Патенты с меткой «позитивный»

Номер патента: 76250

Опубликовано: 01.01.1949

Авторы: Лошкарев, Смирнов

МПК: B32B 5/00, G03B 33/16

Метки: коррекционных, материал, многослойный, негатива, печати, подбора, позитивный, светофильтров, цветного

...участвуют светофильтры пурпурного и голубого цветов; тогда корректирующими будут один или два светофильтра; один из них желтого цвета,Для осуществления предлагаемого способа может служить прибор, схема которого показана на чертеже.Прибор представляет собой ящик, внутри которого расположены два источника света 1, свет от которых, пройдя через фильтры дневного света 2, падает на экран 3, на котором помещена фотокопия, а пройдя тубус 4 через отверстие в рамке 5 и тубус б, попадает в глаз наблюдателя. Рамка 5 снабжена тремя каналами для светофильтров. Светофильтры представляют собой ступенчатые клинья, окрашенные в пурпурный, голубой и желтый цвета.Кривые поглощения фильтров соответствуют кривым поглощения красителей, образующихся в...

Номер патента: 116251

Опубликовано: 01.01.1958

Авторы: Кампус, Петров

МПК: D03D 49/12

Метки: действия, основный, периодического, позитивный, регулятор

...образом.На проступном валу 12 ткацкого станка, приводимом во вращение, как обычно, от коленчатого вала станка, укреплена звездочка 13, которая при помощи цепи 14 передает движение звездочке 15, укрепленной на распределительном валике 1 б, последний несет кривошип 17 с пальцем 18, который входит в паз кулисы, 19, свободно установленной на оси питающего валика 3. На кулисе 19 шарнирно укреплена собачка 20, взаимодействующая с храповиком 21, укрепленным на оси питающего валика 3. С целью периодического выключения привода питающего валика 3, он снабжен одноплечим рычагом 22, действующим на палец 23 собачки и связанным с кареткой (на чертеже не показана) ткацкого станка гибкой тягой 24.Работа регулятора происходит следующим образом.При...

Номер патента: 245553

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Гинзбург, Егорова, Институт, Киприанов, Микитенко, Морейко, Смазна, Сыч, Фиалка, Фурса, Центральиап

МПК: C09B 23/16

Метки: материал, позитивный, светочувствительный, фотографический

...Кз - СНг -- СН 2 - СН -зоны сен: К, - пропенил, К, и К, - метиновую о: Кт - фенил, Кг и Кз - СН 2 - СНО - СН 2 - СН, -245553 70 0,3 0,32 5Л 1,оо 25 0,1 0 25 Предмет изобретения Краситель 1610Заказ 2881/17 Тираж 480 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Центр, пр, Серова, д, 4 Типография, пр. Сапунова, 2 П р и м е р 1, Бромойодосеребряную эмульсию типа Унибром сенсибилизируют введением в конце химического созревания или перед поливом 30 - 90 лг/лоль АдНа 1 одного из указанных выше красителей,Ниже приведены изменения основных фото- показателей для 10-минутного облучения при стандартном светотехническом режиме в случае использования красителя 2246 (где 5 - изменение светочувствительности...

Номер патента: 327436

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Исследовательского, Ленинградский, Проектного

МПК: G03C 5/50

Метки: материал, одноступенног)_, позитивный, процесса, фотографического

...активатор - сульфиды кадмия иникеля (в соотношении 1:9) 0,3сдлпппловая к:1 лота 6 - 7 (или сульфосалипиловая, или пистеинопдя).П р и м г р 1. Изготовление позитивного ма. теридла на основе латекса ДЧЧА осуществляется следующим образом.Латекс концентрации 40% разбаиляется во. дой до концентрации 8%. В 100 лл 8%-ного латекса вводите 25 лс.с 30%-ного золя крем. ниевой кислоты (3 КК), Отдельно приготдв. ливается смесь дзотнокислых солей кддм в 1 (3,8%) и никеля (3,2%) в количестве 1 лс.с в соотпошснсш 1: 9, которую разбч ил 1 о г 45,1 сл дссстилли 15 овдн 11 ОЙ воды. Смесь дзо 111 О. кислых солей вливают в смесь растворов лдтекса в ЗКК.В полученпу 10 твливаетсяор сульфида327436 4Для получения фотографического изображения указанная...

Номер патента: 332413

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Макаров, Мартыненко, Никольский

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...светом лампы ДРМв течение 3 сек, проявляют в 2%-ном водном растворе тринатрийфосфата при красном свете и фиксируют в течение 20 1 час при 125 С в темном муфсле с вытяжнойвентиляцией. Пр Позитивныи 25 хинондиазида,и растворите целью повыш ции фотолиза ной добавки 30 фенона.Изобретение относится к области фотолитографии и может быть использовано в микрорадиоэлектронике, полиграфической, фотографической и кинематографической промышленности.Известен фоторезист на основе полиэтилена, светочувствительной добавки - бензофенона и растворителя. Позитивные фоторезисты на основе нафтохинондиазида обладают достаточной чувствительностью при контактном экспонировании, а в случае проекционного экспонирования их чувствитсльность оказывается...

Номер патента: 364919

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Ленинградский, Проектного

МПК: G03C 8/52

Метки: материал, позитивный

...1,4 0,60 Сильное бронзиро- вание ную бумажную подложку, Сушку производят при температуре 55 - 60 С.Для получения фотографического изображения приготовленную позитивную бумагу приводят в контакт с негативным материалом и между ними распределяют слой проявляющей пасты толщиной 80 - 100 мк, В пасте, приготовленной на основе водного раствора Таким образом, использование триаллилфосфита в составе латексного приемного слоя при изготовлении позитивного материала существенно улучшает его эксплуатационные свойства. П р и м е р 2. Приготавливают 2%-ный раствор поливинилбутираля в бутаноле, в 1 л которого последовательно при перемешивании вводят следующие добавки: 20 мл 5%-ного водного раствора сульфида натрия, 40 мл 5% -ной этанольной смеси...

Номер патента: 421548

Опубликовано: 30.03.1974

Авторы: Андреев, Бобров, Валиев, Динабург, Кашаева, Лубашевска, Макаров, Никольский, Фирсов, Хорина

МПК: H01L 21/312

Метки: позитивный, фоторезист

...введение в состав позитив ного фоторезиста сенсибилизатора приводит к изменению его интегральной и спектральной светочувствительности одновременно с улучшением разрешающей способности фотослоя. Иц. тегральная светочувствительцость сенсцбили зированпого фоторезиста втрое выше чувствительности известных позитивных фоторсзистов. Спектральная чувствительность его имеет второй максимум, лежащий в более длинноволновой области спектра (450 - 500 нм). 30 Таким ооразом, повышение интегральной и спектральной фоточувствцтельцости позитивного фоторезцста, це исключая прежней сферы применения, даст возможность использовать его в проекционной фотолитографии в качестве фотослоя прц изготовлешш фотошаблонов с применением обычной оптики и...

Номер патента: 451978

Опубликовано: 30.11.1974

Авторы: Парамонов, Прохоцкий

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...на основе фенолформальдегидных смол адгезией к стеклу. Разрецпающая способность451978 Составитель Л.МаРтыненко Редактор К.ВетбейнТехред Г,Дворина КорректорЛ.Котова Заказ Тираж 506 Подписное Ц 1 ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, 113035, Раушская иаб 4 Пртдприятие Патент, Москва, Г.59, Бережковская наб., 24 предлагаемого фоторезиста составляет не менее 200 линий/мм,П р и м е р 1. 140 мг эфира 1,21-нафтохинондиазид-(2 )-5-сульфокислоты и фенолформальдегидной смолы и 1,4 г смолы Э"С" типа ."Фенокси" растворяют в 14 мл циклогексанона. Раствор фильтруют и наносят методом центрифугирования на алюминиевую пластинку. Пленку фоторезиста сушат при 90 С в течениетО 15 мин, и экспонируют...

Номер патента: 499547

Опубликовано: 15.01.1976

Авторы: Бондаренко, Голенищева, Клубикова, Плоткина

МПК: G03C 5/54

Метки: материал, одноступенного, позитивный, процесса, фотографического

...звеньев М ве 16,5-2 фото:тем ссотнослоя, %; состава позитивно материала, пркомпонентов пр следуюп немного епп Изобретение относится к области фото- кинотехники и может быть использовано в светочувствительных материалах для скоросгных фотографических процессов.Известен позитивный материал для 5 одноступенчатого процесса на основе латекса-сополимера дивинила и метилметакрилата в сочетании с водным золем кремниевой кис,лоты. Оцнако,данныйматериал обладает склонностью к явлению бронзирования и плор хо сохраняется во времени. Известен позитивный материал для одноступенчатого фотографического процесса; который состоит из подложки, грунтового и приемного слоя, соцержашего сульфиц, натрия, азотнокислые соли кадмия и никеля, кремниевую кислоту и...

Номер патента: 511560

Опубликовано: 25.04.1976

Авторы: Гуров, Милованова, Ракитин, Эрлих

МПК: G03C 1/52

Метки: позитивный, фоторезистор

...и йодированного 2,2-ди-( Ъ -оксифенил)- пропана (содержание диэфира 30 35%) Диметилфбрмамид ( ГОСТ 5703-70) Толуол (ГОСТ 5789 69)ЗОТехнология изготовления фоторезиста за ключается в следующем, В емкости с мешал кой перемешивают укаэанное в таблице количество смол и растворителей (кроме циклогексанона и толуола),до полного раство рения смол, При красном освещении аналогично приготавливают раствор светочувствительного неполного эфира 1,2-нафтахинониаэида ( 2) 5-сульфокислоты и йодирован ного 2,2-ди-( В -оксифенил)-пропана в цик О логексаноне. Смешивают два раствора и добавляют к смеси раствор полиметилфенилсилоксана в толуоле, Раствор фоторезиста, фильтруют при 1 красном освещении через бумажный фильтр389, а затем через 45Обезэоленный...

Номер патента: 525919

Опубликовано: 25.08.1976

Авторы: Виленский, Левлюк

МПК: G03C 5/54

Метки: материал, одноступенчатого, позитивный, процесса, фотографического

...при 55-65 С. Для по лучения фотографического пзоораженпя по -лученную позитивную бумагу приводят в к: нтакт с негативной, Между нпкп; распределяют слой фиксирующей мпдолГидрохин толщиной 60 мкм.20 В таб ны результаты сравнппроцессов, осноний методом Изобретение касается фот анных на получении изображ иффузионного переноса солей серебра,Известен позитивж й маттупенчатого фотографоящий из подложки,ал для одно ическог грунтов сса, с проц о сло кс с п емного слоя, включаю ла олиме дивинила с метилметакрил ю кислоту и активатор. В ккремни е акти атом, ачест ватора мо и М 15 б гут быть использова ез цистеинэвой кисло цистеиновой кислото материал обладает ря ны сме ты или й, Одн дом н "брон нила бари ако известный т ков: плох нием", т, ражение...

Номер патента: 547712

Опубликовано: 25.02.1977

Авторы: Бойко, Гуров, Добижа, Милованова, Перова

МПК: G03C 1/58

Метки: позитивный, фоторезист

...раствор смол загружают светочувствительныйпродукт в указанном в таблице количестве и перемешивают до полного растворения продуктов.Фторопласт марки 32 Л В прогревают в сушильном шкафу при 60 - 65 С в течение 40 мин, охлаждают до комнатной температуры в закрытом сосудеи, перемешивая, растворяют в указанном в таблицеколичестве метилэтилкетона.В емкость с раствором светочувствительного ипленкообразуюшего продуктов при непрерывномперемешивании добавляют раствор фторопласта ипродолжают перемешивать его еще 10 - 15 мин. Полученный раствор фильтруют один раз через технический капрон и два раза - через бумажный фильтр.Все перечисленные процессы ведут при красномсвете,10,4 0,053,00 9,60 56,95 15,00,085,009,046,82 Составитель А,...

Номер патента: 679923

Опубликовано: 15.08.1979

Авторы: Белов, Грибов, Иванов, Логинов, Мозжухин, Никольский, Родионов, Ульянов, Фирсов

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...в проекцнон ной фотолитографии состав 2 О,О,80 О,1 Стоек, в теч ние 5 мин н 3 0,1 разрутпаетсяСтоек, в тече,15ние 4 мин не состав 3 аз ается 3тотнпом, фотолитографические параметры, стоек при конно-плазменном травлении и может быть использован в проекционном методе фотолитографии.Готовят образцы предложенного фоторезнста следующего состава, % вес,:Состав 1Эфир нафтохцнондиазид- (2) .5-сульфокислоты и новолака 15,0Нов олак 7,5Иди тол 7,5Пурпурная 9 М 0,45Диметиловый эфир диэтиленгликоляДиметилформамидСостав 2Диэфир 1,2-нафтохинондиазид. (2) -5.сульфокислоты и2,4,4 -триоксибензофенона 20,0Новолак . 7,5 Иди тол 7,5 Пурпурная 9 М 0,3Диметиловый эфир диэтиленгликоля 55,0Диметилформамид Остальное,Состав 3Диэфир...

Номер патента: 721794

Опубликовано: 15.03.1980

Авторы: Быстрова, Вайнер, Дюмаев, Лиманова, Эрлих

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, электронорезист

...примеру 1. Чувствительность резиста к электронному лучу составляет 7,810 Кл/см по сравнению с 1,4 10 Кл/см для аналогичного резиста на основе полиметилметакрилата.П р и м е р 3. Так же, как в примере 1, получают гидролизованный полиметилметакрилат с кислотным числом 170 мг КОН/г (время реакции 8 ч)(Готовят раствор 10 г укаэанно 1 о.полимера в 150 мл смеси растворителей того же состава, что в примере 1 получая электронорезист следующего состава, вес.%:Гидролиэованный полиметилметакрилат 7,0 Этилцеллозольв 48,2 Бутилацетат 27,3 Толуол 17,5 Далее действуют аналогично приме (1 у 1, Чувствительность резиста к электронному лучу составляет 6,3 10Кл/см по сравнению с 1,310 Кл/смййдля резиста на основе полиметилметакрилата.П р и м е р,...

Номер патента: 731413

Опубликовано: 30.04.1980

Авторы: Алиев, Журавлев, Заумыслов, Мартыненко, Минаждинова, Мозжухин, Рагимов

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, светочувствительный, состав

...неиодированного поли-а-цафтолаДиметиловый эфир диэтилгликоля Слои толщины 0,3 - 1,5 мкм из указанных в табл, 1 светочувствительных составов формируют методом центрифугирования и сушки в течение 0,5 ч при температуре, не превышаюгцей 363 К на окисленной полированной поверхности пластин кремния. Экспонирование через фотомаску осуществляют излучением лам пы марки ДРШ - 500 (Е = 4 10 лк), РельефРазрешающая способность, периодов оцных размеров при ионном Ь = 0,46 мкм слояния, % 3 э 1 илецгликоля, метилэтилке тоц, диметилформа. мид или их смеси. Предложенный состав позволяет формировать ца поверхности полупроводников термоустойчивые ЗПМ, лолускаюцие нас ревание под. ложки до 670 К в процессе локального ионного и плазмохимического...

Номер патента: 734599

Опубликовано: 15.05.1980

Авторы: Вшивцева, Дятлова, Лосиевская, Недув, Фридман, Чижов

МПК: G03C 5/54

Метки: материал, позитивный, фотографический

...испытаний получены следующие характеристики: Рс 1 1,36;3 о =002; Й =13 пин/мм; черно-белый тон изображения, После облучения мате 15 риала ультрафиолетовым светом в течение 3.2 ч оптическая плотность иэображения не изменилась.П р и м е р 4, Готовят суспензию приемного слоя, содержащую 4,88% патекса4,6% эолы кремниевой кислоты, 90,5%воды и 0,02% комплекса формулы (Х)где М =ЙО 1; М =Сц"; Х =этилендиамин1 -аииои этилендиаминтетраметипфосфоНОВОЙ кислоты 1 п=4 П =1 р = 2. Затем аналогично примеру 1 проводят . последующие операции.После сенситометрических испытаний получены следующие характеристики материала:31 ол,=1 42; 1 о =0,02;1=15 пиний/мм; черно-белый тон изображения, После облучения материала улье рафиолетовым светом в...

Номер патента: 744426

Опубликовано: 30.06.1980

Авторы: Архипова, Вайнер, Вишневская, Динабург, Лебедева, Мамонова, Овчинникова, Эрлих

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...0,5-1 9 Фенолформальдегидная смолановолачного типа Фенолформальдегидная .смолрезольного типа 7 12,8 13,4 14,2 14,0 дью методом погружения или центрофугирования. Полученную пленку сушат в течение 20-30 мин при 18-22 С, а затем в течение 30 мин при 80-90 ОС. В зависимости от метода и условий нанесения Фотореэиста на подложку получают пленки толщиной от 0,7 до 3,5 мкм. Высушенные пленки экспонируют через соответствующий фотошаблон любыми ртутно-кварцевыми источниками облучения и проявляют в 0,5- 1,0-ном водном растворе едкого калия в течение 15-30 с. После проявления полученный защитный рельеф подвергают дополнительной термообработке при 110-120 С в течение 30-60 мин, Подложки с полученными защитными мас- ками обрабатывают...

Номер патента: 689436

Опубликовано: 07.10.1980

Авторы: Бреслав, Зарипов, Ильченко, Калентьев, Руденко, Фахрутдинова

МПК: G03C 1/00

Метки: материал, позитивный, прямой, фотографический

...промывают и диспЕргируют обычным способом. Получа)3,02 Ях 3В-Н или галогенХ- -504 СН. Ыт монодисперсную эмульсию с коэффищиентом вариации микрокристаллов по размерам С -- 18. В полученную эмулв сию вводят при 60 фС 5 мг на 1 моль галогенида серебра 5 пСи 10 мг на 1 моль АдНа АцС 1, после чего ее выдерживают при перемешивании 2 ч.В приготовленную таким образом эмульсию вводят соединение 1, где Х=- -04 СН, к Н, в количестве 10 мг на 1 моль галогенида серебра, а также смачиватель, Дубитель и пластификатор, после чего эмульсию наносят на прозрачную подложку. Результаты фотографических испытаний материала представлены в таблице.П р и м е р 2. Готовят бромосереб 13 ряную эмульсию как в примере 1, но соединение Т применяют в количестве 50 мг...

Номер патента: 781745

Опубликовано: 23.11.1980

Авторы: Балашова, Мозжухин, Тимерова

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...стойкости пленки Фоторезиста в щелочном проявителе приводит к снижению до минимума величины микро- дефектности.П р и м е р 1. Готовят состав позитивного фотореэиста, содержащий вес,Ъ:Эфир 1,2-нафтохинонди 35азид-(2)-5-сульфокислоты и йодированного дифенилпропана 7,5Нитровератровый альдегид 7,5Новолачная фенолформальдегидная смола 15 40Диоксан 70П р и м е р 2. Готовят состав позитивного фотореэиста, содержащий, вес.: Из таблицы видно, что фоторезисты, приготовленные по примерам 1-3, обладают минимальным уходом размеров элеЭфир 1,2-нафтохинондиаэид-(2) -5-сульфокислотыи 2,4,4-триоксибензофенона 8,5Нитровератровый альдегид 8,5Новолачная фенолформальдегидная смола 17Диметиловый эфир диэтиленгликоля ббП р и м е р 3. Готовят состав...

Номер патента: 811195

Опубликовано: 07.03.1981

Авторы: Карпенко, Постовит, Терехова

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...литьевой ТУ38103 - 137 - 72 (СКУ - ПФП) - продуктвзаимодействия диизоцианата с простымили сложным олигоэфиром,П р и м е р. Для получения фоторезистасмешивают фенолформальдегидную смолу,светочувствительный продукт - 1,2-нафтохинондиазид(2) - 5-сульфоэфир новолака,уретановый эластомер и диоксан, Смесьвыдерживают 12 ч в месте, защищенномот актиничного излучения.811195 3Перед применением фоторезист отфильтровывают. 4Показатели полученных фоторез истов приведены в таблице. Содержание компонента, вес, 00 Время стойкости фото- резистивных пленок в 10 й-ном растворе КОН, сек Величина разрешающей способности,л/мм 1,2-нафто- хинон-диазид (2)-5- .сульфоэфир новолака Адгезионные свойства, гсlммфенолформальдегиная смола уретановыйэластомер...

Номер патента: 862107

Опубликовано: 07.09.1981

Автор: Герлинд

МПК: G03C 1/52

Метки: лак, позитивный, фотокопировальный

...пурпурньа;.ол (тимолсульфофталеин) синий;бромтимол (дибромтимолсульфофталеин)синий,В качестве пластификатора предложенныйлак может содержать касторовое масло, в ка.честве растворителей- этилгликоль, ацетон,в качестве красителя - основной фиолетовыйи другие обычно используемые соединения.50П р и м е р 1. Готовят лак следующегосостава вес, ч.:Продукт осаждения хлоро.цинката п-.диэтиламинобензолдиззония и сульфиро.55ванного новолакаЭященгликольАцетон4 м. Крезолформальдегидный новолакКасторовое маслоОсновной фиолетовый 2-Аминонафталиндисульфокислоты,7 (сухое вещество или 6,7 о-ный раст. вор 7,2 г кислоты в 100 мл воды) 0,4 0,2 0,04 45 40 Продукт осаждения соли диазония растворя.ют в этилгликоле, а новолак-в ацетоне....

Номер патента: 1068879

Опубликовано: 23.01.1984

Авторы: Архипова, Баранова, Егорова, Новотный, Эрлих

МПК: G03C 1/52

Метки: позитивный, фоторезист

...приливают 300 мл очищенного диоксанового раствора 1,2-нафтохинондиаэид-(2)-5-сульфохлорида с концентрацией 10 г в 100 мл раствора. При интенсивном перемешинании в реакционную массу в течение 5-10 мин приливают 10 Ъ-ный воцный раствор бикарбоната калия в количестве 170-200 мл так, чтобы рН реакционной массы находилась в интервале 7,5-8,0. По окончании загрузки реакционную массу выдерживают н течение 2 ч при 40 сСс при этом значение рН среды должно быть не ниже 7 О. После .выдержки реакса ционную массу охлаждают до 15 С и при медленном перемешивании приливают к подкисленной смеси, содержащей 1,5 л дистиллированной воды, 500 г льда и 10 мл концентрированной соляной кислоты. При этом выделяется желтый аморфныйосадок, который после 2 ч...

Номер патента: 772397

Опубликовано: 15.06.1984

Авторы: Бирюкова, Егорочкин, Кузнецов, Молодняков, Разуваев, Федоров

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...воспроизводить с высокимкачеством субмикронные элементы шаблона, 35Целью изобретения является повышение стабильности разрешающей способности фотореэиста и повышение качества воспроизведения субмикронныхэлементов.20Поставленная цель достигаетсятем, что фоторезист дополнительносодержит в своем составе комплексообразующую добавку, например йод,или тетрацианэтилен, или тринитроФенол, или тетрацианхинодиметан приследующем соотношении компонентов,мас.: дополнительно содержит комплексообразующую добавку соединении, образующего донорно-акцепторный комплекс с исходными соединениями и продуктами реакции. Количество вводимой добав ки составляет не более 15 (преимущественно 3-5) от веса сухих компонентов резиста. Такими добавками могут являться...

Номер патента: 1217128

Опубликовано: 07.05.1993

Авторы: Герасимов, Гуров, Кабанова, Кузнецова, Мельникова, Перова, Сахарова, Челушкин, Эрлих

МПК: G03C 1/52

Метки: позитивный, фоторезист

...- лампой ДРШ) при освещенности на пластине 45000 лк. Изображениепроявляют в, щелочебаратном проявителесконцентрацией щелочного агента 0,26 мольл35 в течение 20-30 с, после чего пластину промывают дистиллированной водой и сушатсначала на центрифуге при скорости враще.ния 3500 об/мин в тецение 30 с, а затем всушильном шкафу при 120 С в течение 2040 мин,Фоторезист может быть использован наразличных полупроводниковых подложках -кремниевых пластинах со слоями термического или пиролитического окисла кремния,45 нитрида кремния, фосфороборосиликатныхстекал, алюминия.Для улучшения адгеэии фоторезиста к поверхности подложки пластины перед нанесением фоторезиста обрабатывают промоторами50 адгезии на основе кремнийорганических соединений,...

Номер патента: 1825425

Опубликовано: 30.06.1993

Авторы: Абрамович, Аскеров, Дударчик, Кабанова, Казарцева, Крупен, Ладутько, Маринченко, Сахарова, Сердюк, Скорнякова, Чальцева, Челушкин, Чикирисова, Шумилкина, Эрлих

МПК: G03F 7/023, G03F 7/039

Метки: позитивный, термостойкий, фоторезист

...до температуры 63 4. 3 С и в течение 2 ч добавляют 78 г фпрмальдегида (в виде 37-ного формалина, Реакционную массу выдерживают в течение 3 ч при 67 + 3 С и охлаждают до 20 - 25 С, а затем выделяют на 700 г деиониэированной воды, охлажденной до 5-10 С, Выделившуюся смолу отфильтровывают, промывают деионизированной водой, отжимают. Пасту смолы растворяют в 277 г уксусной кислоты при перемешивании и нагревании до температуры 40-50 С. Затем охлажденный раствор выделяют на 185 г деионизированной воды,охлажденной до 5 - 10 С, Выделившуюся смолу отфильтровывают, суспендируют в 60-ной водной уксусной кислоте, отфильтровывают, промывают, отжимают и сушат.Получают креэолоформальдегидную смолу с Т пл.155 С; Миг=50005500; (3-4; массовая доля...

Номер патента: 1825426

Опубликовано: 30.06.1993

Авторы: Абрамович, Аскеров, Дударчик, Кабанова, Комагоров, Крупен, Ладутько, Маринченко, Сахарова, Сердюк, Чальцева, Челушкин, Чикирисова, Шумилкина, Эрлих

МПК: G03F 7/023

Метки: позитивный, фоторезист

...не хуже, чем 1:2,что позволяет при толщине пленки фотореэиста 2,0-2,3 мкм проводить травление слояалюминия на глубину до 2 мкм.П р и м е р ы 1-20, Приготовление композиции фоторезиста,8 колбу при перемешивании загружаютсмесь метилцеллозольвацетата иксилола, исветочувствительные продукты при 18-23оС и размешивают до полного растворения.добавляют диатомит или активированный уголь (масса которого составляет 3-10 от массы светочувствительного продукта), размешивают 1,0-1,5 ч и фильтруют на лвбора 1825426торном друк-фильтре при давлении азота неболее 0,2 кгс/см,Фильтрат собирают в круглодоннуюколбу с механической мешалкой, добавляютизмельченную .крезолоформальдегидную 5смолу и КЭПА, размешивают 3-4 ч до полного растворения кусочков смолы....

Номер патента: 1364051

Опубликовано: 20.07.1996

Авторы: Григорьева, Динабург, Карапетьян, Котлова, Постолов, Суржин, Яковлев

МПК: G03C 1/52, G03C 1/72

Метки: позитивный, фоторезист

Позитивный фоторезист, включающий эфир нафтохинондиазидсульфокислот и бромированной новолачной фенолоформальдегидной смолы формулы Iгде n 2-6;X водород или нафтохинондиазидная группа мол. м. продукта 800 1800, содержание нафтохинондиазидных групп в продукте 35 42% содержание брома в продукте 17 21% новолачную фенолоформальдегидную смолу формулы IIс динамической вязкостью 50%-ного спиртового раствора 150 200, температурой каплепадения 120 140°С, массовой долей фенола не более 2% модифицированную канифолью...

Номер патента: 1102368

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Андреянов, Бонгард, Кислицын, Малеев, Микаэлян, Пучкова, Рахманов, Рыбачева, Ходот

МПК: G03C 1/46

Метки: галогенсеребряный, материал, позитивный, фотографический, черно-белый

Черно-белый позитивный галогенсеребряный фотографический материал, состоящий из основы и светочувствительного слоя, выполненного из галогенсеребряной эмульсии, включающей стабилизатор, отличающийся тем, что, с целью снижения содержания серебра и повышения разрешающей способности, светочувствительный слой представляет собой два полуслоя, каждый толщиной 3,0 - 3,8 мкм, выполненных из однородной хлорбромсеребряной эмульсии с содержанием хлорида серебра 90 - 92 мол.% об общего содержания галогенида серебра, со средним размером микрокристаллов кубической формы 0,12 - 0,17 мкм, имеющей pAy = 5,2 0,2, pBr = 4,6

Номер патента: 1116861

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Андреянов, Вейцман, Котерло, Малеен, Микаэлян, Павлова

МПК: G03C 7/20

Метки: галогенсеребряный, материал, позитивный, фотографический, цветной

Цветной позитивный галогенсеребряный фотографический материал, состоящий из основы и последовательно расположенных на ней синечувствительного слоя, выполненного из бромиодсеребряной эмульсии с содержанием AgJ 3 0,1 мол. %, имеющей pH = 7,0 - 7,5, pBr = 2,9 - 3,3 и включающей желтую компоненту - производное анилида бензоилуксусной кислоты, красночувствительного слоя, выполненного из хлорбромсеребряной эмульсии с содержанием AgCl 90 - 92 мол. %, имеющей pH = 5,6 - 6,0, pBr = 4,2 - 4,7 и включающей голубую компоненту - производное 1,2-оксинафтойной кислоты и противоореольный краситель - продукт окисления хлорным железом...

Номер патента: 786577

Опубликовано: 20.09.2000

Авторы: Измайлова, Кутрань, Недув, Полищук, Поляков, Ушомирский, Фомина

МПК: G03C 8/00

Метки: материал, позитивный

Позитивный материал для одноступенного диффузионного процесса, состоящий из подложки, грунтового слоя и приемного слоя, включающего поливинилбутираль, сополимер метилметакрилата с метокриловой кислотой, золь сульфида тяжелого металла и органический растворитель, отличающийся тем, что, с целью повышения стабильности сенситометрических показателей, в приемном слое он дополнительно содержит соединение общей формулы Iгде А = PO-32 или COO-;Me - калий,при следующем соотношении компонентов, мас.%:Поливинилбутираль - 0,5 - 2,8Сополимер метилметакрилата с...