Позитивный фоторезист
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
1111 ВШ 95 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республик(43) Опубликовано 07.03,81. Бюллетень(45) Дата опубликования описания 07.03.8 Государственнын комитет-в-мн-С0- " В СЛ3 112 1Изобретение относится к позитивнымфоторезистам, используемым в фотолитографическом процессе изготовления микросхем и фотошаблонов,Известен позитивный фоторезист, включающий светочувствительный продукт наоснове нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и растворитель - диоксан 1,Недостатками известного фоторезиста 10являются неудовлетворительно низкая щелочестойкость, низкие адгезионные свойствафоторезистивной пленки и наличие в нейдефектов в виде трещин и проколов.Целью изобретения является повышение 15щелочестойкости, адгезионных свойств фоторезистивной пленки и уменьшение плотности дефектов.Поставленная цель достигается тем, чтопозитивный фоторезист, включающий светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолуи диоксан, дополнительно содержит пластификатор-уретановый эластомер общей формулы 1 25 где К - полиокситетраметиленгликоль- О -- (СН,), - О - -,; т = 2 - 5,при следующем соотношении компонентов,вес. %:Светочувствительныйпродукт на основенафтохинондиазида 6,5 - 7,5Фенолформальдегиднаясмола 10,5 - 12,5Уретановый эластомерформулы 1 2 - 5Диоксан ОстальноеВ качестве светочувствительного продукта на основе нефтохинондиазида используют 1,2-нафтохинондиазид(2) -5-сульфоэфирноволака.В качестве уретанового эластомера формулы 1 используют синтетический каучукуретановый полифуритный литьевой ТУ38103 - 137 - 72 (СКУ - ПФП) - продуктвзаимодействия диизоцианата с простымили сложным олигоэфиром,П р и м е р. Для получения фоторезистасмешивают фенолформальдегидную смолу,светочувствительный продукт - 1,2-нафтохинондиазид(2) - 5-сульфоэфир новолака,уретановый эластомер и диоксан, Смесьвыдерживают 12 ч в месте, защищенномот актиничного излучения.811195 3Перед применением фоторезист отфильтровывают. 4Показатели полученных фоторез истов приведены в таблице. Содержание компонента, вес, 00 Время стойкости фото- резистивных пленок в 10 й-ном растворе КОН, сек Величина разрешающей способности,л/мм 1,2-нафто- хинон-диазид (2)-5- .сульфоэфир новолака Адгезионные свойства, гсlммфенолформальдегиная смола уретановыйэластомер диоксан 10,5 10,5 10,5 12,5 12,5 12,5 6,5 6,5 6,5 7,5 7,5 7,5 81 80 78 78 77 75 где К - полиокситетраметиленгликоль - О -- (СН), - О -- ; т=2 5,Использование в предлагаемом фоторезисте пластификатора - уретанового эластомера - позволяет повысить адгезионные 5 свойства, щелочестойкость фоторезистивных пленок и снизить плотность дефектов. при следующем соотношении компонентов,внес, ,:Светочувствительныйпродукт на основенафтохинондиазида 6,5 - 7,5Фенолформальдегиднаясмола 10,5 - 12,5Уретановый эластомерформулы 1 2 - 5Диоксан ОстальноеИсточники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Справочник Химические материалы,Технические условия, т. 111, Соли и основания, светосоставы, НПО, 002.008, МЭП,1974 г,Формула изобретенияПозитивный фоторезист, включающий 10 светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и диоксан, отличающийся тем, что, с целью повышения щелочестойкости, адгезионных свойств фоторезистив ной пленки и уменьшения плотности дефектов, он дополнительно содержит пластификатор - уретановый эластомер общей формулы 1 20 О О ф С - 2 пх - В-СО О С - В - Ь 1.1- С г О Составитель Т. ПономареваТехред А. Камышникова Корректор Р, Беркович Редактор 3, Бородкина Заказ 635/3 Изд, Мя 259 Тираж 530 ПодписноеНПО Поиск Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж.35, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 1 2 3 4 5 6 Прототип 500 400 400 500 400 400 400 25 30 35 25 30 35 10 0,1 0,1 0,1 0,09 0,12 0,10 0,5 180 в 2 240 в 2 280 в 3 180 в 2 220 в 2 280 в 3 10 - 15
СмотретьЗаявка
2648496, 24.07.1978
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ М-5191
КАРПЕНКО ЭДУАРД СЕМЕНОВИЧ, ПОСТОВИТ НИНЕЛИЯ АНТОНОВНА, ТЕРЕХОВА ГАЛИНА ВЛАДИМИРОВНА
МПК / Метки
МПК: G03C 1/68
Метки: позитивный, фоторезист
Опубликовано: 07.03.1981
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-811195-pozitivnyjj-fotorezist.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Позитивный фоторезист</a>
Предыдущий патент: Волноводно-оптический модулятор
Следующий патент: Бессеребряная светочувствительнаякомпозиция
Случайный патент: Установка для бжига сырьевой смеси