Тимерова

Номер патента: 781745

Опубликовано: 23.11.1980

Авторы: Балашова, Мозжухин, Тимерова

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...стойкости пленки Фоторезиста в щелочном проявителе приводит к снижению до минимума величины микро- дефектности.П р и м е р 1. Готовят состав позитивного фотореэиста, содержащий вес,Ъ:Эфир 1,2-нафтохинонди 35азид-(2)-5-сульфокислоты и йодированного дифенилпропана 7,5Нитровератровый альдегид 7,5Новолачная фенолформальдегидная смола 15 40Диоксан 70П р и м е р 2. Готовят состав позитивного фотореэиста, содержащий, вес.: Из таблицы видно, что фоторезисты, приготовленные по примерам 1-3, обладают минимальным уходом размеров элеЭфир 1,2-нафтохинондиаэид-(2) -5-сульфокислотыи 2,4,4-триоксибензофенона 8,5Нитровератровый альдегид 8,5Новолачная фенолформальдегидная смола 17Диметиловый эфир диэтиленгликоля ббП р и м е р 3. Готовят состав...

Номер патента: 357547

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Макаров, Мозжухин, Никольский, Тимерова

МПК: G03C 1/72, G03F 7/016

Метки: 357547

...нз щей основы, светочувствнтел ты н растворителя, отлпчаюпп целью получения негативного наряду с позитивным и упро пш изготовления фоторезиста, точувствительной компоненты ароматические ортонитроальде пленкообразуюьной компонепЙся тем, что, сизображения щения технолов качестве свеиспользованы гиды, "сно со Зависимое от авт. свидетельстваИзобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано при изготовлении печатных плат, твердых схем, пленочных пассивных элементов и т. д.Известны фоторезисты, состоящие из пленкообразующей основы, светочувствительной компоненты и растворителя,Цель изобретения - получение негативного изображения наряду с позитивным н упрощение технологии изготовления фоторезнста.Цель достигается...