Маштылев
Устройство для выделения одиночных импульсов
Номер патента: 1437981
Опубликовано: 15.11.1988
Авторы: Маштылев, Угланов
МПК: H03K 5/153
Метки: выделения, импульсов, одиночных
...одновременно формируя передний фронт положительного и отрицательного импульсов на шинах 23 и 24. Устоойство переходит в режим ожидания следующего тактового импульса низкого уровня, который через элемент 14 поступает на входы сброса тоиггеров 1 и 2, устанавливая их в нулевое состояние, и по заднему Фронту переводит триггер 5 в нулевое состояние, на шинах 23 и 24 формируется задний фронт положительного и отоицательного имз 14379 ся и дальнейшая работа устройства не зависит от момента его окончания,Если момент поступления на шину 18 единичного уровня совпадает со временем действия нулевого тактового5 импульса на шине 19 (фиг,2, фрагмент А), то нулевой тактовый уровень поступает через инвертор 16 и элемент 8 (Аиг,2,н) на вход запуска...
Формирователь одиночных импульсов
Номер патента: 1403350
Опубликовано: 15.06.1988
Автор: Маштылев
Метки: импульсов, одиночных, формирователь
...уровня, а на единичныйвход с контакта 3 через резистор 15 сигнал высокого уровня. При этом триггер 1 находится в нулевом состоянии,С инверсного выхода триггера 1 сигналвысокого уровня поступает.на первыйвход элемента 12, на второй вход которого поступает также сигнал высокого уровня с выхода элемента 11. Сиг"нал низкого уровня с выхода элемента12 через элемент 13. поступает на первый вход элемента 8, запрещая прохождение тактовых импульсов с шины18 через элемент 8, а также на нулевые входы триггеров 5 и 6, удерживаяих в нулевом состоянии, сигнал свыхода триггера б удерживает в нулевом состоянии триггер 7. Прн размыкании контакта 2 и за" мыкании контакта 3 триггер 1 устанавливается в единичное состояние. Сигнал низкого уровня с...
Устройство для нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме
Номер патента: 901357
Опубликовано: 30.01.1982
Авторы: Белан, Иващенко, Маштылев, Ткаченко, Шипилов
МПК: C23C 13/12
Метки: вакууме, многокомпонентных, нанесения, покрытий
...обеспечивает получение многокомпонентныхпокрытий, обладающих высокими эксплу".атационнымн свойствами.Формула изобретения. Устройство для нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме,содержащее соосно размещенные расходуемый катод, анод, электромагнитную катушку, источник ионизованного газа, подложкодержатель и.источник электропитанйя, о т л и ч а -ю щ е е с я тем что, с целью улучшения качества покрытий за счет снижения микрокапельной фазы в пароплазменном потоке испаряемого материала катода, источник ионизованногогаза выполнен в виде полого цилиндрического катода, а расходуемый катодвыполнен с центральным отверстием, причем полый катод размещен вобласти, прилегающей к центральномуотверстию расходуемого катода.2. Устройство по п, 1....