Патенты с меткой «ионного»

Номер патента: 1385900

Опубликовано: 23.08.1990

Авторы: Исаев, Нечаев, Пешков, Рябчиков

МПК: H01J 3/04

Метки: ионного, пучка

...металлическую трубкуна глубину,равную пяти диаметрам 25трубки, при этом ее. стенки способствуют формированию струипара рабочего вещества.,фокусирующая линза 5и лазер 6 расположены также на оптической оси вне вакуумной камеры. ЗОИонный пучок формируется электрода.мн 7,Способ осуществляется следующимобразом,Предварительно сфокусированноелинзой лазерное излучение через окно353 и отверстия в электродах 4 направляют наповерхность вещества, запрессованного в трубке 2, Мощность лазерного излучения выбирается такой,чтобы начиналось интенсивное испарение рабочего вещества, а потери теплаза счет теплопроводности становилисьмалыми. Под действием мощного лазерногоизлучения вещество в трубке испаря 45ется и истекающая струя пара распространяется...

Номер патента: 1540641

Опубликовано: 15.01.1991

Авторы: Диасамидзе, Цеквава

МПК: H05H 5/00

Метки: ионного, легирования

...источнике иэ негозаряженные частицы в виде ионногопучка попадают на поверхность образцов, укрепленных на диске 7. Для получения необходимого равномерногооблучения по всей поверхности образцов они имеют две степени свободыдвижения, Горизонтальное воэвратнопоступательное перемещение осущест-,вляется при помощи электродвигателя9, находящегося вне вакуумной камерыи червячной пары 8, а вращательноедвижение создается якорем 6 при воздействии на него магнитного поляэлектромагнита 2 установки конноголегирования. Угловая скорость вращения диска с образцами находится взависимости от величины тока, проходящего через обмотку якоря и напряженностью магнитного поля, создаваемого электромагнитом установки илегко регулируется их соотношением.На...

Номер патента: 1636358

Опубликовано: 23.03.1991

Авторы: Глебов, Головчак, Евстропьев, Колобкова, Лебедева, Никоноров, Петровская, Петровский, Федорушков

МПК: C03C 3/062

Метки: волноводных, ионного, методом, обмена, оптических, стекло, элементов

...- политерми радиентной печи,1636358 водостойкость стекол - зерновым методом.На полученном стекле методом низко- температурного ионного обменаМа сК оя созданы волноводные слои. Условие ионного обмена: расплав КИОз) длительность 0,5-12 ч, температура 350-500 С,Перепад показателя преломления 10 для света ТЕ-поляризации и двойное лучепреломление определяют методом волноводной спектроскопии - резонансного возбуждения волноводных мод ортогональных поляризаций с помощью 15 призменной системы ввода излучения (д = О)63 мкм). Профили ПП и толщину светонесущего слоя определяют на основании измерений модовых спектров волноводов по методу Вентцели-Крамерса-Брюлаена.Составы стекла приведены в табл. 1, а физико-химические свойства -. в табл....

Номер патента: 1637810

Опубликовано: 30.03.1991

Авторы: Белоус, Ефименко, Забарный, Косторнов, Минин

МПК: A61K 33/38

Метки: ионного, раствора, серебра

...Ц ние производит баритов устрой корпус 1, в верх лены изолирова ряные электрод Применение см стого проницаем локна), имеющ смачивания и у гревателя, обес го вление с ко ентратов, 2 обогащается ионами серебра и выходи него,Таким образом нагреватель 7 обеспечивает постоянную циркуляцию воды через устройство, а большие поверхности пористых проницаемых серебряных электродов 4, с небольшим гидравлическим сопротивлением, д смачиваемых горячей проточной водой 1, обеспечивают интенсивное приготовление серебряной воды и ее концентратов.В верхней части цилиндрического корпуса устройства установлены изолированные пористые проницаемые серебряныевам электроды, ниже которых находится электрический нагреватель. Корпус установлен вертикально в...

Номер патента: 1169499

Опубликовано: 15.04.1991

Авторы: Быковский, Дятлов, Константинов, Королев, Мирецкий

МПК: H01S 3/02

Метки: активный, газового, ионного, лазера, элемент

...с Фо= 0,6328 мкм, гелий-кадмиевый с= 0,5145 или О = 0,351 мкм лазеры.При изменении угла наклона пластинки к оси резонатора наблюдаютсяпериодические Изменения мощности излучения на выходе лазера.Зависимости, характеризующие изменение мощности генерации на выходе лазера при повороте пластинки,представлены на Фиг.3 (для толщиныпластинки 2,5 мкм - кривая 12 и 2 мм -кривая 13 на длине волны 0,6328 мкм)и на фиг. 4 (для толщины пластинки2, 5 мкм на длинах волнг 0,6328 мкм -кривая 14 и 0,4416 мм - кривая 15)Угловое расстояние между соседними максимумами или минимумами зависит от длины волны генерации и толщины пластинки. Оно увеличивается сростом длины волны и уменьшением толщины пластинки. Следует отметить также, что амплитуда изменения...

Номер патента: 1680069

Опубликовано: 30.09.1991

Авторы: Заблоцкайте, Навалинскас, Рункявичюс, Юрявичюс

МПК: A61B 5/04

Метки: биологической, ионного, клетки, мембраны

...клетка скелетной мышцы лягушки. В примере проведена регистрация натриевого тока. Клетка1680069 лоты 10 М блокируется целевой хлорный3ток. При помощи дифференциального усилителя на клетке фиксируется потенциал действия (зарегистрированный на запоминающем устройстве). Регистрируется внешний ток амплитудой 2 Х 10 А, который генерируется дифференциальным усилителем для компенсации заблокированного хлорного. тока. Этот внешний компенсационный ток измеряется и принимается за целевой.По сравнению с прототипом предлагаемый способ отличается простотой, с этим связанной уменьшенной трудоемкостью, а также однозначностью полученных результатов. Составитель О.КононоваТехред М.Моргентал Корректор Э.Лончакова Редактор Л.Павлова Заказ 3251 Тираж...

Номер патента: 1693117

Опубликовано: 23.11.1991

Авторы: Каплун, Леськив, Ляшенко, Пастух, Силина, Цыгулев

МПК: C23C 8/24

Метки: азотирования, ионного

...позволяет повысить качество 40 обрабатываемых изделий благодаря равномерному распределению концентрации реагентов по высоте. камеры, уменьшить пассивации поверхностей, исключить водородное охрупчивание металла.45 Формула изобретенияУстановка для ионного азотированиядеталей в вакууме, содержащая герметичную камеру с размещенными в ней анодом и катодом, с захватом для крепления дета лей, систему электропитания и систему газообеспечения с трубопроводами подвода и отвода газовой среды, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью повышения качества азотирования деталей путем повышения равно мерности распределения концентрацииреагентов по. высоте камеры, трубопровод подвода газовой среды выполнен в виде кольца сравномерно...

Номер патента: 1716292

Опубликовано: 28.02.1992

Авторы: Добжанский, Каплун, Паршенко, Пастух

МПК: C23C 8/24, F27D 11/02

Метки: азотирования, ионного, катода, токоввод, установок

...перегрев с переходом тлеющего разряда в дуговой. Изоляция электрода путем обмазки его керамической массой с последующим отверждением допустима только при применении специальных составов, так как традиционные недефицитные материалы из-за температурных деформаций электрода растрескиваются и не способны выполнять функции плазмоизолирующих элементов.Цель изобретения - повышение долговечности токоввода.Указанная цель достигается тем, что изолятор электрода состоит иэ отдельных дисков, причем диски между собой соединены ступенчатым или коническим замком.Изготовление изолятора из отдельных дисков позволяет применять недефицитные ,листовые электроизоляционные материалы, причем с увеличением количества дисков уменьшается требуемая толщина листа....

Номер патента: 1756827

Опубликовано: 23.08.1992

Авторы: Изидинов, Назаров, Разяпов

МПК: G01R 1/00

Метки: анализа, вторично, ионного, количественного, кремния, лазерного, масс-спектрометрического, образцов, основе, поверхности, примесей, создания, сравнения, структур

...и (2)величинами концентрации примеси в интервале 10-10 5 мас.0 в исходном расгворе.Предлагаемый способ характеризуютследующие свойства:простота операций, общедоступностьлабораторного оборудования и оснасткидля создания ОС;простота и точность регулирования впределах не менее 4 порядков содержайиястандартизируемого элемента-примеси;возможность высокой точности прогнозирования содержания примеси и направлейного его изменения на основе простогосоотношения, параметры которого мотутбыть найдены путем простых расчетоввследствие высокой восп роизводймостисвойств матрицы из СПК;тонкая структура и равномерное распределение микропор (обусловливает равномерное распределение примеси пообъему СПК);большая толщина СПК (100 - 200 мкм);что позволяет...

Номер патента: 1267906

Опубликовано: 07.09.1992

Авторы: Быковский, Дятлов, Киселева, Мирецкий

МПК: H01S 3/036

Метки: активный, газового, ионного, лазера, элемент

...последовательно к керамической трубке 7,Собранный активный элемент лазера обрабатывается с целью удаления остаточных газов и наполняется рабочим газом, например аргоном, до давления 0,6-0,9 мм рт.ст, Диаметр отверстия д разрядного канала, выполненного в ограничительных дисках 10, выбирается в пределах 2-3 мм.Активный элемент ионного газового лазера работает следующим образом.После подачи электрического напря/ жения между катодом и анодом и инициирования разряда в разрядном промежутке катод-анод возникает сильно- точный дуговой разряд, ограниченный центральными отверстиями в ограничительных дисках 10. Тепло, выделяемое разрядом через радиальные металлические ребра 1 1, отводится к медным опорным дискам 9 и далее через стенки...

Номер патента: 1672901

Опубликовано: 15.12.1992

Авторы: Бабин, Куклин, Яценко

МПК: H01S 3/22

Метки: возбуждения, ионного, канале, лазера, проточного, разряда, разрядном

...разряда вы-азрядного каости прокачки полняется ус 1672901Это условие вытекает иэ закона сохранения проекции импульса на оси к для нейтральных атомов в стационарной плазме,Решение уравнения дпя средних по сечению разрядного канапэ величин .=и (ц-. - 1(О+ 1 М(х ехр ( - г.- - + - - т-. описывает концентрацию нейтральных атомов Й, вдоль разрядного канала длиной 1, где Т, - температура атомов,Из решения видно, что при Йа(1) =1(- (О +1) концентрация атомов не зависитГ от продольной координаты, т.е,йа(7) = соп 81, и в этом случае разряд однороден, Следует огметить также, что в этом случае выполняются условияР(г) =- сопзт, ЦО + 1) = сопвт, т.е, условия, которые были использованы при решении уравнения. Меняя граничное условие Щ),можно получить...

Номер патента: 1786542

Опубликовано: 07.01.1993

Авторы: Карплюк, Новосядлый

МПК: H01L 21/66

Метки: доз, ионного, легирования, малых

...цель достигается тем, что вспособе определения малых доз ИЛ, включающем измерения неравновесных импульсных ВФХ предварительно легированнойтестовой МДП-структуры, предварительноелегирование тестовой структуры осуществляют ионной имплантацией примеси, создающей тип проводимости, противоположныйтипу проводимости подложки до концентра. ции, равной или большей концентрации.примеси в подложке, ВФХ измеряют на легированной контролируемой дозой примесии нелегированной частях тестовой структуры, прикладывая к тестовой структуре импульсы пилообразного напряжения соскоростью развертки 10 -10 В/с и с поляргностью, переводящей поверхность этойструктуры из состояния инверсии (обеднения) в состояние обогащения основныминосителями подложки...

Номер патента: 1796080

Опубликовано: 15.02.1993

Авторы: Андрзей, Вилмос

МПК: H01T 23/00

Метки: варианты, ветра, воздуха, его, ионного, перемещения, помощью, электрического

...признаком этого электрода 3 является то, что он содержит один или более проволоцных электродных элементов, располокенных внутри цейтральной части поперечного сечения канала 1 прохождения потока воздуха и что эти электродные элементы имеют проекцию на плоскость перпендикулярную продольной оси канала 1 для прохождения потока воздуха, длина которой будет значительно меньше поперецного размера канала 1 для прохождения потока воздуха, а луцше чтобы длина этой проекции была на 25 О/О меньше поперечного размера упомянутого канала 1, Отличительным признаком этого электрода 3 является также то, что проволочные электродные элементы не имеют концов, на которых напряженность электрического поля превышает напряженность поля на периферийной...

Номер патента: 1799928

Опубликовано: 07.03.1993

Авторы: Калинин, Кеткин, Лепская

МПК: C23C 8/36

Метки: азотирования, ионного, полых, стальных

...- рабочие аноды 4 с фланцами 5, Устройство имеет приспособление для центровки и изоляции изделия 11 на рабочем аноде 4, состоящее из кольца 6, выполненного из диэлектрического материала, имеющегб отверстие 7 и проточку 8, в которой установлено опорное металлическое кольцо 9 с гнездом 10 для установки изделия 11, Для размещения и сборки на одном аноде 4 нескольких изделий имеются переходные кольца 12,Для обработки изделий различных типоразмеров используют сменные рабочие аноды 4 с внешним диаметром, равным 0,5 - 0,8 внутреннего диаметра изделия,Ионное азотирование изделий с помощью устройства производится следующим образом, Предварительно собирается приспособление для центровки и изоляции изделия, для чего на фланец 5 анода 4...

Номер патента: 1803393

Опубликовано: 23.03.1993

Авторы: Жуков, Лившиц, Марчук

МПК: C03C 3/078

Метки: ионного, обмена, стекло

...ПП исходного стекла после ионного обмена, а такжевеличины соответствующего ИПП, равногор - , где СВ 20 содержание обмениваюЛп2 Ощегося оксида в исходном стекле. Знакплюс при ИПП означает увеличение ППстекла после обмена, знак минус - уменьшение,В таблице 3 приведены значения модуля Юнга Е, показателя преломления ПП иИПП предлагаемого стекла (1, 2, 3, 4), а также аналога и прототипа.Стекло для градиентных элементов является тем лучшим, более ценным, для ионообменного получения градиентныхэлементов, чем больше изменение (перепад) ПП Ь и в нем можно получить, как всторону увеличения ПП, так и в сторонууменьшения ПП. Кроме того, стекло тем более эффективно, чем больше величинаудельного изменения полезного свойства,т.е. чем больше инкремент...

Номер патента: 1806419

Опубликовано: 30.03.1993

Авторы: Дехтяр, Квелде, Куницын, Маркелова, Носков, Сагалович

МПК: H01L 21/66

Метки: ионного, момента, окончания, пленок, процесса, травления

...образец. тонкой пленки сплава РС-ЗОООК толщиной300 Ао, нанесенной на термически окисленную кремниевую подложку, Фотоэлектрическая работа выхода электрона с подлокки -10 эВ. Образец подвергался ионна-химическому травлению в реакторе установкиУРМ.3.279,026. Травителем являлись ионыгаза ЯГ 6, образующиеся в источнике ионовИИ - 4-0.15 при давлении 10 Па.Контроль ионно-химического травленияосуществлялся каждые 2 минуты, при этомисточник ионов отключался,Образец с пленкой освещался ультрафиолетовым светом, пропускаемым черездифракционный монохроматор и фильтрБС. Энергия бомбардирующего фотонаравнялась, т,е. расположена в диапазоне9,84,954,5 эВ (фотоэлектрическая работа выхода электрона с пленки 4,5 эВ),В процессе освещения измеряли...

Номер патента: 1589900

Опубликовано: 23.05.1993

Авторы: Солоница, Татусь, Хоренко, Чеканов

МПК: H01J 27/00

Метки: ионного, многокомпонентного, пучка

...образом.В источник ионов, являющийся модулем системы для получения многокомпонентного ионного пучка, наиболее удаленньп 1 от магнита, через отверстие 20 напускают газ, имеющий минимальное отношение массы к заряду иона, затем подают нсе потенциалы, создающие электрические и магнитные поля, необходимые для получения плазмы в разрядной камере 15, после чего создают разрядность потенциалов между камерой 15 и ионопроводом 13. Включают питание электромагнита и увеличивают магнитное поле до получения максимальной неличины силы тока пучка ионов на детекторе (не похазан), расположенном на оси ионопровада после щели 9. Затеи разность потенциа-,1589900 лов, задаваемую источником 23 питания уменьшают до тех пор, пока силатока пучка. станет равной...

Номер патента: 2002334

Опубликовано: 30.10.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: H01J 27/08

Метки: генерирования, ионного, пучка

...электронов перегородки 5. Катодная часть 6 разрядной полости 2 заполнена металлогазовой плазмой. Ионы металла генерируются в катодном пятне дуги и распространяются с поверхности катода по прямолинейным траекториям.Поскольку перегородка 5 не проницаема для ионов металла, ионы металла задерживаются ей и в анодную часть 7 разрядной полости 2 не попадают.Анодная часть 7 разрядной полости 2 заполнена положительным столбом чисто газовой плазмы, образуемой электронами, проходящими через перегородку 5 под действием электрического поля анода 4. При возникновении разрядного тока в цепи катода 3 и анода 4 срабатывает токовое реле 15, которое своим исполнительным органом 16 (нормально открытые контакты) включает источники 13 и 14...

Номер патента: 2003196

Опубликовано: 15.11.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: H01J 27/08

Метки: большого, генерирования, ионного, пучка, сечения

...перемещения в направлении, по меньшей мере, одной из стенок разрядной полости камеры. Кроме того. установка снабжена дополнительным электродом 16 и управляемым двухполюсным ключом 17, Дополнительный электрод 16 установлен напротив катода в рабочей полости 7 камеры и электрически изолирован от последней. Анод 3 электро-дугового разряда и электрод 16 посредством двухполюсного ключа 17 электрически соединены с положительным полюсом источника 11 электропитания разряда с возможностью поочередного их подключения к указанному источнику,5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Работает установка при выдвинутых сетке и перегородке и при подаче положительного потенциала от источника 11 на анод 3 (двухполюсный ключ в положении "В") следующим образом,...

Номер патента: 1625256

Опубликовано: 30.12.1993

Автор: Иванов

МПК: H01J 27/00

Метки: газовый, ионного, нейтрализатор, пучка

...22 насоса 4 подачи, разгоняется этим ротором, и при выходе из-под15 поверхности внешнего ротора 10 отрывается по касательной и пересекает камеру перезарядки 1 вдоль пунктирной линии начертеже, Диаметр потока нейтралиэующегогаза определяется поперечным сечением20 паза 24, Формирующего поток. Прошедшийчерез камеру 1 поток глубоко проникает вустановленный по касательной всасывающигл конец части паза 19 центрального ротора 18 насоса 5 отбора и отводится ротором25 18 к выходу насоса 5, откуда через выходнойфланец 13 и трубопровод 14 вновь перетекает к Фланцу 12 насоса 4 подачи, а оттуда -к всасыва ощгмконцу паза 24 этого насоса.-эсть паза 21 центрального ротора 22 и30 винтовые канавки 23 внешнего ротора насоса 4 подачи, а также винтовые...

Номер патента: 1258301

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Горелик, Трофимов, Чутко

МПК: H05H 1/00

Метки: зависимостей, ионного, параметров, распыления, угловых

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ УГЛОВЫХ ЗАВИСИМОСТЕЙ ПАРАМЕТРОВ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ, содержащее источник потока ионов и мишень, отличающееся тем, что, с целью повышения точности и скорости измерений, мишень выполнена в виде многогранника, одна грань которого расположена перпендикулярно потоку ионов, а другие грани, имеющие по крайней мере одну общую точку с упомянутой гранью, расположены по отношению к ней так, что внешние нормали к ним образуют с внешней нормалью к упомянутой грани углы в диапазоне 0 - 90o.

Номер патента: 544303

Опубликовано: 30.07.1994

Авторы: Иванов, Неймарк

МПК: H01J 27/02

Метки: ионного, нейтрализации, пучка

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННОГО ПУЧКА, содержащее ресивер, сито из сплавленных между собой отрезков капилляров для подачи направленного потока газа в область нейтрализации и поглощающий экран, отличающееся тем, что, с целью повышения направленности потока газа, сито выполнено с поперечными по отношению к оси капилляров разрезами.

Номер патента: 1328985

Опубликовано: 30.09.1994

Авторы: Ануфриев, Плотников, Скресанов, Фоменков, Ястребов

МПК: B01J 47/10

Метки: ионного, непрерывного, обмена

1. СПОСОБ НЕПРЕРЫВНОГО ИОННОГО ОБМЕНА в последовательно расположенных сорбционной, регенерационной и промывной колоннах с загрузочными бункерами и промежуточными дозаторами с трубами для передавливания ионита, ионитными задвижками и жидкостными клапанами, включающий одновременные погрузку ионита в колонну и отгрузку ионита из каждой колонны в дозатор, а также совмещение передавливания ионита из дозатора в загрузочный бункер исходной жидкостью с ее фильтрацией через ионит в колонне, отличающийся тем, что, с целью поддержания соотношения потоков ионит : жидкость, при заданной производительности из исходной жидкости перед вводом ее в колонну на фильтрацию отводят воздух, при этом в процессе подгрузки часть исходной жидкости вместе с воздухом...

Номер патента: 1741595

Опубликовано: 27.08.1995

Авторы: Мартынов, Чекалин

МПК: H05H 7/12

Метки: ионного, пучка, рекуператор, энергии

1. РЕКУПЕРАТОР ЭНЕРГИИ ИОННОГО ПУЧКА, содержащий электрод экран и расположенные относительно друг друга с зазором, являющимся тормозным промежутком для ионов, супрессорный электрод и электрод-коллектор, отличающийся тем, что, с целью увеличения плотности тока, пропускаемой рекуператором и уменьшения при этом дополнительных затрат энергии на ускорение электронов, в тормозном промежутке рекуператора установлены источики электронов, размещенные от супрессорного электрода, на расстоянии l(м), которое определяется следующим выражениемEo, 2 E средняя энергия пучка и разброс энергий ионов,...

Номер патента: 1828717

Опубликовано: 20.02.1996

Авторы: Елисеев, Кузнецов, Старостин

МПК: H01L 21/265

Метки: группового, ионного, легирования, пластин, полупроводниковых

УСТАНОВКА ГРУППОВОГО ИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, содержащая систему вертикального электростатического сканирования ионного пучка, барабан для размещения полупроводниковых пластин на его боковой поверхности, установленной с возможностью вращения вокруг своей оси и маску с окном, расположенную между системой вертикального сканирования и боковой поверхностью барабана, отличающаяся тем, что, с целью расширения области применения, окно в маске выполнено в виде щели, имеющей переменную в вертикальном направлении ширину.

Номер патента: 1289305

Опубликовано: 10.12.1996

Авторы: Раппо, Редькин, Старков, Юнкин

МПК: H01L 21/306

Метки: ионного, кремнии, ниобия, реактивного, травления

Способ реактивного ионного травления ниобия на кремнии, включающий обработку образцов в плазме фторсодержащего соединения и кислорода при пониженном давлении, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости травления, в плазму дополнительно вводят хлорсодержащее газообразующее соединение при объемном отношении его к фторсодержащему газу (0,1 1) 1 и процесс проводят при плотности мощности разряда от 0,06 до 1,45 Вт/см2.

Номер патента: 906304

Опубликовано: 10.11.1999

Автор: Герасименко

МПК: H01L 21/423

Метки: внедрения, ионного, кристаллические, подложки

Способ ионного внедрения в кристаллические подложки, включающий имплантацию ионов до набора дозы и отжиг путем воздействия импульсного излучения, отличающийся тем, что, с целью избежания накопления радиационных дефектов и снижении температуры полного отжига дефектов, процесс внедрения проводят повторяющимися циклами имплантация-отжиг, причем отжиг проводят после набора дозы не более одной десятой дозы аморфизации, а повторяют циклы после остывания подложек до температуры имплантации.

Номер патента: 1064795

Опубликовано: 20.11.1999

Авторы: Гуров, Шеретов

МПК: H01J 27/24

Метки: ионного, потока

1. Устройство для получения ионного потока, содержащее источник лазерного излучения, мишень, систему фокусировки лазерного излучения на поверхности мишени, газоразрядную систему с источником питания и систему формирования ионного потока, отличающееся тем, что, с целью повышения эффективности, в устройство введены магнит, а газоразрядная система выполнена в виде цилиндрического электрода, подключенного к положительному полюсу источника питания, и двух торцевых электродов, подключенных к отрицательному полюсу источника питания, и расположена таким образом, что ось ее направлена вдоль магнитного поля, при этом в цилиндрическом и торцовых электродах выполнены отверстия для ввода лазерного...

Номер патента: 1570338

Опубликовано: 20.11.2005

Авторы: Лапин, Сакаева, Цырлин

МПК: C23C 8/38

Метки: азотирования, ионного

Способ ионного азотирования деталей, преимущественно из нержавеющих сталей, включающий нагрев до температуры 500-600°С и поэтапную выдержку в тлеющем разряде в азотводородной среде, причем на первом этапе проводят выдержку в течение 2-6 ч в среде состава 25% N2 и 75% H2, на втором этапе - в среде состава 75-85% N2 и 15-25% H2, отличающийся тем, что, с целью повышения коррозионной стойкости и уменьшения хрупкости азотированного слоя, после второго этапа проводят дополнительный этап выдержки в среде состава 25% N2 и 75% H2 , а продолжительность этапов устанавливают исходя из следующих зависимостей:

Номер патента: 1127324

Опубликовано: 27.04.2006

Авторы: Сакаева, Солодкин, Цырлин

МПК: C23C 8/36

Метки: азотирования, ионного

Способ ионного азотирования стальных деталей, преимущественно с отверстиями, включающий нагрев и выдержку в азотводородной атмосфере, отличающийся тем, что, с целью получения равномерной твердости и толщины азотированного слоя и уменьшения деформации деталей, нагрев ведут с одновременным ступенчатым повышением давления на 0,20-0,35 мм рт. ст. через каждые 20°С.