Патенты с меткой «маски»

Номер патента: 1336016

Опубликовано: 07.09.1987

Авторы: Комухаев, Любарский, Мушка, Якуба

МПК: G06F 12/12

Метки: генерации, маски, слов

...слов, начинающуюся с 58-го разряда и заканчивающуюся в 10-м разряде,т.е. маску с перегибом. Следовательно, навходе 4 адреса начала поля будет код 111010,а на входе 5 адреса конца поля будет код001010. На фиг. 2 видно, что три старшихразряда (код 111) поступают на дешифратор 12, На седьмом выходе дешифратора12 будет 0 и на выходах элементов 13 - 15и 20 И - НЕ будет сигнал 1, а на остальных выходах 0. Работа блока 7 указателя активных подслов представлена в таблице. Устройство работает следующим образом.С выхода блока 3 маска поступает в Кблоков элементов И. Блок 7 указателя активных подслов стробирует элементы блоков 55 8 и 9 таким образом, что части только двухвыбранных одинаковых масок объединяются.В результате на выходе устройства...

Номер патента: 1352445

Опубликовано: 15.11.1987

Авторы: Тырроф, Шмидт

МПК: G03F 7/26, H01L 21/312

Метки: ионно-лучевых, маски, проекционных, свободной, систем, электронно-и

...литографии.Если требуется получить рисунок с более высоким разрешением, то при формировании вспомогательной маски из двуокиси крем. ния используется ионолитография, а в качестве ионорезиста - молибден.Пример 2, На подложку, например из кремния или алюминия, осаждается первый слой никеля толщиной примерно 5 мк, а затем при помощи шаблона типа ядерного фильтра литографически формируют контакт. ную маску, рисунок которой путем травления ионным лучом напряжением 1 кВ и плотностью тока 1 мА/смпереносится в никелевый слой. При этом плотность тока и напряжение должны выбираться таким образом, чтобы исключить усадку или разложение контактной маски и обеспечить соотношение скоростей травления никеля и маски 1. В данном случае достигается" 54...

Номер патента: 1132746

Опубликовано: 23.08.1988

Авторы: Берестенко, Боков, Бочканов, Носов, Сиедин, Федоров, Шевченко

МПК: G03F 7/26, H01L 21/312

Метки: маски, негативной

...и продолжительность прививки 1"10 ч.При давлении мономера менее 01 Торр при продолжительности прививкименее 1 ч толщина маски получается недостаточной, так что выход за эти пределы практически нецелесооб-. разен. Процесс пострадиационной графт-полимеризации практически завершается в течение 10 ч, поэтому увеличение продолжительности не дает существенного выигрьппа.В предложенном способе, в отличие от известных, применяемая полимерная пленка не содержит летучих компонентов, не требует обработки в жидких мономерах и проявления в жидкомрастворителе. На фиг, 1-4 показана схема получения негативной маски согласно изобретению.На фиг. 1 изображена первая стадия- формирование полимерной пленки, содержащей молекулы полимера (Р). Полимер...

Номер патента: 1451704

Опубликовано: 15.01.1989

Авторы: Бобов, Клокоцкий

МПК: G06F 12/14

Метки: маски, формирования

...вход,Счетчик 4 предназначен для заданияколичества шагов деления идентификатора на многочлен Р(х) путем последовательного вычитания единицы из установленного в нем числа. Триггер 5 4 Опредназначен для управления работойэлементов И б,7. Устройство работает следующим образом. 45Идентификатор пользователя,. для которого необходимо выработать маску, записывается в буферный регистр 1 1 сдвига. При этом триггер 5 установлен в состояние, при котором сигналом с его инверсного выхода элемента И 6 открыт и выход буферного регистра 1 сдвига подключен к его выходу.Ключ маскирования, выбираемый из равномерно распределенного массива случайных чисел, по входу "установка" записывается в счетчик 4, работающий .в режиме вычитания. Процесс получения маски...

Номер патента: 1464201

Опубликовано: 07.03.1989

Авторы: Боженко, Кондратов, Мешков

МПК: G09G 1/08

Метки: визиров, маски, трубки, формирования, экране, электронно-лучевой

...обнуленные по СГИ первый 13 и второй 14 триггеры. Триггер 13 формирует вертикальные границы маски, а триггер 14 - сигналы подсвета вертикальных линий визиров в текущей строке развертки, По следующему СГИ коды в счетчиках 7 и 8 восстанавливаются и счет начинается вновь.Вертикальные координаты первого и второго визиров устанавливаются, соответственно, в счетчиках 9 и 10 по КГИ. Вычитающий счет в них производится по СГИ. В результате счета с выхода счетчика 10, а затем с выхода счетчика 9 поступают сигналы переноса, длительность которых равна длительности интервала между СГИ. Через второй элемент ИЛИ 12 сигналы переноса поступают на предварительно обнуленный по КГИ третий триггер 15 и элемент И - ИЛИ 16 В результате элемент ИЛИ...

Номер патента: 1501169

Опубликовано: 15.08.1989

Авторы: Самусев, Шостак, Яскульдович

МПК: G11C 19/00

Метки: кода, маски, формирователь

...формируется код00011111 (табл.2). На выходе дешифратора 12 формируется код 00010000.Под управлением сигналов на выходедешифратора 12 все мультиплексоры 3,кроме мультиплексора 3 с номером М =3 передают на выход код с выходовблока 11. На выходе М-го мультиплексора 3 передается код с выхода блока1. В результате на выходе 9 формируется код:00000000 00000000 00000000 0000111111111111 11111111 11111111,т.е. как и задано слева сформировано М К + ш = 3 8 + 4 = 28 логических нулей."Маска справа". На входах 7 и 8установлен код .01. На выходе блока 1формируется код 11110000 (фиг. 1).На выходе блока 11 формируется код11111000 (см. табл.2). На выходе дешифратора 12 формируется код 00001000.Под управлением сигналов на выходедешифратора 12 все...

Номер патента: 1513459

Опубликовано: 07.10.1989

Авторы: Бобов, Клокоцкий

МПК: G06F 12/14

Метки: маски, формирования

...сигнал на переключениетриггера 6,.Триггер 6 предназначен для управле.ния работой элементов И 7 и 8. Информационные связи представляют собой шины для параллельной передачикодов.Устройство работает следующимобразом.Идентификатор пользователя, длякоторого необходимо выработать маску,записывается в буферный регистр 1 через блок 5 установки ключа в счетчик 4, При этом сигналом с инверсного выхода триггера 6 элемент И 7 от"крыт, и выход последнего разряда буферного регистра подключен как к еговходу, образуя кольцо, так и к блоку3 сумматоров по модулю два, а счетчик установлен в режим вычитания.При подаче тактов (не показано)в буферный регистр 1 счетчик 4 и регистр 2 сдвига устройство осуществляет деление идентификатора на полином Р(х). Деление...

Номер патента: 1553950

Опубликовано: 30.03.1990

Авторы: Веремеев, Селиванов

МПК: G03C 5/00, G03F 7/00

Метки: картоиздательской, маски

...изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб д. 1/5 Производственно-издательский комбинат Патент", г,ужгород, ул.Гагарина, 101 кой маски. Таким образом, на одноммасконосителе изготавливают необходимое число масок.П р и м е р . Изготовление масконосителя на предварительно очувствленной пленке "фотоконт"-прозрачная.Подготавливают основу. Нарезаютпленку на заданный формат, Экспонируютпод Фотоформой с непрозрачными абрисными. линиями в копировальной рамеРКЦв течение 1-2 мин при 600 лк.Проявляют водой при 20 ч 23 С струйнымСпособом в течение 0,5 ч 2,0 мин, Окрашивают проявленное изображение раствором красителя в кювете 5 мин. Промывают водой и высушивают 10-15 мин.Наносят светочувствительный слоя обычным приемом в...

Номер патента: 1575314

Опубликовано: 30.06.1990

Авторы: Козлов, Коровина, Яблонский, Ялин

МПК: H03M 7/14

Метки: маски, формирования

...код первой группы, с первого по шестнадцатый преобразователей двоичного кода в единичный код второй группы, с первого по шестьдесят четвертый преобразователей двоичного кода в единичный код третьей группы, выходы разрядов с первого по шестьдесят четвертый преобразователей двоичного кода в единичный код третьей группы являются соответственно с первого по пятьсот двенадцатый выходами группы устройства, выходы с первого по четвертый разрядов выхода преобразователя двоичного кода в единичный код соединены с входами разрешения соответствующихпреобразователей двоичного кода в единичный код первой группы, выход К-го (К= 1-4) разряда выхода перво-го преобразователя двоичного кода в единичный код р-й группы (р=1,2) соединен с входом...

Номер патента: 1580344

Опубликовано: 23.07.1990

Авторы: Бобов, Клокоцкий

МПК: G06F 12/14, G06F 7/00

Метки: маски, формирования

...9.Счетчик 8 слов предназначен для задания количества циклов деления идентификатора на многочлен Р(х). Устройство работает следующим образомм.Идентификатор пользователя, для которого необходимо выработать маску, записывается в буферный регистр 1. При этом с блока 5 определения форма" та в счетчик 8 слов записывается число, определяющее формат данного идентификатора. По сигналу от счет5 1580344 чика 8 слов блок 6 формирования числа выбирает первое слово идентификатора из буферного регистра 1,которое посредством блока 7 установки ключа записывается в счетчик 4 битов. Кроме того, сигналом с инверсного выхода триггера 9 элемент И 10.открыт, и выход последнего разряда бу"ферного регистра 1 подключен как к его входу, образуя кольцо, так...

Номер патента: 1594592

Опубликовано: 23.09.1990

Авторы: Боженко, Кондратов

МПК: G09G 1/08

Метки: визиров, маски, трубки, формирования, экране, электронно-лучевой

...триггер 14 - вертикальные границы маски,Установка в счетчике 10 через коммутатор 5 вертикальной координатыпервого визира и размера рамки происходит по КГИ аналогичным образом,Вычитающий счет в счетчике 10 ведется по СГИ, В результате на выходесчетчика 1 О формируются сигналыподсвета горизонтальных линий визиров в текущем кадре развертки, а посостоянию триггера 15 определяютсягоризонтальные границы маски,В режиме формирования визиров навходе 20 устанавливается "1", на входе 21 - "0", Сигналы подсвета визиров поступают на выход 19 через элемент 18 с выходов счетчика 10 и триггера 13. В режиме формирования маски на входе 21 устанавливается "1",Сигналы подсвета маски Формируютсяпо совпадению уровней "1" на выходах триггеров 14 и...

Номер патента: 1099776

Опубликовано: 23.10.1990

Авторы: Бугай, Ткаченко, Ярандин

МПК: H01L 21/3105

Метки: маски, плазменного, травления, формирования, фоторезистивной

...д.ттель) тьГнтес(о)ГО дик:аГОТГОе: .. Г Г.зцстивной маски; з-а цскб р Н,Г," ПРОВЕДЕНИЯ ДОНОГНИТЕЛЬН т( СПР) :;нанесения заципого слоя па Б 1 С)нанесения втсрогс ело 1:тоар(:3 с -его экипопироватптя рояв.Генц исушки, реак гивно. о ионного тра;1 сБ 102 и слоя толе:ого фоторетц.т;,11 елью изобретения явгтяегс;5 сстНИЕ ТЕХНОЛОгтНЕСКОГО 1 ИК 51;.эгт,:ния фоторезстВпойт аски спрофил"м ооковых с тонок11(.,ГЬ д 3 С Т 1РТ.бе формиров анЯ фос р=3 и гив,ОКИ ДЛЯ ЫаЗМЕННОГО ттэаВНЕПГГ ".К,щем операции Янесэ 5 фо Орес:сна ;Од 110)(к у . сушкус нонн с: Гц."Гспроявлс.ние эо бра кс:.я о-ле,эо,;пения изобракения проводят театнО,5-5 мин плсз."еп:у",. обработку;к. -.рЕЗИСта В БЧ дОдНО с 1 Сто:Е .- :ной среде прц павлецп. 0-, .1 ОС ПВтудельной мощности О...

Номер патента: 1636892

Опубликовано: 23.03.1991

Авторы: Зарецкая, Косилов

МПК: H01J 29/07

Метки: кинескопа, маски, поверхности, теневой, формы, цветного

...покрытие одного цвета. Затем указанный узел устанавливают в макетразрабатываемого кинескопа, В рабочемрежиме кинескопа засвечивают панель 1 иформируют в контрольных зонах, соответствующих по пространственному положениюразмещению частей 5 маски 4, из электронных следов триады одного цвета свечения.Затем измеряют, например с помощью оптического микроскопа, расстояния междуэлектронными следами внутри каждой триады и расстояния между электронными следами соседних триад. Параметрыэкраномасочного узла после выполненияизмерений считают соответствующими требуемыми, если указанные расстояния совпадают по величине. Если это требованиене выполняется, в одной или несколькихзонах панели 1 производят корректировкурасстояний между маской...

Номер патента: 1684300

Опубликовано: 15.10.1991

Авторы: Мсрлян, Хачатрян

МПК: C09D 163/02, H05K 3/28

Метки: защитной, композиция, маски, печатных, плат

...и тщателы о перемешивают до гамогенизации раствора.Обезжиривание поверхности печатной платы производят бязевым тампоном, пропитанным смесью этилового спирта и хладона 113 (2;1). Затем печатную плату устанавливают на станок для сеткографической печати марки ПСП, Оттиск производят с помощью сетчатых трафаретов, изготовляемых из капроновых сит % 33 и фотарезиста "Фотосетж", затем маску су1684300 Компоггентгя и показатели Лзвестная Лрелллгзеглля1 1 Согтав композиции,млс,ч,; Эпоксидная смоле ЭЛ Цнзтим 22 Попизтиленполпямин 74 7 ч 74 1 О 12 20 15 18 7 ЗО Жнзнеспгсобностгч мин 20-30 37 33 5658 35 Рзстекзние, мил Рязрешзгшзл способность,мн Ог 5-9 г 6 Ог 25 0,25 0,25 0,25 Толщине покрытия прииспользонвнии сит Р 38,мм 0,04-0,05...

Номер патента: 1501759

Опубликовано: 30.11.1991

Авторы: Генцелев, Самойлиди

МПК: G03F 9/00

Метки: маски, подложки, рисунка, рисунком, совмещения

...кремния, легированного бор2-3 мкм. Топологический рису6 на маске 3 выполнены из слощиной 0,6 мкм, Каждая меткамер 5 х 200 мкм.На подложке 1 формвиде чередующихся полслоев противоположного1501759 вского излучения, и величина электрического тока, протекающего через метки 5, минимальна.П р и м е р 2. Все операции выполняют как в примере 1. Метки 5 на подложке 1 выполняют в виде многослойной структуры, состоящей из чередующихся проводящих и пепроводящих слоев. В частности, такая структура может состоять из слоя кремния, разделенного с кремниевой подложкой слоем окиси кремния толщиной 30-40 А. Составитель В.Рубцов Редактор Н.Каменская Техред М.Моргентал Корректор М.ДемчикЗаказ 4644 Тираж ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по...

Номер патента: 1705366

Опубликовано: 15.01.1992

Авторы: Алексеева, Башнин, Дейнеко, Кормаз, Плесовских, Чернов

МПК: C21D 1/78

Метки: маски, теневой

...Холодную прокатку проводят по различным технологическим схемам до толщины 0,07-0,15 мм. При этом степень деформации при последней холодной прокатке составила 10-80, Холоднокатаные полосы в рулонах отправляют на предприятие по изготовлению кинескопов. Поверхность холоднокатаных полос обезжиривают, наносят фоторезист, проводят фотозкспонирование с помощью эталона. После проявления, травления и промывки получают заготовки - маски с требуемой формой отверстий, Полученные маски в дальнейшем подвергают отжигу в проходной печи при 730-910 С с выдержкой в течение 1-30 мин, отожженные маски подвергают правке в роликоправильных маши 1705366нах и формовке на прессах для получения теневого экрана.В таблице приведены сводные данные по значению...

Номер патента: 1811041

Опубликовано: 23.04.1993

Авторы: Коледов, Патрацкая, Томащенко, Черный

МПК: H05K 3/14

Метки: маски, металлической, подложкой, совмещения, фиксации

...с помощью микроскопа 1 и манипулятора совмещения, осуществляется подъем магнита 10 на подвижном носителе эа ручки 12 до полного совмещения магнита с подложкой и маской, Далее снимается магнит 5 идержатель 2 с направляющих 3,Подвижный носитель с магнитом, подложкой и маской передается за ручки на следующие операции или на межоперационное хранение.Пример конкретного выполнения,Устройство для совмещения и фиксации металлической маски с подложкой выполнено для металлической маски 6 с размерами,мм 48 х 60 х 0,5 и алюминиевой подложки с полиимидной изоляцией 7 с размерами, мм 48 х 60 х 1,0.Устройство состойт иэ микроскопа 1 с системой освещения, манипулятора совмещения, соединенного с подвижной плитой 13, имеющей отверстиеф 37 мм, в...

Номер патента: 1821494

Опубликовано: 15.06.1993

Авторы: Четчуев, Чукалин, Юссон

МПК: C23C 14/04

Метки: маски, напыления, пленочных, структур

...окна в виде прямоугольников, стороны которых ориентированы вдоль кристаллографических осей пластины (110), Далее глубоким аниэонтронным травлением в щелочных травителя при температуре порядка 100 С в пластине кремния получают отверстия 3 в виде щели. При этом боковые стенки отверстий совпадают с плоскостью (111), образуют угол порядка 55 к плоскости прилегания подложки.Выполнение боковых стенок выступа, совпадающими с наиболее прочной для кремния плоскостью (111), обеспечивает максимальный срок службы маски и воэможность получения длинных и узких консольных выступов.Минимальная погрешность изготовления размеров рисунка маски составляет 0,005 мм, благодаря высокой воспроизводимости размерОв края маски. Повышается1821494 оставитель Н,...

Номер патента: 1398641

Опубликовано: 30.04.1994

Авторы: Белых, Тимашев, Федорец, Якименко

МПК: G03F 7/26

Метки: контактной, маски, подложке, прозрачной

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНТАКТНОЙ МАСКИ НА ПРОЗРАЧНОЙ ПОДЛОЖКЕ, включающий нанесение на ее рабочую поверхность слоя фоторезиста, формирования скрытого изображения путем экспонирования фоторезиста актиничным излучением с использованием поглощающего покрытия и проявление скрытого изображения, отличающийся тем, что, с целью улучщения точностных параметров маски, поглощающее покрытие формируют на обратной стороне подложки толщиной не менее четверти длины волны экспонирующего излучения, причем в качестве материала поглощающего покрытия используют медь.

Номер патента: 1667529

Опубликовано: 30.05.1994

Авторы: Красножон, Фролов, Хворов

МПК: G03F 7/26

Метки: маски, формирования, фоторезистивной

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ФОТОРЕЗИСТИВНОЙ МАСКИ, включающий нанесение на подложку слоя фоторезиста, его селективное экспонирование, проявление, сушку, обработку в плазме ВЧ-разряда смеси фторсодержащего газа и кислорода и термообработку, отличающийся тем, что, с целью повышения плазмостойкости маски, обработку в плазме осуществляют при содержании кислорода в смеси в количестве 20 - 40 об. % , давлении 60 - 100 Па и удельной мощности ВЧ-разряда 0,1 - 0,3 Вт/см2.

Номер патента: 1744821

Опубликовано: 10.09.1995

Автор: Лебедев

МПК: A62B 18/10

Метки: кислородной, клапанный, маски, узел

КЛАПАННЫЙ УЗЕЛ КИСЛОРОДНОЙ МАСКИ, содержащий корпус, торообразную компенсирующую камеру, сообщенную с источником подачи кислорода, закрепленную между жестким ложементом и седлом клапана выдоха, а также клапан вдоха, при этом торцовая стенка компенсирующей камеры, обращенная к седлу клапана выдоха и являющаяся его запорным органом, выполнена с кольцевыми выступами, отличающийся тем, что, с целью улучшения защитной эффективности за счет уменьшения скорости возврата клапана выдоха в закрытое положение при одновременном упрощении устройства, кольцевые выступы выполнены треугольной формы с вершинами, обращенными в сторону седла клапана выдоха, торообразная камера закреплена на корпусе и поджата к ложементу посредством герметизирующего кольца,...

Номер патента: 1804223

Опубликовано: 27.03.1996

Авторы: Беляева, Зыкова, Фролов

МПК: G03F 7/40

Метки: маски, упрочнения, фоторезистивной

...смеси, Нижний предел содержания ацетона в растворе обусловлен сохранением приемлемого времени обработки (не более 5 мин), верхний предел - стойкостью обрабатываемого фоторезиста к воздействию раствора (при содержании ацетона более 45 мас. происходит сильная эрозия ФРМ). Выбор ацетона в качестве реагента обусловлен его стойкостью к действию КМпОрастворимостью КМп 04 в ацетоне и растворимостью фоторезистов в ацетоне.Решений, характеризующихся признаками, сходными с признаками, отличающими заявляемое решение от протбтипа, не обнаружено, поэтому можно сделать вывод о новизне и существенности отличий заяв- "0 ляемого решения.П р и м е р 1. На кремниевых пластинах.покрытых пленкой алюминия толщиной 1 мкм, формировали ФРМ иэ фоторезиста...