Позитивный фоторезист

Номер патента: 651712

Опубликовано: 05.03.1979

Авторы: Коичи, Сигенори, Цутому

МПК: C09J 3/16

Метки: гибких, клей, печатных, плат

...соотцошенин 1,2:1,0 (с применением в качестве катализатора 2 ч. цв 1 млн. 25%-ного/,водного раствора аммиака), 50 вес.ч. диэпоксидного соединения (эпоксиэквивалецг340), полученного конденсацией эпихлор 10гидрида с двухатомным спиртом, образо;вавшегося при взаимодействии бисфенолаА с окисью пропилена в присутствии едкого кали в качестве катализатора, 40 вес.ч,сополимера акрилонитрила с бутадиеном,содержащего 30 вес.% акрилоцитрила,10 вес,ч. сополимера стирола с об-мегилстиролом и малеиновым ангидридом,включающего 45 мол.% малеинового ангидрида, и 50 вес.ч, сополимера изобутил 20мвлеинатв и диметилстирола, который содержит 55 мол.% иэобугилмвлеината, растворяют в мегилэтилкетоне.и перемешивают,до образования лака 25%-ной...

Номер патента: 763343

Опубликовано: 15.09.1980

Авторы: Липатов, Фабуляк, Шиндак

МПК: C07D 319/06, C08K 5/1575

Метки: 3-диоксанов, 4-дивинил-6-алкенил1, воздушной, качестве, лаков, полиэфирных, производные, сушки, ускорителей

...упари" вают в вакууме. Получают 2,4,б-тривинил,3-диоксан с выходом 88-89.П р и м е р 4. 2,4-дивинил-б- (2-хлорэтинил)-1,3-диоксан. В нагре" тую до 30 фС смесь 112 г (2 моля) акролеина и 2,8 г а-толуолсульфокислоты пропускают при перемешивании на протяжении 5 ч 88,5 г (1 моль) хлоропрена.Реакционную смесь Фильтруют. Фильтрат упаривают в вакууме. Получают 134,7 г 2;4-дивинил-(2- хлорэтинил)-1,3-диоксана (выход 67,2).Физико-химические свойства и результаты элементарного анализа 2,4-дивинил-б-алкенил,3-диоксанов ,приведены в табл.1 и 2.Для доказательства строения полученных 2,4-дивинил-б-алкенил,3- диоксанов сняты ИК-спектры. Спектры полученных 1,3-диоксанов однотипны и характеризуются полосой поглощения около 1650 см ,.характерной...

Номер патента: 1068879

Опубликовано: 23.01.1984

Авторы: Архипова, Баранова, Егорова, Новотный, Эрлих

МПК: G03C 1/52

Метки: позитивный, фоторезист

...приливают 300 мл очищенного диоксанового раствора 1,2-нафтохинондиаэид-(2)-5-сульфохлорида с концентрацией 10 г в 100 мл раствора. При интенсивном перемешинании в реакционную массу в течение 5-10 мин приливают 10 Ъ-ный воцный раствор бикарбоната калия в количестве 170-200 мл так, чтобы рН реакционной массы находилась в интервале 7,5-8,0. По окончании загрузки реакционную массу выдерживают н течение 2 ч при 40 сСс при этом значение рН среды должно быть не ниже 7 О. После .выдержки реакса ционную массу охлаждают до 15 С и при медленном перемешивании приливают к подкисленной смеси, содержащей 1,5 л дистиллированной воды, 500 г льда и 10 мл концентрированной соляной кислоты. При этом выделяется желтый аморфныйосадок, который после 2 ч...

Номер патента: 455312

Опубликовано: 30.12.1974

Авторы: Евстифеева, Родионова

МПК: G03C 1/68

Метки: защитного, нафтохинондиазидов, основе, позитивного, раствор, рельефа, смол, сформированного, удаления, фенолформальдегидных, фоторезиста

...отходов,Предлагаемый раствор имеет следующиепреиы щества: совмещается операция удаления позитивного фоторезпста с операцией химической обработки поверхцостц кремццевых властии перед диффузионным процессом и формированием пленки на цей;О повышается эффективность удаления позитивных фогорезпстов, подвергцутых как низо-, так и высонотемпсратурцому дублению;улучшдсгся чистота поверхностей кремццеьых пластин;5 ключдстся ц 1 кислотН.Ю НХ щцхся жидкостей;допустима утилизация отработанного раствора в кислотно-щслочцой канализации;О .р долкцтсльцость технологического про.цсссд уд;ле.ця здшцтцой полцмерпой маски с поверхности цлдстцц сокращается в 2 - 3 раза по срдвцеипо с процессом, где для удалеьпя рельефа применяется раствор ца основе гидроб...

Номер патента: 691799

Опубликовано: 15.10.1979

Авторы: Абрамович, Бобков, Семячко, Тупахин

МПК: G03C 5/30

Метки: нафтохинондиазидов, органический, основе, позитивных, проявитель, фоторезистов

...является плохая воспроизводимость результатов, малые скорость и контраст проявления, нестабильность,Цель изобретения .заключается в устранении указанных недостатков.Поставленная цель достигается тем", что проявитель включает моноэтаноламин, триэтаноламин, воду и гликоль, например этиленгликоль, при следующем соотношении компонвн" тов, % об,:МоноэтаноламинТриэтаноламинь личивать в без ухудше изображени проявления В табли изменения . ленного из понировани Табл. 1 тава,об Моноэтан Триэтано Этиленгл 15 ВодаТабл. 3, 4 - дл ителя состава,Ъ об,:Моноэтаноламин 18Триэтаноламин 7Этиленгликоль 40Вода 35,Во всех сЛучаях толщина слоя фоторе,иста составляла 0,7 0,5 мкм времясушки слоя фоторезиста 15 мин температура сушки 955 С; размер элемента на...