Элимар

Номер патента: 901355

Опубликовано: 30.01.1982

Авторы: Вернер, Вольфганг, Детлеф, Клаус, Лотар, Ханс-Дитер, Хельмут, Элимар

МПК: C23C 13/06

Метки: масок, нанесения, подложку

...после чего удалением Фотореэиста с нанесенным на него маскиРующим защитным покрытием получают рисунок маски. На чертеже схематически изобраае" ио осуществление предлагаемого способа.На подложку 1, изготовленную из фенольной смолы, для улучшения сцепления нанесенного, например вакуумным испарением, рисунка структурного слоя 2 наносится сцепляющее вещество 3.901355 Плотно прилегающая к сцепляющему веществу 3 маска 4 состоит из металлической основы в виде сетки 5 . на стали, настолько тонкой, чтобы не было теней рисунка из фоторезиста 6 и нанесенного испарением защитного .слоя 7 из хрома, который предохраняет фоторезист 6 от нагрузок во время процессов испарения и восстановления. Предназначенный для испарения материала, например медь, при...

Номер патента: 291997

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Германска, Гюнтер, Зигфрид, Петер, Ульрих, Элимар

МПК: E02F 3/38

Метки: 291997

...пластины с пазом, эластичной и нажимной пластин, расположенных друг над другом. Такая конструкция устройства позволяет повысить производительность труда. На фиг. 1 изображено описыва ройство, общий вид; на фиг. 2 - ш резе.Устройство состоит из камеры 1, торой расположены разматывающи тывающий механизмы 2 и 3, вакуук ры 4 и шлюза 5, выполненного в ви ляющей пластины б (см. фиг. 2) с и стичной пластины 7 и нажимной п расположенных друг над другом.В вакуумной камере расположе тель 9 с диафрагмой 10,Лента 11, протягиваемая разматывающиммеханизмом 2, проходит через радиационный нагреватель 12, охлаждаемый ролик 13 и далее попадает в вакуумную камеру 4, где на ее поверхность наносится покрытие. После этого лента возвращается через тот...