Описание

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного подслоя, включающего сополимер метилметакрилата и малеиновой кислоты с молекулярной массой 35000 - 40000 и с соотношением звеньев соответственно 7 : 3 и активный компонент, и желатинового подслоя, включающего желатину и о-фталевую кислоту, отличающаяся тем, что, с целью повышения адгезии основы к желатиновому эмульсионному слою, упрощения технологии ее изготовления и снижения токсичности, она в промежуточном подслое в качестве активного компонента содержит резорцин и бензиловый спирт и дополнительно натриевую соль алкил(C15 - C17)моносульфокислоты при следующем соотношении компонентов в промежуточном подслое, мас.ч.:
Сополимер метилметакрилата и малеиновой кислоты - 0,3 - 1
Резорцин - 4 - 10
Бензиловый спирт - 1,2 - 6
Натриевая соль алкил(C15 - C17)моносульфокислоты - 0,04 - 0,07

Заявка

3472148/04, 16.07.1982

Всесоюзный государственный научно-исследовательский и проектный институт химико-фотографической промышленности, Московский институт тонкой химической технологии им. М. В. Ломоносова

Перепелкин А. Н, Зыков В. И, Цыркина Г. А, Шульман И. Л, Лепилин В. Я, Киселев В. Я, Внукова В. Г

МПК / Метки

МПК: G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Опубликовано: 20.06.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-1101028-osnova-dlya-kinofotomaterialov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Основа для кинофотоматериалов</a>

Похожие патенты