Кокориш

Компаратор напряжений

Загрузка...

Номер патента: 902238

Опубликовано: 30.01.1982

Авторы: Агаханян, Кокориш, Михеев, Рогаткин, Стенин, Цеплис

МПК: H03K 5/24

Метки: компаратор, напряжений

...при этом напряжение на коллекторно-базовом переходе выходного транзистора каскада 8 близко к нулю, т.е. этот транзистор не входит в глубокое насыщение, что способствует более быстрому обратному переключению компаратора, так как не затрачивается время на рассасывание избыточных носителей заряда, накопленных в выходном транзисторе каскада. Непосредственно в момент переключения оказывается открытым лишь первый эмиттерный переход 3 90223 щения транзистора ключевого каскада заведомо большей величины, что при" водит к снижению быстродействия известнсио устройства. Снижение быст" родействия обусловливается также и значительным временем нарастания фронта сыходного сигнала.Таким образом, недостатками устройства являются малое быстродействие и...

Компаратор

Загрузка...

Номер патента: 813753

Опубликовано: 15.03.1981

Авторы: Вартинь, Кокориш, Коломбет, Михеев, Осокин, Цеплис

МПК: H03K 5/22

Метки: компаратор

...с выходной клеммой 14,анод иода 12 подключен к кол.ек.ору кастранзистора 9, дооительноденный резистор 15 соединен с эмиттерами30транзисторов 1 и 2 и базами каскадныхранзнсторов 8 и 9, которые соединены сэмиттером введенного транзистора 16, база которого соединена с коллектором транзнстора 9, а коллектор -- с шиной 12 пи И 5.Устройство работает следующим образом.Если в начальный момент протекает ток с входной клеммы 3, а с входной клеммы 4 ток равен нулю, то ток, протекающий через резисторы 10 и 11 и диод 13, втекает в трап зистор 8, а затем в транзистор 2 и резистор 6. В резисторе 7 и транзисторах 1 и 9ока нет. На выходе дио,ом 13 устанавливается уровень логическогь нуля, равный напряжению базы транзстора 8, т. е. ни один из...

Способ эпитаксиального наращивания монокристаллических слоев на неорентирующей подложке

Загрузка...

Номер патента: 538639

Опубликовано: 05.06.1977

Авторы: Бузынин, Клыков, Кокориш, Смородина, Шефталь

МПК: H01L 21/20

Метки: монокристаллических, наращивания, неорентирующей, подложке, слоев, эпитаксиального

...вдОль Баправдении1 ХОуСогдасно предложенному способукристаллическуО пдастипу кремния Ортадни1 Х 1, толщиной ЗОООт до 13.кдасса чистоты поверхнтеь. химически снимают нарушенокисляют пластину в атмосфере кипри 98 ООС и течение ЗО мин, Засят. Ба слой Окисда фОтОрезпст и прдйт экспонирование узора, ориентировдоль направлении О.ХО пластиныде проявления и задубдивания фоторпроизводят седектнвное травдениев травнтеле состава НГ:БИО,СНСоставитель В. АникииРедактор Т. Орловская Техред А, Богдан Корректор Д, Мельничэщо Заказ 174 ОО 64 Тираж 976 Подписное ЦНИИПИ,Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/8Филиал ППП фПатентф, г. Ужгород, ул, Проектная, 4 водят вакуумное...

Стекло

Загрузка...

Номер патента: 509548

Опубликовано: 05.04.1976

Авторы: Витола, Кобзарь, Кокориш, Седмале, Седмалис, Цимдинь

МПК: C03C 3/12

Метки: стекло

...1-10 содержит хими ЧЭ (вве14,2-35,6;10,2;Сы,О 0,5-3 0,5-3 0,5-5 О, 1-3 РЬО 250 0,2 С 30 9,1 ФОМоОМьо2 5 Сост ав и те л ь Г,С едмашРедактор И.Квачадзе Техред И.Карандашова Корректор Н.Аук ФПодписное Тираж 576 Заказ 519 З П 111 П 4 Ш 1 Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, П 3035, Раушская наб., 4 Филиал ППГ "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 3порошка стекла с размером зерен менее60 мк в интервале температуо 300-600 Св течение 4 час) не кристаллизуетсяоТемпература размягчения, С 280-320Температура оплавленияпорошка стекла с размеромзерен порядка 0,1 мк впленку, оС 400-450 Коэффициент линейного терми- Оческого рйсуирения (КТР) винтервале 20 уООС г а, 1 (70-85) 10Диэлектрическая...

Прямоточный испаритель для получения паро-газовых смесей

Загрузка...

Номер патента: 454284

Опубликовано: 25.12.1974

Авторы: Клыков, Кокориш

МПК: C23C 13/12

Метки: испаритель, паро-газовых, прямоточный, смесей

...испаритель.Испаритель содержит цилиндрический сосуд 1, например, из кварца, разделенный на две части перегородкой 2. Нижняя часть испарителя представляет емкость 3 для испаряемого вещества, снабженную трубкой 4 для наполнения этой смкостц испаряющимся веществом (лигатурой). Верхняя часть испарителя (камера 5 насыщения) снабжена трубками ввода б и вывода 7 газа-носителя, Йс 5 паритель с установленным в нем капилляром8 помещен в термостат 9, внутри которогоциркулирует термостатирующая жидкость.Испаритель работает следующим образом,Газ-носитель проходит через камеру 5 насы 10 щения, где захватывает пары легцрующегокомпонента с поверхности капилляра 8. Диаметр капилляра определяется в зависимостиот требуемого диапазона концентрации лигатуры...

Всггсоюзнаяfi г i т”; л “. ” rj-erif-j) j ж

Загрузка...

Номер патента: 306593

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Ечбл, Калнач, Кокориш, Кундзинь, Рижский

МПК: H05K 3/00

Метки: rj-erif-j, всггсоюзнаяfi

...рассчитанную на соответствующее число плат, затем присоединяют выводы ц проводники к контактным площадкам микросхемы на платах, каждую плату отдельно герметизируют в пластмассу, отсекают выводы от рамки и технологические перемычки от выводов и проводников, изгибают проводники между платамц таким образом, чтобы платы распалась ались одна цад другой, и скрепляют цх в однц блок, Таким образом получают конструкцию микросхемы, у которой все выводы расположены с одной стороны, благодаря чему можно устанавливать ее плоскими сторонами перпендикулярно к печатной плате и рационально использовать ее площадь, следовательно увеличить плотность монтажа аппаратуры.Кроме того, в случае необходимости можно получить дополнительные выводы, частьдиктор...

Способ получения монокристаллов германия и кремния с заданным содержанием примесей

Загрузка...

Номер патента: 107450

Опубликовано: 01.01.1957

Авторы: Кокориш, Красилов, Шефталь

МПК: C30B 25/02, C30B 29/06

Метки: германия, заданным, кремния, монокристаллов, примесей, содержанием

...еще далеко це совершенны ввиду трудностей регулировки концентрации и распределения примесей.13 этом гаправлеции описываемый спосоо полусци 5 аОцористаялических пленок германия ц крстпия является перспективным,С пинось способа за я в меется возможность гдллическую плсцспределением прибыл получен мо- слоИ германия с иостьо толнной гике чистого гернесколько десятых цокрцстд, иическиидыро иой проводло 40 ,иг ца пластаация толщиной вмиллиметра.Такие пласгиць)леция в гих индиядов типа Р Р игодцы для вила получения три Грсдтст цзобретени овле- соедисокоИФподя ил фазу те га- И, ко- водосте с следующем.Пленки германия и кремния,зующцеся в результатс восставцця волоролом цх хлорисаыхцсций зеС 1 и 51 С 1) при вьтемпературе, кристаллизуются...