C23C 14/32 — с использованием взрыва; испарением и последовательной ионизацией паров

Номер патента: 1704491

Опубликовано: 10.05.2012

Авторы: Бельчин, Вершина, Изотова, Мрочек, Пителько

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, генератор, длинномерные, изделия, нанесения, плазмы, покрытий, преимущественно, электродуговой

Электродуговой генератор плазмы для нанесения покрытий в вакууме преимущественно на длинномерные изделия, содержащий коаксиально расположенные катод, анод и электромагнитную систему, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет равномерности толщины покрытий, упрощения конструкции при сохранении высокой производительности, катод выполнен в виде цилиндрической спирали с шагом l=(1,5-2,5)d, где d - диаметр трубки (прутка) спирали.

Номер патента: 1580860

Опубликовано: 27.09.2013

Авторы: Гурский, Зеленин, Конюшенко, Корж, Столетов

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, магнетронного, мишень, распыления

Мишень для магнетронного распыления в вакууме, содержащая диск из распыляемого немагнитного материала с углублениями и концентричные полюсные наконечники, расположенные в углублениях, отличающаяся тем, что, с целью повышения надежности в работе за счет уменьшения деформации мишени при ее разогреве, углубления выполнены с нераспыляемой стороны диска, а полюсные наконечники выполнены из материала, коэффициент линейного расширения которого превышает коэффициент линейного расширения материала диска, и жестко соединены с поверхностью углублений, причем их толщина составляет 0,3-0,5 толщины диска.

Номер патента: 1249965

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Григорьев, Клецков, Мрочек, Янович

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Способ нанесения покрытий в вакууме, включающий возбуждение дугового разряда между рабочими электродами в импульсном режиме с ионизацией продуктов распыления материала катода, фокусирование плазменного потока импульсным магнитным полем, возбуждаемым с задержкой во времени по отношению к моменту возбуждения разряда, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытия за счет увеличения их плотности, магнитное поле возбуждают с длительностью импульсов, не меньшей времени прохождения плазменным потоком половины длины зоны воздействия магнитного поля, но не превышающей время между импульсами разряда, при задержке импульса магнитного поля, соответствующей времени пролета плазмой...

Номер патента: 1202287

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Антоненко, Капустин, Михель, Мрочек, Пителько

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, защитных, нанесения, покрытий

Способ нанесения защитных покрытий в вакууме, включающий очистку поверхности обрабатываемого изделия и его дегазацию, нанесение подслоя и материала покрытия и оплавление материала подслоя, отличающийся тем, что, с целью повышения коррозионной стойкости изделия, оплавление материала подслоя осуществляют перед нанесением покрытия бомбардировкой ионами материала покрытия.

Номер патента: 1669211

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Великанов, Кринский, Митор, Мрочек, Никитин, Эйзнер

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, многокомпонентных, нанесения, покрытий

Способ нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме, включающий генерацию плазмы дугового разряда материалов покрытия и осаждение плазменного потока на вращающуюся подложку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет улучшения равномерности химического состава покрываемой поверхности, подложку вращают со скоростью, определяемой из выражения где V - скорость роста толщины конденсата, мкм/с;r - средний атомный радиус материалов, входящих в состав покрытия, мкм.

Номер патента: 1383842

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Антоненко, Ломец, Михель, Мрочек, Пителько

МПК: C23C 14/32

Метки: ионно-плазменного, коррозионно-стойких, нанесения, нитридосодержащих, основе, покрытий, титана

Способ ионно-плазменного нанесения коррозионно-стойких нитридосодержащих покрытий на основе титана, преимущественно на хромированные изделия из сталей, сплавов на основе меди и алюминия, включающий импульсную очистку изделий в вакууме потоком ускоренных ионов и последующее осаждение покрытия в азотсодержащей среде, отличающийся тем, что, с целью повышения коррозионной стойкости за счет предотвращения трещинообразования в слое хромового покрытия, импульсную очистку осуществляют в течение времени , определяемого из выражения где Q - плотность...

Номер патента: 1392922

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Булах, Ивашнева, Мрочек, Смирнов, Эйзнер

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Способ нанесения покрытий в вакууме, включающий возбуждение дугового разряда в парах наносимого материала, приложение к подложке отрицательного потенциала и осаждение материала покрытия, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности, осаждение материала покрытия осуществляют до толщины 1-2 мкм, после чего к подложке прикладывают положительный потенциал U, определяемый из выражения 0<U 40 В и проводят дальнейшее осаждение покрытия до требуемой толщины.

Номер патента: 1340229

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Антоненко, Мрочек, Тиманюк

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, электродуговой

1. Электродуговой испаритель, содержащий соосно расположенные расходуемый катод, охватывающий его кольцевой анод, и электромагнитную катушку, охватывающую анод, поджигающий электрод, накаливаемый экран, подложкодержатель и источник электропитания, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий, он снабжен дополнительным источником электропитания и электромагнитной системой, а накаливаемый экран выполнен из двух частей, размещенных внутри анода, одна из которых выполнена в виде спирального конуса и соединена с положительной клеммой дополнительного источника электропитания, а другая - в виде меандрообразного цилиндра и соединена с его отрицательной клеммой, причем...

Номер патента: 1697457

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Жоглик, Комлик, Мрочек, Романчук, Семенкевич

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру, в которой размещены электродуговой испаритель, подложкодержатель, держатель магнитов с профилированным немагнитным экраном, подключенным к источнику питания, отличающееся тем, что, с целью увеличения производительности и повышения качества покрытий за счет улучшения однородности плазмы и снижения капель в потоке, держатель магнитов выполнен из магнитного материала в виде полого тела, расположенного коаксиально подложкодержателю, магниты выполнены с чередующейся полярностью полюсов, экран размещен между подложкодержателем и магнитами, повторяет форму держателя магнитов и подключен к отрицательному полюсу источника...

Номер патента: 1536860

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Марков, Мрочек, Эйзнер

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, многокомпонентных, нанесения, покрытий

Способ нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме на сложнопрофильные поверхности, включающий генерацию паров материала покрытия вакуумной дугой и осаждение паров, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет однородности его состава, нанесение покрытий осуществляют в атмосфере инертного газа при давлении (1-5)·10-2 Па.

Номер патента: 1538541

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Григорович, Дорошенко, Мрочек, Ресенчук, Рулинский, Фигурин

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, металлических, нанесения, покрытий

Способ нанесения металлических покрытий в вакууме, включающий очистку подложки путем предварительного нанесения технологического слоя и последующего его удаления, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет повышения адгезии, технологический слой наносят магнетронным распылением геттерного материала толщиной 2-3 мкм при давлении (2-7)·10 -1 Па, а удаление слоя осуществляют путем нагрева до 200-800°С.

Номер патента: 1542096

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Жоглик, Комлик, Мрочек, Романчук, Семенкевич

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, покрытий

Способ получения покрытий в вакууме, включающий генерирование плазмы наносимого материала вакуумной дугой, фокусировку плазменного потока продольным аксиально-симметричным магнитным полем и конденсацию плазменного потока, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет повышения стабильности плотности плазменного потока, после фокусировки плазменного потока на него накладывают мультипольное магнитное поле напряженностью от 50 до 100 Э.