Постовит

Номер патента: 1477959

Опубликовано: 07.05.1989

Авторы: Асеев, Постовит

МПК: B60G 15/00, F16F 9/06

Метки: демпфер

...комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина, 101 Изобретение относится к машиностроению и касается автомобильных подвесок,Цель изобретения - повышение эффективности демпфированияНа чертеже изображен демпфер, вер тикапьный разрез.Демпфер состоит из нескольких (по количеству колес) заполненных жидкостью сильфонов 1, соединенных трубопроводами 2 с демпфирующей емкостью 3, которая снаружи теплоизолирована. В верхней части демпфирующей емкости 3 размещен терморегулятор 4 с приводом 5, механизм управления ко торым выведен в кабину водителя (не показаны), а в нижней части установлен погруженный в жидкость нагреватель 6, работа которого управляется терморегулятором 4. Демпфер работает следующим образом,При действии нагрузки...

Номер патента: 929738

Опубликовано: 23.05.1982

Авторы: Карпенко, Постовит, Слепова, Шарай

МПК: C23F 1/04

Метки: меди, молибдена, размерного, раствор, травления

...растворах, измерение величиныедь, . подтравов проводят на микроскопе МИИ при увеличении в 400 раз,3Перекись водорода (30%-ная) 15-2Хлорное железо 5-1Вода Ос талькВ процессе травления металл окисл ется, а травитель восстанавливается. Способность металла к окислению эави сит, помимо алектронной структуры а ,:мов, также и от окислительной способ,ности травителя, Чем выше окислите иая способность травителя, тем выше .скорость травления, а ато в свою очер обесцечивает равномерность травления и точность воспроизведения рисунка.Присутствие в растворе Гюй ускоряет процесс разложения перекиси войородаеП р и м е р. Для получения раствора для травления молибдена и меди хлорное железо растворяют в воде в заданных соотношениях, а затем...

Номер патента: 811195

Опубликовано: 07.03.1981

Авторы: Карпенко, Постовит, Терехова

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...литьевой ТУ38103 - 137 - 72 (СКУ - ПФП) - продуктвзаимодействия диизоцианата с простымили сложным олигоэфиром,П р и м е р. Для получения фоторезистасмешивают фенолформальдегидную смолу,светочувствительный продукт - 1,2-нафтохинондиазид(2) - 5-сульфоэфир новолака,уретановый эластомер и диоксан, Смесьвыдерживают 12 ч в месте, защищенномот актиничного излучения.811195 3Перед применением фоторезист отфильтровывают. 4Показатели полученных фоторез истов приведены в таблице. Содержание компонента, вес, 00 Время стойкости фото- резистивных пленок в 10 й-ном растворе КОН, сек Величина разрешающей способности,л/мм 1,2-нафто- хинон-диазид (2)-5- .сульфоэфир новолака Адгезионные свойства, гсlммфенолформальдегиная смола уретановыйэластомер...

Номер патента: 427427

Опубликовано: 05.05.1974

Автор: Постовит

МПК: H01L 21/465

Метки: железа, окиси, пленок, травитель

...экспонируют и проявляют обычным способом. Травление производят в 1%-ном растворе Ге 504 в кон. центрированной соляной кислоте уд. веса 1,18.После вытравливания рельефа фотошаблона фоторезист удаляют в диоксане и тщательно промывают в дистиллированной воде,Травительнове концептотличающийсскорости травдимости рисудержит соли15 вес. %. для пленок орированнойя тем, что, сления и улучка при фотодвухваленатно иси железа на оссоляной кислоты, ,целью увеличения щения воспроизволитографии, ои сого железа от 1 до Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов на напыленных пленках окиси железа.Известно, что пленки, формируемые реактивным катодным распылением в кислороде, 5 не,поддаются травлению в концентрированных кислотах при...