в предыдущих слоях1Гибкая подложка 1 кинофотопленки,например специально подготовленная лансановая основа толщиной 35 мкм, движется с заданной скоростью 15 м/мин, Стабильность движения подложки обеспечивается системой 2 регулирования скорости с погрешностью 0,57 путем сравнения сигналов, поступающихдатчика скорости и с ее задатчика.Разница этих сигналов воздействует на регулятор системы 2 регулирования скорости, который изменяет выходной сигнал так,что соответственно увеличивает или уменьшает число оборотон электропривода, тянущего гиб 1263кую подложку в зависимости от разницы...

Номер патента: 1280311

Опубликовано: 30.12.1986

Автор: Альперович

МПК: G01B 11/06

Метки: нанесенных, пленок, подложку, толщины, тонких

...Результатвзаимодействия лучей, отраженных отформула из обр ет енияверхней и нижней поверхностей пленки 4 О1, регистрируется устройством 6. При;измерении изменяют длину волны интерферирующих лучей и фиксируют зна,чения длин волн, соответствующиедвум соседним максимумам или минимуВыполнение пластинки клиновидной 35 дает возможность исключиь ияниена результат измерений засветки, вызываемой отражением от верхней поверхности. Способ измерения толщины тонкихпленок, нанесенных на подложку, за"ключающийся в том, что освещаютконтролируемую пленку пучком инфра 45 красного излучения, наблюдают интер" Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения толщины пленок,прозрачных в инфракрасной...

Номер патента: 1291429

Опубликовано: 23.02.1987

Авторы: Вакуленко, Стецко, Тетерин

МПК: B29C 41/36

Метки: нанесения, пленкообразующего, подложку, раствора

...возможностью вращения установлены сухари 14. Корпус имеет рубашку 15 для термостатирования. На торцах корпус снабжен крышками 16 и 17. На крышке 17 с помощью фланца 18 закреплено уплотняющее кольцо 19 соосно выходному концу 20 приводного вала. Входной патрубок 1 связан с распределителем 21, который сообщен с щелью 22 и выходным каналом 2 с формующей щелью 3. С корпусом жестко связаны (с образованием выходного канала 2 с формующей щелью 3) неподвижная губка 23 и верхняя губка 24, выполненная с подвижным элементом и регулировочными винтами 25. Выходной конец 20 приводного вала связан с приводом 26.Устройство работает следующим образом.С помощью регулировочных винтов 25 перемещают подвижный элемент верхней губки 24 и устанавливают зазор...

Номер патента: 1298539

Опубликовано: 23.03.1987

Авторы: Буренков, Комаров, Котов

МПК: G01B 15/02

Метки: нанесенных, подложку, слоев, толщины, тонких

...возбуждения К-линии ХРИ кремния используют пучок 1 ускоренныхпротонов (фиг.1) с энергией 300 кэВ25и нестабильностью по энергии не хуже 0,13, получаемый иа электростатическом ускорителе Ван де Граафа, Система коллимации на основе диафрагм 2обеспечивает диаметр пучка 1 мм иугловую расходимость не хуже 0,02Исследуемый образец 3 помещают внутрьцилиндра 4 Фарадея под углом.45 ф кпучку протонов и под таким же угломк направлению на детектор 5. Обуйзаряд протонов, упавших на образец 3, 35измеряют интегратором тока, для подавления вторичной электронной эмиссии используют подавляющие электроды6. С,использованием набора эталонных.образцов, толщина которых известна, 40экспериментально получают зависимостьотношения интенсивности ХРИ кремния к...

Номер патента: 1332195

Опубликовано: 23.08.1987

Авторы: Гладышева, Подловченко

МПК: G01N 15/08

Метки: мелкодисперсной, нанесенной, платины, поверхности, подложку, угольную, удельной

...и электролитических ячеек, а также в области производства катализаторов для процессов гидрирования, длясинтеза гидраксиламина и т.д.Целью изобретения является повышение точности путем исключения ошибок, 15связанных с изменением структуры образца в процессе его изготовления ис диффузией адсорбирующегося вещества с платины на подложку.П р и м е р. Образец угольной ткани с нанесенной платиной весом15 мг/Э (поверхность по БЭТ, 300 м/г)помещают в виде электрода в трехэлектродную ячейку и поляризуют 30 минпри 1,2 В и затем 30 мин при 0 В. 25Фон во всех исследованиях 1 н. НЯО1 змерения ведут в атмосфере инертноГо газа. Затем потенциал электродастабилизируют при 0,4 В, вводят раствор сульфата меди до концентрации 302-10и выдерживают при...

Номер патента: 1363026

Опубликовано: 30.12.1987

Авторы: Алехин, Булычев, Манохин, Тюрпенко

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезионной, нанесенного, подложку, покрытия, прочности

...Этот момент на диаграмме вдавливания фиксируют по падению твердости. При вдавливании индентора с большим углом конус- ности при нагрузке Р интенсивность сдвиговых напряжений и длина трещи 25 где с=В /Р- коэффициент формы индентора,Ь - глубина вдавливания;Р - площадь отпечатка индентора,- толщина покрытия.После возникновения адгезионнойтрещины при нагрузке Р и дальнейшемувеличении нагрузки до Р эта трещина35развивается под действием энергии уадгезии, определяемой по формуле 30 40 Где Е модуль 10 нга материала покры1тияК - константа, определяемая изэксперимента с использованием образца-эталона, для которого энергия адгезии из,вестна,П р и м е р. На подложки из различных материалов наносили покрытиеиз нитрида кремния толщиной 4,5 мкм.В...