Молодняков

Номер патента: 772397

Опубликовано: 15.06.1984

Авторы: Бирюкова, Егорочкин, Кузнецов, Молодняков, Разуваев, Федоров

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...воспроизводить с высокимкачеством субмикронные элементы шаблона, 35Целью изобретения является повышение стабильности разрешающей способности фотореэиста и повышение качества воспроизведения субмикронныхэлементов.20Поставленная цель достигаетсятем, что фоторезист дополнительносодержит в своем составе комплексообразующую добавку, например йод,или тетрацианэтилен, или тринитроФенол, или тетрацианхинодиметан приследующем соотношении компонентов,мас.: дополнительно содержит комплексообразующую добавку соединении, образующего донорно-акцепторный комплекс с исходными соединениями и продуктами реакции. Количество вводимой добав ки составляет не более 15 (преимущественно 3-5) от веса сухих компонентов резиста. Такими добавками могут являться...

Номер патента: 772396

Опубликовано: 15.06.1984

Авторы: Бирюкова, Егорочкин, Кузнецов, Молодняков, Разуваев, Федоров

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...со-.15 ставляет не более 15 (преимущественно 3-5) от веса сухих компонентов фоторезиста.В качестве комплексообраэующейдобавки могут быть использованыйод, тетрацианэтилен, тринитрофенол, тетрацианхинодиметан, и -броманил, П -хлоранил и другие.Присутствие одного из этих соединений в составе негетивного фоторезиста позволяет полностью погасить люминесценцию, что в своюочередь позволяет повысить разрешающую способность фотореэиста и качест.во воспроизведения субмикронныхэлементов.П р и м е р. Готовят негативныйфоторезист следующего состава,мас.: Состав 1 дрототип)35 ПоливинилциннаматСенсибилизаторкетон МихлераРастворителитолуол : хлорбен 40 зол (3:1) 5-10 0,5-1 Остальное Состав 6. Отличается от состава 1тем, что в него...