G03F 7/40 — обработка после удаления изображения, например термообработка

Номер патента: 165644

Опубликовано: 01.01.1964

Авторы: Вср, Наумченко

МПК: G03C 5/40, G03F 7/40

Метки: защитного, кислотоупорного

...б 2 Известен способ получения кислотоупорного защитного фотографического изображения из поливинилового спирта методом дубления, заключающийся в том, что проявленное изображение из хромированного поливинилового спирта обрабатывают 30% -ным раствором натриевой соли фенолметилсульфокислоты в течение 3 - 5 мин, высушивают и подвергают термообработке при температуре 220 - 240 С в течение 2 - 3 мин.С целью повышения кислотоустойчивости копировальных слоев из хромированного поливинилового спирта в предлагаемом способе проявленное изображение обрабатывают 30%- ным раствором натриевой соли фенолметилсульфокислоты в течение 10 - 15 мин, высушивают и подвергают термообработке при температуре 150 - 160 С в течение 15 мин, промывают и...

Номер патента: 1804223

Опубликовано: 27.03.1996

Авторы: Беляева, Зыкова, Фролов

МПК: G03F 7/40

Метки: маски, упрочнения, фоторезистивной

...смеси, Нижний предел содержания ацетона в растворе обусловлен сохранением приемлемого времени обработки (не более 5 мин), верхний предел - стойкостью обрабатываемого фоторезиста к воздействию раствора (при содержании ацетона более 45 мас. происходит сильная эрозия ФРМ). Выбор ацетона в качестве реагента обусловлен его стойкостью к действию КМпОрастворимостью КМп 04 в ацетоне и растворимостью фоторезистов в ацетоне.Решений, характеризующихся признаками, сходными с признаками, отличающими заявляемое решение от протбтипа, не обнаружено, поэтому можно сделать вывод о новизне и существенности отличий заяв- "0 ляемого решения.П р и м е р 1. На кремниевых пластинах.покрытых пленкой алюминия толщиной 1 мкм, формировали ФРМ иэ фоторезиста...