Установка для очистки внутренней поверхности трубы

(9 15 В 08 В 7/О ЕТЕНИ Е ИЗОБ ВИДЕТЕЛЬСТБ ОПИСА К АВТОРСКО ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНВЕДОМСТВО СССР(71) Институт электроники им. У.А.Арифоваи Специализированное конструкторско-технологическое бюро Института электроникиАН УЗССР(56) Авторское свидетельство СССРМ 1802437, кл. В 08 В 9/04. 1987,Изобретение относится к области для очистки внутренних поверхностей полых металлических изделий в виде труб от окалины и загрязнений, к которым предъявляют повышенные требования по чистоте поверхности, например, для нанесения в дальнейшем защитного покрытия,Целью изобретения является повышение качества очистки за счет управляемого перемещения катодными пятнами по диаметру,На чертеже изображена схема установки для очистки внутренней поверхности трубы, Установка содержит изделие в виде трубы-катода 1 (в дальнейшем труба), механизм 2 загрузки-выгрузки труб в рабочую зону механизма 3 фиксации трубы 1, к которому жестко присоединено вакуумное уплотнение 4 и подвижное вакуумное уплотнение 5, прижимаемое к трубе 1 механизмом 6. К неподвижному вакуумному уп 183 б 992 А 2 2(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ТРУБЫ(57). Изобретение относится к установкам для .очистки внутренних поверхностей полых металлических изделий в виде труб от :окалины и загрязнений и обеспечивает повышение качества очистки. В изобретении между электродом и катодом на равном расстоянии от них размещен электроизолированный цилиндрический экран.Электроизолированный экран выполнен в виде трубы со щелью и имеет привод вращения вокруг своей оси. Причем отношение ширины щели в экране к диаметру трубы О ,определяется из соотношения (0,1 - 0,2)0. 1 з.п, ф-ды, 1 ил. лотнению 4 с отверСтиями 7, расположен- С нь 1 ми по кругу меньшим, чем диаметр трубы 1, но большим, чем диаметр экрана, подведена. система 8 вакуумной откачки. Источник питания 9 подключен плюсом к а тугоплавкому электроду-аноду 10, жестко (ф закрепленному на подвижном уплотнении 5 . так, чтобы создать на его поверхности поле равного потенциала, например. с замкнутыми на источнике питания концами; Для этого в центре неподвижного вакуумного .О уплотнения 4 расположен токовый контакт М 11., соединенный с плюсом источника питания 9. Второй вывод токоподвода к электроду осуществлен со стороны подвижного вакуумного уплотнения 5. Электрод 10 выполнен в виде полого цилиндра для возможности охлаждения его например, с помощью воды. Между электродом 10 и трубой 1 находится цилиндрический электро- изолированный экран 12 со щелью, 1836992связанный с механизмом 13, вращающим его вокруг анода 10.Другой полюс источника питания (отри цательный) подключен к переключателю 14, через который потенциал передается попеременно на секции механизма 3 фиксации трубы 1. Мощность источника питания 9 регулируют изменением напряжения блока 15.Установка работает следующим образом. Очищаемую трубу 1 с помощью механизма 2 загрузки-выгрузки подают в рабочую зону механизма 3 фиксации, Прижимают подвижное вакуумное уплотнение 5 к трубе 1 с помощью механизма б прижатич, тем самым вводят анод 10 и экран 12 со щелью внутрь трубы 1 и прижимают элект-. род 10 к токовому контакту 11, расположенному в центре неподвижного вакуумного уплотнения 4, Через отверстия 7, расположенные вокруг токового контакта 11 с помощью системы вакуумной откачки, создают давление. остаточных газов в трубе, необходимое уля проведения процесса обработки (510 - 510 Па), Подают воду (на чертеже не показано) для охлаждения электрода 10, Приводят во вращение экран 12 с помощью механизма 13 вращения, Повышают мощность источника питания 9 путем увеличения напряжения блока 15 до момента появления вакуумной дуги в зазоре внутри промежутка, ограниченного щелью электроизолированного экрана 12, между катодом 1 и анодом 10, После появления дуги, с помощью переключателя 14, последовательно подключают секции механизма 3 фиксации трубы 1 к источнику питания 9.В процессе горения дуги с внутренней поверхности трубы 1 удаляются загрязнения и окислы, продукты которых эмиссируют, диссоциируют; испаряют и выводят из внутренней полости очищаемой трубы 1 через отверстия 7 в неподвижном вакуумном уплотнении 4 с помощью системы 8 вакуумной откачки.По окончании процесса, отключают источник питания 8 и механизм вращения 5 электроизолированного экрана 12.Затем прекращают откачку вакуумнойсистемы 8, напускают воздух в трубу 1 до атмосферного давления, выключают воду охлаждения анода 10, отводят е помощью "0 механизма б подвижное вакуумное уплотнение 5 вместе с анодом 10 от трубы 1. Передают трубу 1 с помощью механизма 2 загрузки-выгрузки на другую технологическую операцию. Следующую трубу подают в 15 рабочую зону секционного токоподвода ккатоду и циклически повторяют описанные операции. Качество очистки регулируют увеличением мощности питания 9. Изменением скорости переключения токоподводов 20 или изменением скорости вращения электроизолированного экрана со щелью.Применение устройства для очисткивнутренней поверхности .изделий в виде трубы с помощью электродугового разряда 25 в вакууме позволяет удалять окалину из микротрещин и управлять процессом очистки по всеи длине трубы. Формула изобретения 30 .1. Установка для очистки внутренней поверхности трубы, по авт,св, 1 Ф 1802437, о тл и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью порышения качества очистки за счет управляемого перемещения катодными пятнамипо пери метру трубы - катоду, она снабжена установленным между анодом и катодом на равном расстоянии от них электроизолированным экраном, выполненным в виде трубы со щелью и имеющим привод его 40 вращения вокруг оси.2; Установка по и, 1, о т л и ч а ю щ а яс я тем, что ширина щели в экране равна (0,1 - 0,2)О, где О - диаметр катода,1836992 оставитель А.Фомичевехред М.Моргентал орректор А,Мотыл р С.Кулаков Ре Подписное обретениям и открытиям при Г Раушская наб 4/5акаэ 2851 ВНИИПИ Госуд Тиражственного комитета по 113035, Москва, ЖТСС роиэводственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул,Гагарина, 101