C23C 14/32 — с использованием взрыва; испарением и последовательной ионизацией паров

Номер патента: 1812240

Опубликовано: 30.04.1993

Автор: Бендер

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...область вблизи изолятора. Благодаря этому устраняется эрозия изолятора и сводится к минимуму эрозия материала катода вблизи изолятора.Высокая надежность срабатывания, связанная с исчезновениел 1 опасности как очистки или растрескивания изолятора, так и закорачивания промежутка поджигающий электрод - катод, не снижается при уменьшении этого промежутка, поскольку чем ближе возникшее катодное пятно к ферромагнитному электроду, тем больше градиент магнитного поля, способствующий уводу катодного пятна от места возникновения,Это позволяет значительно уменьшить .зазор между поджигающим электродом и катодом и вследствие этого снизить напряжение поджигающего импульса с 1000 до 100-200 В. При этом упрощается блок питания поджига и уменьшаются его...

Номер патента: 1730864

Опубликовано: 07.05.1993

Авторы: Асиновский, Бронин, Полищук, Сычев, Шабашов, Ярцев

МПК: C23C 14/32

Метки: вакуумной, дуги, металлов, плазмы, помощью

...за счет изменения мощности электронноУстройство, позволяющее осущестосущест лучевого подогревателя 6. Сигнал,вить заявленный способ состоит из 15 функционально связанный с температувакуумной камеры 1, откачиваемой Рой катода, посгупает в регулятор 17чеРез вакуумпровод 2, катода, выпол" от регистратора .11,.ненного в виде тигля 3 со ед я 3 содержащего экран 8 служит для уменьшения посрабочий материал 4, анода 5 элект"да 5 элект- тупления паров катодного материала 4ронно-лучевого подогревателя 6 ка-. 2 Ол" 620 в дбласть электронно-лучевого подо"тода оптических окон 7, охранногоРанного . гревателя 6, а также для исключенияэкрана 8, оптического затвора 9 ге -о ора 9, гервозникновения электрического разрядаметичных изоляционных втулок 10...

Номер патента: 1821495

Опубликовано: 15.06.1993

Авторы: Белан, Иващенко, Кваша, Самофалов, Ткаченко

МПК: C23C 14/32

Метки: упрочняющей, электропроводящих

...то такая обработка ведет к закрепле.нию.верхних слоев в растянутом состоянии, а, следовательно, и к появлению в них напряжений сжатия, что способствует повышению усталостной прочности изделия.Величина нагрузки, обеспечивающая в поверхностном слое превышение предела текучести, позволяет дополнительно увеличить его удельный обьем относительно всего изделия, что также приводит к тому, что при сжатии нагрузки пластически деформированный поверхностный слой мешает упругоаеформированным . внутренним слоям металла вернуться в прежнее состояние и, следовательно; ведет к сохранению в них напряжений растяжений, а в поверхностном растянутом слое - напряжений сжатия,182 1.495 Составитель С. СамофаловТехред М,Моргентал Корректор С. Пекарь Редактор...

Номер патента: 1821496

Опубликовано: 15.06.1993

Авторы: Кругленко, Семенюк, Трипута, Хоменко

МПК: C23C 14/32

Метки: ионно-плазменного, травления

...соединенный с электродпротивостоящим обрабатываемомулию 5, Между сетчатым экраном 4,иродом 2 возбуждается ВЧ разскрещенных переменном электричеспостоянном магнитном полях, которляется источником химически активндикалов, распространя ющихсясетчатый экран 4.в область пространэлектроду 3 с обрабатываемым изделЗатем включают источник. ВЧ напряжсоединенный с электродом 3. В обпространства у обрабатываемого издевозбуждается ВЧ разряд - источник иускоряющихся электрическим полем о дав- Напупаров. омагк ВЧ(71) Специальное конструкторско-тгическое бюро с экспериментальнымводством Института ядерных исследАН УССР(56) Заявка Японии Ь 60-293790,кл, Н 01 1. 21/302, 1985.Ж. Зевсопбп 1, 1989, 12, Ь 5,обьемного заряда,у электрода 3 и бомрующих...

Номер патента: 1832132

Опубликовано: 07.08.1993

Авторы: Береснев, Войтов, Домченко, Лымарь, Толок, Швецов

МПК: C23C 14/32

Метки: восстановления, двигателя, лопатки, поверхности, рабочей, теплового, турбины

...В течение 2,5 ч. Затем произВОдят напуск ВОздуха В кам 1 зру выемку лопаток и Определя 1 от н Оивес лопа Гки, ПО 1 ривесу судят О тол 1 цине нанесе 1";нОГО покрытия.Термообработку(отжиг) лопагки производят в вэкуме с остаточным давлением не выше 1 10 Па г 1 ри гемг 1 ервтуре 1050 С за время нагрева 2,5,3,5 ч и Время Выдержки 3.4 ч. По Окончании термообработ 1(и производятт окончатег 1 ьнь 11 л ко 11 троль вневнего вида лопатки по зталону,П р и м е р. Р "1 бочуО 11 опатку авиационНОГО ДВИГатЕЛя С ПОКрцТИЕМ СИСтеИЬ й 1-СГА 1-У, наработавшу 1 о в Г 1 ро 11 зссе эксплуатации 400 ч и имеющую тол 111 лну покр 1:1 тия 30 мкм. Г 1 Оме 1 ца 1 от В Вакуумную камепу уГтаовкц п 11 я ВГс( тановце 11 ид 1 рабочеи по 1 ерхнос 1 и лопаток турбины,...

Номер патента: 1834912

Опубликовано: 15.08.1993

Авторы: Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, покрытий

...высоковакуумнай системы откачки (на фиг. 1 не показана) до давления 1 10 Па, а затем в вакуумную камеру 1 установки с помощью натекателя (на фиг. 1 не покэзан) производится напуск рабочего газа (аргон, смесь аргона с каким-либо реакционным газом) до давления 10 - 10 Па, С помощью системы.1возбуждения разряда(на фиг, 1 не показана) между катодом 2 и анодом 6 возбуждается двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд (ДВДР). ДВДР состоит иэ двух разнородных в физическом отношении частей. Эти части разряда сформированы перегородкой 3. Область 8 ДВДР, лежащая между катодом 2 и перегородкой 3, заполнена металлогазовой плазмой. Ионы металла генерируются катодным пятном вакуумно-дугового разряда, ионы газа образуются в результате перезарядки ионов...

Номер патента: 1836488

Опубликовано: 23.08.1993

Авторы: Петер, Рольф, Рюдигер, Томас, Хорст

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, многослойных, нанесения, покрытий, смешанных, электродуговой

...испаритель. На фиг.1 показана компактная конструкция испарительного тигля 1 без футеровки и тигля 2 с графитовым вкладышем 3. Тигли 1 и 2 изолированы керамическим изолятором 4 друг от друга и установлены вместе в виде блока, К этому анодному узлу относится общая магнитная система, состоящая из катушки 5 и двух боковых магнитных пластин 6, создающих продольное магнитное поле над обоими тиглями 1, 2. Сбоку и конструктивно отдельно от анодного узла размещен полый катод 7, При поджигании известным образом дугового разряда поток электронов попадает в область воздействия магнитного поля и отклоняется им к тиглю 1 и/или 2. Другим средством направления и отклонения потока электронов служит общая маска 8, изолированно размещенная над...

Номер патента: 2001159

Опубликовано: 15.10.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32, C23C 8/00

Метки: вакууме, металлических, нанесения, покрытий, электродугового

...также к входу б операционного усилителя 7, являющегося электроннымсредством сравнения электрических сигналов. Второй вход 8 операционного усилителя 7 подключен к программирующемусредству 9, Выход 10 операционного усилителя 7 подключен к управляемым средстоам 5включения в виде управляемых ключей 11 и12, находящихся в цепях токоподводов кконцам катода 1. Отрицательный полюс источника электропитания 5 подключен к катоду 1, Электропитание устройства 10осуществляется от источника постоянноготока 13, положительный полюс которого соединен с вакуумной камерой, а отрицательный с общей точкой ключей 11 и 12. Начертеже показаны также катодное пятно 14 15итенерируемый им поток 15 металлическойплазмы в оиде расходящегося конуса,Работа предлагаемого...

Номер патента: 2001970

Опубликовано: 30.10.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32

Метки: испарения, металлов, электродугового

...2 " пОР/Дкодьи н 01 ВР 31 Р/эе)/Е 131 лэ,цсд которым 3 аход;ТГ л катодное пятно дллэв и" " 11 1 вЕаг э/созтг Е) сСО; 1 3сИ/ .3 Э лсц: О,333,1/С:НвборвД 31,ЕЕ)Тс 31 КОВ В СН) И ВТОРОЙ //1113 СН 1 И,г . 3.е/111 ина ед,ясгс,О 3 е/о 3 Г)гсцлВ 3 Е 1 с.)КЕ;ток в втвлх цсццки,ИЭ /Ырзже 111(11 И Е,1 С Дс/Г.,ц 1 Оувр/ г+ 1/21;31- Оу 3)" / ГИ 2/2 е 1;1)Гдес; Осар 11 Оувр 2 - уГ 1 раВляО 31,с а;)/же 55 нил сточника угравллющсго 1 э;р:,).с:,цо Первой и норой диен озлам кат,: ) в соо- НЕ С.ТНСНО.Иэ ныраженил ") следует, ч)о 1 в О ,е 131 е катодного тя 13 а на катод; Одноэна н ООцрсделлетсл величинами уре)в 3,;ю 131 ллпрлжеций, задаваемых с помощью источников управляющих напряжений по первой и второй диагонали катода,Поскольку резисторы находятся вне...

Номер патента: 2001971

Опубликовано: 30.10.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32

Метки: испарения, металлов, электродугового

...протяженные изделия 3 установленные между катодом 1 и внутренними стенками вакуумной камеры 2. Катод имеет на концах токоподводы 4 и 5. В цепи токоподводов 4 и 5 установлены ключи 6 и 7 со средствами 8 и 9 их управления соответственно. Электропитание устройства осуществляется от источника 10 питания. К токоподоодам 4 и 5 к катоду 1 подключен вход преобразователя 11 напряжения, состоящего из операционного усилителя 12, резистора 13 нагрузки и источника 14 напряжения, Выход последнего соединен с2001971 40 45 что, с целью повышения удобства в эксплуатации при получении на изделиях покрытий задаой толщины, блок управления положением катодного пятна вьполнен в виде узла сравнения и соединенных с соответствующими его входами преобразооэ-, и...

Номер патента: 2001972

Опубликовано: 30.10.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32

Метки: испарения, методом, нанесения, покрытий, упрочняющих, электродугового

...и изделием 4.Установка, изображенная на фиг,1 работает следующим образом.Камера 1 откачивается системой высоковакуумной откачки и в нее производится напуск рабочего газа (например, аргона) до давления 8 10 Па, При включении источников 5 и 7 питания между катодом 2 и электродом б возбуждается двухступенчатый ва куумно-дуговой разряд. Двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд характеризуется наличием двух различных в физическом отношении областей; области 11, заполненной металлогазовой плазмой, и области 12 заполненной чисто газовой плазмой. Эти области заполняют щелевой зазор между изделием 4 и электродами 8, Область металлогазовой плазмы ограничена пределами прямой видимости со стороны расположения электрода б поверхности напряжения...

Номер патента: 2002853

Опубликовано: 15.11.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

...расположен прямоугольный катод 2, состоящий изполос 3-9, соединенных общим основанием. На концах полос со стороны катода, противоположной его поверхности испарения,установлены индивидуальные токоподводы10-16. Каждый токоподвод подсоединен к5 соответствующему ключу 17-23, через который соединен с отрицательным полюсом источника 24 электропитания. Надповерхностью испарения катода 2 вдольконцов полос 3,-9 установлен датчик .2510 крайнего положения катодного пятна в видепротяженного злектропроводного элемента; который является общим для всех полоскатода 2. Вывод датчика 25 выведен наружувакуумной камеры 1 и подсоединен к элект 15 ронному блоку 26 управления переключением ключей по заданной программе,Изолированный кран 27...

Номер патента: 2003736

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/32

Метки: испарения, металлов, нанесения, покрытий, электродугового

...пятна, в заявляемом устройстве каждому положению катодного пятна на ка тоде соответствует два различных значенияна концах катода, который помимо своей основной функции - катода выполняет функцию датчика текущего положения катодного пятна. Эти два значения напряжения, численно равные Ох и О-Ох, зависят от того, хОС 3736какой в данный момент включен кл 1 оч в цепях токоподводов к катоду.Ох ф 1 ргх (О-О) = рЯ г)где Ох- напряжение на участке катода между кдтодным пятном и концом катода;О - максимальное напряжение, снимаемое с датчика-катода;1 - ток разряда;В - полное сопротивление катода;гх - сопротивление на участке катодамежду катодным пятном и концом катода. На чертеже изображена схема электродугового.испарителя; а также блока...

Номер патента: 1750270

Опубликовано: 15.05.1994

Авторы: Коржавый, Кучеренко, Цымбаревич

МПК: C23C 14/32

Метки: пленок

1. Способ получения пленок, включающий формирование электронного пучка в вакууме, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком, частичную ионизацию испаряемого материала и его осаждение на подложку, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа и его упрощения, ускоряющее напряжение выбирают большим величины второго критического потенциала.2. Устройство для получения пленок, содержащее кольцевой накаливаемый катод с металлическим экраном, тигель с мишенью из испаряемого материала и кольцевой электрод с источником питания, расположенный между тиглем и катодом соосно с последним и соединенный с положительной клеммой источника питания, отличающееся тем, что...

Номер патента: 1163656

Опубликовано: 15.07.1994

Авторы: Колесов, Сейдман

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, плазменного, пленок, реактивного

СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО РЕАКТИВНОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ, включающий напуск потоков инертного и реактивного газов при содержании реактивного газа более 10%, регулирование тока разряда путем изменения напряжения разряда и потоков газов, распыление мишени ионами из плазмы разряда с наложением магнитного поля и осаждение материала на подложку, отличающийся тем, что, с целью повышения воспроизводимости свойств пленок от процесса к процессу, при регулировании тока разряда сначала определяют экстремальные значения тока изменением напряжения, после чего устанавливают минимальное значение тока путем изменения потока реактивного газа и максимальное значение тока путем изменения потока инертного газа.

Номер патента: 1764335

Опубликовано: 15.09.1994

Авторы: Арзубов, Васильев, Насыров, Рябчиков

МПК: C23C 14/32

Метки: изделия, импульсно-периодической, ионной

1. Способ импульсно-периодической ионной обработки изделия, включающий импульсную генерацию плазмы, последующее ускорение ионов и многократное и поочередное облучение образца ускоренными ионами и нейтральными атомами и ионами, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества обработки материалов, в каждом импульсе генерации плазмы проводят напыление примесей и имплантацию, причем напыление осуществляют как в процессе имплантации, так и сразу после ее окончания, при этом длительность ускоряющего импульса у и длительность импульса генерации плазмы p выбирают в зависимости от сорта ускоренных...

Номер патента: 1552687

Опубликовано: 15.12.1994

Авторы: Аминов, Хорошхин

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, электродуговой

1. ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий расходуемый катод, анод, токоподводы катода и анода, систему возбуждения дугового разряда, источник переменного многофазного напряжения и электрические вентили, подключенные между выводом источника и токоподводом катода, отличающийся тем, что, с целью повышения ресурса и надежности испарителя в работе за счет равномерного испарения материала катода, катод снабжен дополнительными токоподводами, равномерно размещенными по его периметру, причем общее число токоподводов катода равно или кратно числу фаз источника.2. Испаритель по п. 1, отличающийся тем, что токоподводы соединены в группы, число которых равно числу фаз источника, причем токоподводы каждой группы равномерно размещены вдоль периметра...

Номер патента: 1505064

Опубликовано: 15.12.1994

Автор: Хорошхин

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ по авт. св. N 714807, отличающийся тем, что, с целью повышения качества наносимых покрытий и срока службы испарителя, он дополнительно снабжен системой подачи газа и стабилизатором давления, причем система подачи газа соединена с полостью электрода через стабилизатор давления.

Номер патента: 1269536

Опубликовано: 15.12.1994

Авторы: Абдуллаев, Хорошхин

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, металлов, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ МЕТАЛЛОВ, содержащий коаксиально расположенные анод, расходуемый катод, нейтральную вставку с изолятором и поджигающий электрод, отличающийся тем, что, с целью увеличения срока службы и повышения чистоты покрытий, нейтральная вставка и обращенные к ней части анода и расходуемого катода снабжены кольцевыми буртами, причем бурты вставки размещены в пазах между буртами анода и расходуемого катода с образованием меандрообразных зазоров.

Номер патента: 1802547

Опубликовано: 27.01.1995

Авторы: Карпов, Назиков, Пасти

МПК: C23C 14/32

Метки: источник, комбинированный, металлической, плазмы, электродуговой

...сече- р ние электромагнитной катушки совпадает с 30 в плоскостью А-А, проходящей через дно ох- к лаждаемой плоскости катода и разделяю- ,э щей катод на рабочую (испаряемую) и б нерабочую (неиспаряемую) зоны, сМинимальная величина индукции маг в нитного поля для осуществления надежно- го сти локализации катодных пятен на рабочей э поверхности катода (обеспечивающие уход х катодных пятен на боковую нерабочую по- че верхность катода не более чем на 5 мм) и для 40 л осуществления устойчивости вакуумного н дугового разряда должна составлять, как д показали эксперименты, не менее 50 Гс, ет Учитывая зто, высота испаряемой зоны ка- охл тода злектродугового источника металличе и ской плазмы выбирается такой, чтобы ве индукция магнитного поля в...

Номер патента: 1482246

Опубликовано: 09.02.1995

Авторы: Логоватовский, Рыженко, Снесаревский, Яковлев

МПК: C23C 14/32

Метки: взрывом, нанесения, покрытий, фольги, электрическим

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ ВЗРЫВОМ ФОЛЬГИ, содержащее кольцевой и центральный коаксиальные высоковольтные электроды с изолятором между ними и направляющее сопло, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества покрытия за счет повышения равномерности распределения конденсата по поверхности подложки и увеличения площади наносимого покрытия, торцы центрального электрода и изолятора загублены относительно торца кольцевого электрода на расстояние h, выбираемого из выражения 0,1R < h < (R-r), где R и r - соответственно внутренний радиус кольцевого электрода и радиус центрального электрода, а сопло выполнено в виде сопла Лаваля и снабжено установленным на его срезе цилиндрическим насадком с перфорированными стенками.

Номер патента: 1184291

Опубликовано: 25.07.1995

Авторы: Луценко, Падалка, Саблев, Ступак

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, металлических, нанесения, покрытий, электродугового

УСТРОЙСТВО ЭЛЕКТРОДУГОВОГО НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее протяженные анод и расходуемый катод, систему осевого перемещения катодного пятна вдоль рабочей поверхности катода, датчик положения катодного пятна и источник электропитания, отличающееся тем, что, с целью расширения технологических возможностей путем обеспечения программного управления областью перемещения катодного пятна дуги по рабочей поверхности расходуемого катода, датчик положения катодного пятна выполнен в виде проводника, установленного над рабочей поверхностью катода, и снабжен датчиками тока, подключенными к его выводам, а также программатором и дифференциальным усилителем, причем входные клеммы датчиков тока подключены к входам дифференциального...

Номер патента: 1473373

Опубликовано: 20.08.1995

Авторы: Андреев, Саблев, Ступак, Шелохаев

МПК: C23C 14/32

Метки: химико-термической

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ преимущественно полых изделий, содержащее вакуумную камеру с размещенными в ней катодом электродугового испарителя, анодом, оптически непрозрачным экраном, держателем изделий, источник питания вакуумного дугового разряда и источник напряжения смещения, отличающееся тем, что, с целью повышения качества обработки внутренних поверхностей изделий, оно снабжено токовым реле, один из выводов которого подключен к катоду, а другой к отрицательному полюсу источника питания дугового разряда, держатель выполнен в виде электроизолированной перегородки с отверстиями, размещенной между экраном и анодом и подклченной к источнику напряжения смещения, отрицательный полюс которого подключен к перегородке через...

Номер патента: 1163655

Опубликовано: 27.08.1995

Авторы: Бобров, Богачкин, Таран

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, плазменного, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, содержащее плазмотрон с механизмом перемещения, держатель обрабатываемых изделий, соединенный с механизмом вращения, и источник электропитания, соединенный отрицательной клеммой с держателем изделий, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности, оно снабжено полым цилиндрическим электродом, размещенным соосно с держателем изделий, и блоком коммутации, вход которого соединен с положительной клеммой источника электропитания, а независимые выходы с соплом плазмотрона и полым электродом, причем полый электрод выполнен с возможностью возвратно-поступательного перемещения.

Номер патента: 1314717

Опубликовано: 10.09.1995

Авторы: Андреев, Дворецкий, Луценко, Падалка, Саблев, Ступак

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, поверхностей, упрочнения

1. Способ упрочнения поверхностей изделий в вакууме, включающий химико-термическую обработку поверхности зажиганием несамостоятельного газового разряда в плазме реакционного газа путем инжекции электронов из автономного вакуумного дугового разряда в парах расходуемого электрода, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности, перед химико-термической обработкой осуществляют осаждение покрытия из ионизованных паров на обрабатываемую поверхность, причем осаждение покрытия и его химико-термическую обработку проводят периодически с соотношением продолжительности процессов, определяемым из выражениягде...

Номер патента: 1780455

Опубликовано: 20.12.1995

Авторы: Абрамов, Балько, Быстров, Василишин, Лисенков, Никонюк, Шубин

МПК: C23C 14/32, H01J 31/12

Метки: вакуумного, индикатора, люминесцентного, системы, электродной

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОДНОЙ СИСТЕМЫ ВАКУУМНОГО ЛЮМИНЕСЦЕНТНОГО ИНДИКАТОРА, включающий формирование в вакууме на стеклянной подложке слоя алюминия и последующую обработку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества слоя с одновременным снижением расхода материала за счет исключения из процесса операции нанесения промежуточного подслоя, напыление алюминия осуществляют непосредственно на стеклянную подложку с помощью вакуумно-дугового разряда до получения покрытия толщиной 0,5 1,5 мкм.

Номер патента: 1466260

Опубликовано: 10.01.1996

Авторы: Андреев, Григорьев, Луценко, Попов, Саблев, Ступак

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, подложек

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК В ВАКУУМЕ, содержащее подложкодержатель, электрически изолированный от рабочей камеры, электродуговой испаритель, оптически не прозрачный экран, разделяющий рабочую камеру на два отсека, в одном из которых установлен электродуговой испаритель, а в другом - подложкодержатель, и анод несамостоятельного газового разряда, источник питания электродугового испарителя и регулятор температуры подложкодержателя, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции, в качестве катода несамостоятельного газового разряда использован катод электродугового испарителя, при этом положительная клемма источника питания электродугового испарителя соединена с общим выводом двухпозиционного переключателя, управляемого...

Номер патента: 1552688

Опубликовано: 20.01.1996

Авторы: Абрамов, Быстров, Вильдгрубе, Кузнецов, Лисенков

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, включающий генерацию плазменного потока наносимого материала в вакуумной дуге, отклонение ионной компоненты плазменного потока встречным магнитным полем и конденсацию потока ионов наносимого на подложку материала, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет повышения равномерности по толщине, напряженность встречного магнитного поля изменяют путем регулирования тока катушки по линейному закону, обеспечивающего сканирование максимума плотности ионного тока по поверхности подложки.

Номер патента: 1529765

Опубликовано: 20.01.1996

Авторы: Абрамов, Быстров, Вильдгрубе, Кузнецов, Лисенков

МПК: C23C 14/32

Метки: внутреннюю, длинномерных, нанесения, поверхность, покрытий, цилиндрических

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ВНУТРЕННЮЮ ПОВЕРХНОСТЬ ДЛИННОМЕРНЫХ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ, содержащее соосно размещенные цилиндрический анод, расходуемый катод, ускоряющую катушку и основную электромагнитную катушку, установленную со стороны рабочего торца катода и включенную встречно ускоряющей катушке, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности и равномерности наносимого покрытия, оно снабжено дополнительной электромагнитной катушкой, размещенной между анодом и основной катушкой и охватывающей обрабатываемую поверхность изделия, причем дополнительная катушка включена согласно с ускоряющей и примыкает к основной.

Номер патента: 1832759

Опубликовано: 20.02.1996

Авторы: Кучеренко, Сироткин, Юрьяш

МПК: C23C 14/32, C23C 14/34

Метки: износостойких, нанесения, покрытий

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙ в вакууме из органических соединений, содержащее испарительную камеру с отверстием в виде сопла для выхода пара, подключенную к отрицательной клемме источника напряжения, подложкодержатель с подложкой, подключенные к положительной клемме источника напряжения, отличающееся тем, что, с целью повышения технологических возможностей, в подложкодержатель со стороны размещения подложки вмонтированы стержневые электроды в виде игл с радиусом заострения 17 - 23 мкм.