H05H 1/00 — Получение плазмы; управление плазмой

Номер патента: 1407384

Опубликовано: 15.10.1993

Авторы: Ляшенко, Скворцов, Церевитинов

МПК: H05H 1/00

Метки: импульсной, металлических, плазмой

...Электроды 1запитываются от импульсного источникаэнергии, например конденсаторной батареи.Обработка металлических деталей производится следующим образом.Через сквозное отверстие 3 с помощьюзакимных элементов обрабатываемую деталь 4 помещают в полость изолятора 2,Откачку воздуха прекращают и через отверстие 5 напускают рабочий газ, напримерводород, азот, гелий, Производят зарядку Формула изобретения Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой, заключающийся в размещение детали в полости изоляционного цилиндрического корпуса, в торцах которого установлены электроды, вакуумировании объема полости с последующим напуском газа и подачей напряжения на электроды, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что,источника питания электродов...

Номер патента: 893113

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Багин, Гусева, Киселев, Меркулов

МПК: H05H 1/00

Метки: газонаполненный, разрядник, управляемый

...разЦель изобретения - повышение ста. происходит направленная диффузия эарябильности срабатывания в широком диапа-. 20 женных частиц из этого разряда через казане управляющих напряжений и навки б в основной промежуток и в уменьшение времени запаздывания срвба- промежуток катод 5 - управляющий электрод 2, Диффузия заряженных частиц и излуПоставленная цель достигается тем, что чение разряда способствует накоплени в управляемом газонаполненном раэрядни зарядов в промежутке катод 5 - управляюке,содержащеманод,катодиуправляющий щий электрод 2, которые снижают время злектродмеждуними,вводкоторогоразме- запаздывания зажигания и необходимую щен внутри диэлектрической втулки катода, величину управляющего напряжения.а между управляющим электродом...

Номер патента: 713506

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Багин, Киселев, Меркулов

МПК: H05H 1/00

Метки: газонаполненный, разрядник, управляемый

...в отверстии катода,Недостатком этого разрядника является сравнительно невысокое напряжение самопробоя иэ-эа влияния цепи управленияразрядника на распределение электрического поля между его электродами, что ограничивает диапазон рабочих напряжений,Цель изобретения - расширение диапаэона рабочих напряжений. Указанная цель достигается тем. что между управляющим электродом и его выводом выполнен зазор.Управляемый гаэонаполненный разрядник изображен на чертеже.Он содержит анод 1, катод 2 с центральным отверстием, управляющий электрод 3, вывод 4 которого отделен от катода изоляционной втулкой , Между управляющим электродом и его выводом выполнен зазор 6.Разрядник работает следующим образом. Между анодом 1 и катодом 2 прикладывается...

Номер патента: 1519516

Опубликовано: 15.02.1994

Авторы: Волокитин, Истомин, Шишковский

МПК: H05H 1/00, H05H 1/24

Метки: генератор, дуговой, плазменный

ПЛАЗМЕННЫЙ ДУГОВОЙ ГЕНЕРАТОР, содержащий катод и анод, выполненный в виде двух электрически связанных водоохлаждаемых вращающихся электродов, расположенных друг от друга на расстоянии, не превышающем диаметра дугового шнура, отличающийся тем, что, с целью повышения устойчивости разряда за счет дополнительной стабилизации прианодной области разряда, анод дополнительно содержит третий электрод, при этом электроды выполнены в виде дисков, оси вращения которых расположены в плоскости, перпендикулярной дуговому шнуру, под углом 60o друг к другу с возможностью их вращения в противоположном от катода направлении в области дугового шнура.

Номер патента: 1531830

Опубликовано: 30.03.1994

Авторы: Карпов, Саксаганский, Турченко

МПК: H05H 1/00

Метки: зоной, испарения, испаритель, магнитным, управлением, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ С МАГНИТНЫМ УПРАВЛЕНИЕМ ЗОНОЙ ИСПАРЕНИЯ , содеpжащий полый цилиндpический катод с pасположенной внутpи с возможностью вpащения магнитной системой, снабженной цилиндpическими полюсными наконечниками со скошенными основаниями, обpазующими межполюсный щелевой зазоp, и поджигающее устpойство, закpепленное на тоpце катода, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности и стабильности поджига дуги, полюсный наконечник, установленный в зоне pасположения поджигающего устpойства, имеет pяд находящихся в области тоpца катода pавномеpно pазмещенных по окpужности сквозных отвеpстий, суммаpная длина I котоpых удовлетвоpяет соотношению < l <

Номер патента: 1402230

Опубликовано: 15.04.1994

Автор: Четвериков

МПК: H05H 1/00

Метки: времени, газоразрядной, концентрации, плазме, релаксации, электронов

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ВРЕМЕНИ РЕЛАКСАЦИИ КОНЦЕНТРАЦИИ ЭЛЕКТРОНОВ В ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЕ, включающий модуляцию тока разряда гармоническим сигналом, измерение глубины модуляции тока и последующее определение времени релаксации, отличающийся тем, что, с целью упрощения способа и повышения его точности, дополнительно измеряют глубину модуляции падения напряжения на положительном столбе разряда, измеряют разность фаз между переменными составляющими падения напряжения и тока разряда, определяют значение частоты , при котором сдвиг фаз между переменными составляющими тока и напряжения равен / 2, и находят время...

Номер патента: 1702856

Опубликовано: 30.04.1994

Авторы: Агафонов, Владимиров, Курина, Марков

МПК: H05H 1/00

Метки: ионосферной, модификации, параметров, плазмы

1. СПОСОБ МОДИФИКАЦИИ ПАРАМЕТРОВ ИОНОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ, включающий формирование искусственного плазменного образования высокочастотным разрядом в поле бортового высокочастотного источника, отличающийся тем, что, с целью увеличения размеров области модификации, глубины и скорости модуляции параметров плазмы за счет увеличения энерговклада в искусственное плазменное образование, одновременно с высокочастотным разрядом формируют расходящиеся акустические ударные волны путем создания в области высокочастотного разряда серии взрывов при выполнении условий:Ri > Rвзр > dо, (1)II

Номер патента: 1258301

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Горелик, Трофимов, Чутко

МПК: H05H 1/00

Метки: зависимостей, ионного, параметров, распыления, угловых

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ УГЛОВЫХ ЗАВИСИМОСТЕЙ ПАРАМЕТРОВ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ, содержащее источник потока ионов и мишень, отличающееся тем, что, с целью повышения точности и скорости измерений, мишень выполнена в виде многогранника, одна грань которого расположена перпендикулярно потоку ионов, а другие грани, имеющие по крайней мере одну общую точку с упомянутой гранью, расположены по отношению к ней так, что внешние нормали к ним образуют с внешней нормалью к упомянутой грани углы в диапазоне 0 - 90o.

Номер патента: 1061686

Опубликовано: 30.06.1994

Авторы: Григоров, Перекатов, Селифанов, Точицкий

МПК: H05H 1/00

Метки: генерации, плазмы, потока

1. СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКА ПЛАЗМЫ, включающий подачу напряжения на разрядные электроды, n из которых являются эродирующими, и инициацию на них импульсных дуговых разрядов, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности генерации, после инициации разряда на первом эродирующем электроде подачу напряжения на остальные n - 1 эродирующие электроды производят последовательно с задержкой для каждого k-ого электрода в интервале времени 0,5tn-1 - 0,9tk-1, где tk-1 - длительность импульсного дугового разряда на (k - 1)-ом электроде.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что после инициирования разряда на последнем из n эродирующих электродов подачу напряжения на первый эродирующий электрод осуществляют с...

Номер патента: 1676433

Опубликовано: 15.07.1994

Авторы: Леонов, Лобанов

МПК: H05H 1/00

Метки: плазменный, экспандер

1. ПЛАЗМЕННЫЙ ЭКСПАНДЕР, содержащий камеру, диафрагму, размещенную со стороны входа плазмы, и по крайней мере, два изолированных электрода в виде сеток, расположенных перпендикулярно оси симметрии камеры, отличающийся тем, что, с целью улучшения однородности и стабильности эмиссионной поверхности экспандера, каждый электрод соединен с корпусом камеры через сопротивления Ri, где i - порядковый номер электрода со стороны диафрагмы, при этом каждый электрод соединен с близлежащими электродами через последовательно подключенные сопротивления и емкости Ci, причем значения величин Ri ,

Номер патента: 1699336

Опубликовано: 15.07.1994

Авторы: Косов, Молотков, Нефедов

МПК: H05H 1/00

Метки: движущейся, низкотемпературной, плазмы, электропроводности

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ ДВИЖУЩЕЙСЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ, включающий подачу электрического напряжения на помещенные в плазму электроды, измерение сопротивления плазмы Mмэ, находящейся между электродами при различных межэлектродных расстояниях и определение электропроводности плазмы по разности полученных значений сопротивлений плазмы, отличающийся тем, что, с целью повышения точности определения электропроводности, на электроды подают переменное напряжение, предварительно измеряют сопротивление плазмы в зависимости от изменяемой частоты напряжения при фиксированном межэлектродном расстоянии, при этом определяют частоты 1 и

Номер патента: 963441

Опубликовано: 30.07.1994

Авторы: Иванов, Неймарк

МПК: H05H 1/00

Метки: газовый, ионов, нейтрализатор

1. ГАЗОВЫЙ НЕЙТРАЛИЗАТОР ИОНОВ по авт. св. N 544303, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности за счет уменьшения углового рассеяния молекул газа, между ресивером и капиллярным ситом установлен нагреватель газа.2. Газовый нейтрализатор ионов по п.1, отличающийся тем, что нагреватель выполнен в виде сетки, продольные волокна которой выполнены из вольфрама, а поперечные - из кварца, при этом размер ячейки сетки не превышает среднюю длину свободного пробега молекул газа.

Номер патента: 1250159

Опубликовано: 15.08.1994

Автор: Горовой

МПК: H05H 1/00

Метки: плазмохимический, реактор

ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР, содержащий соосно расположенные плазматрон и реакционную камеру с форсункой для ввода реагентов, установленную под выходным соплом плазмотрона, и с патрубком вывода продуктов реакции, отличающийся тем, что, с целью повышения стабильности работы реактора за счет исключения образования наростов, форсунка установлена внутри реакционной камеры соосно с ней, причем выходное сопло форсунки направлено в ту же сторону, что и выходное сопло плазмотрона.

Номер патента: 1635886

Опубликовано: 15.12.1994

Авторы: Варисов, Джанибекова, Нагайбеков, Хорошхин

МПК: H05H 1/00

Метки: дугового, параметров, разряда

...рабочей поверхности одноименно заряженного с ним электрода.Так, при токах разряда 2,0 кА - 6,0 кА сопротивление исследуемого электрода было от 2,1 10 Ом до 71,0 10 Ом, а в цепи одноименно заряженного с ним электрода от 1,0 10 Ом до 3,0 10 Ом. Увеличивая напряжение источника питания до 1400 В, увеличивают ток разряда до 4,5 кА, При этом начинается формирование анодного пятна и на электроде, одноименно заряженным с исследуемым электродом. Подавая сигнал с исследуемого электрода на один из каналов двухлучевого запоминающего осциллографа, регистрируют максимальное значение величины тока в цепи первого из указанных электродов, которая равнац=1,5 кА. Площадь поверхности исследуемого электрода 3=0,5 10 см . Отсюда плотность тока в анодном...

Номер патента: 812149

Опубликовано: 20.02.1995

Авторы: Васильев, Орлов, Шестаков

МПК: H05H 1/00

Метки: высоковольтное, газоразрядное

1. ВЫСОКОВОЛЬТНОЕ ГАЗОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО, содержащее корпус, внутри которого расположена опорная стойка с окнами и элементами крепления системы электродов, проходящими через окна, отличающееся тем, что, с целью повышения эффективности проведения электрохимических процессов и долговечности устройства, внутри опорной стойки по ее оси расположен держатель, верхний конец которого укреплен на изоляторе, а нижний укреплен с помощью штанг на изоляторах, установленных внутри полых камер, полости которых связаны с полостью опорной стойки, на держателе размещены элементы крепления системы электродов, в местах прохода элементов крепления через окна опорной стойки установлены коронирующие электроды, а низковольтные электроды выполнены проницаемыми...

Номер патента: 1237055

Опубликовано: 27.02.1995

Автор: Коренев

МПК: H05H 1/00

Метки: диод, изоляцией, магнитной, плазменный

ПЛАЗМЕННЫЙ ДИОД С МАГНИТНОЙ ИЗОЛЯЦИЕЙ, содержащий коаксиально расположенные анод, катод с магнитодиэлектрической прокладкой, разделенные высоковольтным изолятором, и соленоид, установленный коаксиально электродам, отличающийся тем, что, с целью увеличения тока пучка электронов, в него введены два кольцевых электрода, установленных с двух сторон на магнитодиэлектрической прокладке, при этом один из электродов выполнен из углеродноволокнистого материала и соединен с торцом катода, а толщина h и диэлектрическая проницаемость магнитодиэлектрической прокладки связаны с радиусом катода R0 и радиусом анода Rr соотношением

Номер патента: 1820827

Опубликовано: 27.03.1995

Авторы: Комов, Лисицын

МПК: H05H 1/00

Метки: генерируемой, концентрации, плазме, приборах, пучково-плазменных, электронов

...плазмы в доливольта ток ионов с боковой поверхности уравновешивает ток плазменных электронов через торцевую поверхность на коллектор и дальнейший рост потенциала плазмы 25 прекращается. Малый потенциал плазмынезначительно изменяет скорость продольного ухода электронов, Таким образом, происходит трехмерный разлет плазменных компонент с разделением зарядов, З 0 Плазменные электроны, проходящие наколлектор увеличивают сигнал на коллекторе от пучковых электронов. Сравнивая сигнал от плазменных электронов с сигналом от пучковых электронов, концентрация по З 5 которых известна, можно определить концентрацию электронов плазмы пе.Если на коллектор подан отрицательный потенциал О относительно замедляющей структуры, то часть плазменных 40...

Номер патента: 1268080

Опубликовано: 19.06.1995

Авторы: Гаранин, Данов, Долин, Корчагин, Ларцев, Москвичев, Мохов, Павловский, Чернышев, Якубов

МПК: H05H 1/00

Метки: высокотемпературной, плазмы

1. Способ получения высокотемпературной плазмы, включающий осуществление в плазменной камере ионизации газа, ускорение полученной плазмы азимутальным магнитным полем и последующие нагрев и торможение ее в ударной волне, отличающийся тем, что, с целью увеличения температуры плазмы и уменьшения размеров плазменной камеры при заданной мощности источника электромагнитной энергии посредством увеличения скорости плазмы относительно фронта ударной волны при одновременном уменьшении скорости плазмы в основном объекте плазменной камеры, перед ионизацией газа в объеме камеры, содержащей газ, создают начальное азимутальное магнитное поле, а ускорение полученной после ионизации газа плазмы производят до скорости, превышающей альфвеновскую скорость...

Номер патента: 1139307

Опубликовано: 27.06.1995

Автор: Коренев

МПК: H01J 1/30, H05H 1/00

Метки: вакуумный, высоковольтный, диод

ВЫСОКОВОЛЬТНЫЙ ВАКУУМНЫЙ ДИОД, содержащий герметичную металлическую камеру цилиндрической формы с осесимметрично размещенными в ней анодом, катодом и кольцевым поджигающим электродом, закрепленным коаксиально относительно катода на вставке, выполненной в виде полого цилиндра, посаженного на катод, отличающийся тем, что, с целью увеличения длительности импульса тока пучка электронов, вставка выполнена из ферромагнитного материала, а размеры камеры катода и вставки выбраны из выражениягде Uд напряжение на диоде, В;R1 радиус катода, см;h радиальный размер вставки, см;R0 внутренний радиус камеры, см;

Номер патента: 1461361

Опубликовано: 09.07.1995

Авторы: Каргин, Павловский, Пикар, Попков, Ряслов

МПК: H05H 1/00

Метки: импульсная, камера, разрядная

ИМПУЛЬСНАЯ РАЗРЯДНАЯ КАМЕРА, содержащая два электрода, между которыми размещены изолятор с отверстием по его оси, и источник питания, подключенный к электродам, отличающаяся тем, что, с целью увеличения плотности потока энергии и повышения КПД передачи энергии в разряд путем уменьшения джоулевых потерь, каждый электрод снабжен соосной отверстию цилиндрической диэлектрической вставкой с напыленным на диэлектрик слоем металла, обращенным к изолятору, а радиус R вставки определяется соотношениемгде I рабочий ток источника питания;Hс критическая напряженность магнитного поля для металла;S0 толщина скин-слоя линейной диффузии.

Номер патента: 1816414

Опубликовано: 20.07.1995

Авторы: Ванин, Каспаров, Мохов, Нефедов

МПК: H05H 1/00

Метки: неоднородностей, плазме, создания, токовых

1. СПОСОБ СОЗДАНИЯ ТОКОВЫХ НЕОДНОРОДНОСТЕЙ В ПЛАЗМЕ, включающий создание плазмы между электродами, к которым приложена разность потенциалов и формирование токовых неоднородностей, отличающийся тем, что, с целью получения токовых неоднородностей в низкотемпературной плазме продуктов сгорания при атмосферном давлении, в плазму в области создания неоднородности фокусируют лазерное излучение с длиной волны, равной длине волны оптического перехода одного из компонентов плазмы, причем мощность P и длительность импульса tл лазерного излучения выбирают из условий:где S сечение лазерного пучка в точке фокусировки;

Номер патента: 1639399

Опубликовано: 25.07.1995

Авторы: Модзолевский, Смолик

МПК: H05H 1/00

Метки: излучения, нейтронного, плазменное

ПЛАЗМЕННОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ НЕЙТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ, содержащее кольцевой электрод, соосно и симметрично относительно которого расположены два торцовых электрода, токоподводы, изоляторы электродов и токоподводов и систему подачи рабочей дейтерий-тритиевой смеси в межэлектродное пространство, отличающееся тем, что, с целью снижения затрат электроэнергии на сжатие и нагрев плазмы, кольцевой электрод в осевом сечении имеет форму треугольника, вершина которого образует кольцевую кромку электрода, торцовые электроды выполнены в виде конусов с вершинами, направленными к центру симметрии устройства, причем острый угол 1, при вершине кромки кольцевого электрода, направленной...

Номер патента: 1811763

Опубликовано: 20.08.1995

Авторы: Бабкин, Дубинов, Корнилов, Селемир, Челпанов

МПК: H05H 1/00

Метки: плазменный, прерыватель

ПЛАЗМЕННЫЙ ПРЕРЫВАТЕЛЬ ТОКА, содержащий коаксиально установленные электроды, образующие вакуумный межэлектронный промежуток и подключены к нагрузке, и по меньшей мере один плазменный инжектор, расположенный на внешнем электроде, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности управления временем переключения тока в нагрузку, плазменный инжектор выполнен в виде индукционного источника плазменных сгустков и импульсным напуском рабочего газа, при этом индуктор источника подключен к генератору с управляемой частотой колебаний тока.

Номер патента: 1665855

Опубликовано: 10.01.1996

Авторы: Демидов, Рудакова, Рытенков, Скребов

МПК: H05H 1/00

Метки: неравновесной, плазменной, среды

...ионизация газа в данных условиях разряда позволяет стабилизировать во времени начало импульсов напряжения и разрядного тока, осуществить пространственную однородность плазмы и хорошую воспроизводимость параметров получаемого осесимметричноьо разряда.В таблице приведены эксперименталь,НО ИЗМЕРЕННЫЕ ВЕЛИЧИЬ К 1 аксььаЛЬЬ,;)ГГ) ра)ря ьь)ГО тока (в мом,ь) ч, ь,ь., 1665855падения напряжения в газе) 1 макс и расчетные величины степени неравновесности плазмы Кп/И; для различных значений приведенного электрического поля Е/И 1.Способ осуществляют с помощью устройства, изображенного на фиг. 1, следующим образом. Разряд зажигают в трубке длиной 30 см и диаметром 3 см, заполненной спектрально чистыми инертными газами(гелий, неон, аргон,...

Номер патента: 714997

Опубликовано: 20.04.1996

Авторы: Власов, Залюбовский, Кривонос, Рожков, Сосипатров, Степанов, Фареник

МПК: B01D 59/44, H05H 1/00

Метки: изотопов, массам, находящихся, плазменном, разделения, смесей, соединений, состоянии, элементов

СПОСОБ РАЗДЕЛЕНИЯ ПО МАССАМ СМЕСЕЙ ИЗОТОПОВ, ЭЛЕМЕНТОВ И СОЕДИНЕНИЙ, НАХОДЯЩИХСЯ В ПЛАЗМЕННОМ СОСТОЯНИИ, включающий воздействие на них скрепленными электрическим и магнитным полями осесимметричной конфигурации в условиях замагниченности ионов, отличающийся тем, что, с целью снижения энергозатрат на разделение путем избирательного воздействия на выделяемый компонент смеси, напряженности электрического и магнитного полей выбирают из условиягде удельный заряд выделяемого компонента, К/кг;B магнитная индукция, Тл;E напряженность электрического поля, В/м;r радиус пространственной...

Номер патента: 1403982

Опубликовано: 27.06.1996

Автор: Чаевский

МПК: H05B 7/16, H05H 1/00

Метки: азотирования, высокочастотной, плазме, разряда, тлеющего

Устройство для азотирования в высокочастотной плазме тлеющего разряда, включающее в себя две вакуумные камеры с высоковольтными вакуумными вводами и электронагревателями, высоковольтный источник питания постоянного тока и ВЧ-генератор, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и интенсификации процесса азотирования, корпус вакуумной камеры, высоковольтный ввод и электронагреватель каждой вакуумной камеры подсоединены в схеме ВЧ-генератора так, что образуют триоды, причем корпус вакуумной камеры служит анодом, высоковольтный вакуумный ввод катодом, а электронагреватель сеткой триода.

Номер патента: 1690531

Опубликовано: 20.07.1996

Автор: Смолкин

МПК: H05H 1/00

Метки: зееман-эффекте, магнитного, напряженности, плазме, поля, поперечном

1. Способ измерения напряженности магнитного поля в плазме при поперечном Зееман-эффекте, включающий формирование поперечного потока излучения плазмы из области измерения магнитного поля, выделение потока излучения используемой спектральной линии с длиной волны 0 и полушириной разделение потоков излучения p и компонентов спектральной линии с помощью поляризаторов, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерений и временной разрешающей способности, а также...

Номер патента: 1088639

Опубликовано: 20.10.1996

Авторы: Кривонощенко, Точицкий, Тхарев

МПК: H05H 1/00

Метки: плазменный, ускоритель, эрозионный

Эрозионный плазменный ускоритель, содержащий соосно расположенные катод, анод, дополнительный полый кольцевой электрод с отверстиями для подачи плазмообразующего газа, основной источник питания, соединенный с катодом и анодом, и генератор импульсов, соединенный с катодом и дополнительным полым электродом, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности возбуждения разряда, дополнительный полый кольцевой электрод выполнен с вогнутой сферической поверхностью, обращенной к катоду с центром, совмещенным с центром торца катода, отверстия для подачи плазмообразующего газа расположены на вогнутой сферической поверхности, их оси проходят через центр сферической поверхности, размеры рядом расположенных отверстий различны, а симметричных...

Номер патента: 1560042

Опубликовано: 20.07.1997

Авторы: Скибенко, Фомин

МПК: H05H 1/00

Метки: параметров, плазмы

Способ измерения параметров плазмы, помещенной в резонатор, возбуждаемый электромагнитной волной с модулированной частотой, включающий определение плотности плазмы путем измерения сдвига резонансной кривой по шкале частот, отличающийся тем, что, с целью измерения флуктуаций плотности плазмы, период и напряжение модуляции частоты электромагнитной волны изменяют до появления отдельных пиков на резонансной кривой, регистрируют изменение формы резонансной кривой, затем измеряют отношение 1 - ширины резонансной кривой при наличии флуктуаций параметров плазмы и без плазмы, а также отношение 2 -...

Номер патента: 1533618

Опубликовано: 20.11.1997

Авторы: Базанов, Павловский

МПК: H05H 1/00

Метки: высокотемпературной, плазмы

Устройство для получения высокотемпературной плазмы, содержащее источник начального магнитного поля, источник электромагнитной энергии, осесимметричную плазменную камеру, состоящую из камеры ускорения плазмы, образованной подключенными к источнику электромагнитной энергии основными коаксиальными электродами, кольцевой зазор между которыми выполнен в форме сопла Лаваля, и камеры торможения плазмы, выполненной в виде кольцевого зазора между основными коаксиальными электродами, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности работы устройства путем устранения гальванической связи между источниками электромагнитной энергии и начального магнитного поля, устройство содержит осесимметричный дополнительный электрод, соосный основным...