H05H — Плазменная техника
Плазмотрон
Номер патента: 1463116
Опубликовано: 10.11.2005
Автор: Игнатьев
МПК: H05H 1/24
Метки: плазмотрон
Плазмотрон, содержащий коаксиально расположенные электроды, подсоединенные к высокочастотному источнику питания, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД путем уменьшения реактивного сопротивления цепи, вторичная обмотка высокочастотного трансформатора источника питания выполнена в виде незамкнутого с внутренней стороны тороида, к незамкнутым сторонам которого через плоские токоподводы подсоединены электроды, а первичная обмотка трансформатора намотана на тороидальный сердечник и расположена внутри объемного витка.
Источник плазмы
Номер патента: 696982
Опубликовано: 20.10.2006
Авторы: Коршаковский, Красненьков, Кубарев, Мельников, Пушкин, Соловьев, Ткачев
МПК: H05H 1/00
Источник плазмы, содержащий катод и охватывающий его цилиндрический анод, отличающийся тем, что, с целью управления плазменной струей, он содержит узел перемещения, по крайней мере одного из электродов относительно оси симметрии источника.
Источник плазмы
Номер патента: 584704
Опубликовано: 20.10.2006
Авторы: Коршаковский, Красненьков, Кубарев, Соловьев, Ткачев
МПК: H05H 1/00
Источник плазмы, содержащий соосно установленные электроды и магнитную систему, отличающийся тем, что, с целью упрощения управления отклонением струи плазмы, он снабжен узлом перемещения магнитной системы относительно оси симметрии источника.
Электромагнитная система бетатрона
Номер патента: 688090
Опубликовано: 10.01.2007
МПК: H05H 11/00, H05H 7/04
Метки: бетатрона, электромагнитная
Электромагнитная система бетатрона, содержащая электромагнит, обмотки смещения ускоренных электронов и импульсную систему возбуждения, имеющую цепи обратных коммутирующих приборов, отличающаяся тем, что, с целью снижения потерь в обмотках смещения, обмотки смещения включены в цепи обратных коммутирующих приборов системы возбуждения, причем участки из последовательно соединенных обратных коммутирующих приборов и обмоток смещения зашунтированы управляемыми вентилями.
Электромагнитная система бетатрона с импульсным питанием
Номер патента: 895272
Опубликовано: 10.01.2007
Автор: Шашов
МПК: H05H 11/00, H05H 7/04
Метки: бетатрона, импульсным, питанием, электромагнитная
Электромагнитная система бетатрона с импульсным питанием, содержащая магнитопровод и обмотки намагничивания, подключенные через основные коммутаторы к емкостному накопителю, обмотки смещения ускоренных электронов, цепи обратных коммутаторов, подключенных между выводами емкостного накопителя и обмоток намагничивания и шунтирующие управляемые вентили, отличающаяся тем, что, с целью повышения КПД при регулировании энергии ускоренных электронов, в систему введены два дополнительных управляемых коммутатора и две емкости, при этом параллельно каждому основному коммутатору включена цепь, состоящая из последовательно соединенных дополнительного управляемого коммутатора и контура, состоящего из...
Устройство для формирования импульсных магнитных полей в циклическом ускорителе заряженных частиц
Номер патента: 1114315
Опубликовано: 10.01.2007
Автор: Шашов
МПК: H05H 11/00, H05H 7/04
Метки: заряженных, импульсных, магнитных, полей, ускорителе, формирования, циклическом, частиц
Устройство для формирования импульсных магнитных полей в циклическом ускорителе заряженных частиц, содержащее магнитопровод, две обмотки возбуждения, между выводами которых включены емкостные накопители, управляемый коммутатор, анод которого присоединен к началу первой обмотки возбуждения, а катод - к концу второй, начало которой присоединено к минусу источника питания и через два последовательно соединенных диода к концу первой обмотки, индуктивный накопитель энергии, подключенный между плюсом источника питания и средней точкой упомянутых диодов, конденсатор одна обкладка которого подключена к аноду управляемого коммутатора, а другая - к первому выводу коммутирующего дросселя,...
Способ получения энергоемкой плазмы
Номер патента: 1679947
Опубликовано: 10.05.2007
Авторы: Авраменко, Бахтин, Николаева, Поскачеева, Широков
МПК: H05H 1/00
Метки: плазмы, энергоемкой
Способ получения энергоемкой плазмы, включающий зажигание импульсного электрического разряда между электродами в полузамкнутом канале с испаряющимися диэлектрическими стенками, отличающийся тем, что, с целью повышения удельного энергосодержания генерируемой неидеальной низкотемпературной плазмы, разряд зажигают в канале с полированными стенками при отношении длины канала к его диаметру, равном 3-5, с помощью электрода, расположенного у открытого конца канала, удаленного на 2-3 диаметра канала от его оси и не более чем на 2 диаметра от выходного сечения канала, при напряженности электрического поля на разрядном промежутке, равной 0,5-0,8 кВ/см, максимальной плотности тока в поперечном...
Способ получения электронного пучка в газовых средах
Номер патента: 1679906
Опубликовано: 20.08.2007
Авторы: Абдуллин, Баженов, Чесноков
МПК: H01J 37/077, H05H 1/00
Метки: газовых, пучка, средах, электронного
Способ получения электронного пучка в газовых средах, заключающийся в зажигании в промежутке между катодом и анодом, заполненном газом, объемного высоковольтного импульсного разряда, ускорении электронов в межэлектродном промежутке и извлечении электронного пучка через отверстия в аноде, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД формирования электронного пучка и его мощности за счет затягивания перехода объемного разряда в сильноточную стадию, между катодом и анодом перед разрядным импульсом создают разрежение среды, при этом время разрежения среды выбирают большим времени существования объемного разряда.
Катодный узел вакуумной электронно-плазменной плавильной печи
Номер патента: 1053723
Опубликовано: 10.11.2009
Авторы: Галкин, Кириченко, Косинов, Матрохин, Чередниченко
Метки: вакуумной, катодный, печи, плавильной, узел, электронно-плазменной
Катодный узел вакуумной электронно-плазменной плавильной печи, содержащий охлаждаемый катододержатель с токопроводами и катод, выполненный в виде полого цилиндра, внутри которого параллельно оси установлена трубка из термоэмиссионного материала, отличающийся тем, что, с целью снижения эрозии катода, указанная трубка установлена коаксиально цилиндру, а в зазоре между ними размещена тонкостенная гофрированная втулка из термоэмиссионного материала.
Вакуумная электронно-плазменная установка
Номер патента: 1178302
Опубликовано: 10.11.2009
Авторы: Галкин, Епанчинцев, Кириченко, Косинов, Чередниченко
Метки: вакуумная, электронно-плазменная
Вакуумная электронно-плазменная установка для обработки мелкодисперсных материалов, содержащая вакуумную камеру, в которой соосно и последовательно установлены катодный узел плазмотрона, выполненный в виде катододержателя с полым катодом, центральной трубки ввода обрабатываемого материала и штуцера подачи плазмообразующего газа, и анод, отличающаяся тем, что, с целью улучшения качества обрабатываемого материала, анод выполнен в виде водоохлаждаемого кольца, а установка снабжена по меньшей мере тремя дополнительными катодными узлами, расположенными под анодом и направленными рабочими торцами к оси плазмотрона.
Катодный узел вакуумного электродугового плазмотрона
Номер патента: 793330
Опубликовано: 10.11.2009
Авторы: Галкин, Косинов, Чередниченко
Метки: вакуумного, катодный, плазмотрона, узел, электродугового
Катодный узел вакуумного электродугового плазмотрона, содержащий полый цилиндрический катод, нерабочий торец которого закреплен в катододержателе, отличающийся тем, что, с целью увеличения мощности и срока службы плазмотрона, внутренняя полость катода выполнена в виде сужающегося к рабочему торцу конуса.
Способ получения цилиндрической плазменной оболочки
Номер патента: 1501899
Опубликовано: 27.06.2010
Авторы: Кабламбаев, Посконин
МПК: H05H 1/40
Метки: оболочки, плазменной, цилиндрической
Способ получения цилиндрической плазменной оболочки по авт. св. 1116968, отличающийся тем, что, с целью увеличения плотности плазмы оболочки путем увеличения уноса массы с электродов, после инициирования разряда по периферии катода зажигают вспомогательные разряды между катодом и поджигными электродами с плотностью тока, достаточной для испарения материала электродов.
Устройство для создания газоплазменной оболочки с предыонизацией
Номер патента: 1531828
Опубликовано: 27.06.2010
МПК: H05H 1/00
Метки: газоплазменной, оболочки, предыонизацией, создания
Устройство для создания газоплазменной оболочки с предыонизацией, содержащее вакуумный сильноточный диод с вакуумным объемом, клапан и сопла напуска газа, искровой разрядник, накопительную емкость и импульсный трансформатор, включенный в цепь накопительной емкости и искрового разрядника, отличающееся тем, что, с целью повышения электрической прочности и стабилизации процесса поджига, разрядник установлен вне вакуумного объема в одном из электродов вакуумного диода непосредственно перед соплами.
Плазменная горелка для напыления
Номер патента: 1371410
Опубликовано: 27.05.2012
Автор: Кадников
Метки: горелка, напыления, плазменная
Плазменная горелка для напыления, содержащая корпус, вдоль оси которого установлены катод, охватывающая его цилиндрическая камера вихреобразования с каналом для подачи плазмообразующего газа, расположенным по касательной к камере, и сопло-анод с каналом для подачи порошкового материала, выполненным со смещением относительно оси сопла-анода в сторону, противоположную расположению канала для подачи плазмообразующего газа, отличающаяся тем, что, с целью повышения коэффициента использования порошкового материала, дополнительно введен канал для подачи газа, размещенный параллельно оси канала подачи порошка.
Устройство для вакуумно-плазменного травления
Номер патента: 1373230
Опубликовано: 27.05.2012
Авторы: Готлиб, Григоров, Гурский, Зеленин
МПК: H01L 21/00, H05H 1/00
Метки: вакуумно-плазменного, травления
Устройство для вакуумно-плазменного травления, содержащее вакуумную камеру с размещенными в ней механизмом перемещения подложкодержателей и планарной системой электродов, подключенных к источнику ВЧ-мощности, систему газообеспечения, отличающееся тем, что, с целью повышения качества и производительности травления путем устранения загрязнения камеры продуктами износа трущихся частей, механизм перемещения подложкодержателей выполнен в виде магнитопровода с разноименными полюсами, охваченными электромагнитными катушками, образующими магнитную подвеску, включающую подъемные обмотки и обмотку бегущего магнитного поля, подключенные к источникам питания, а подложкодержатели и катод установлены...
Электродный узел плазматрона
Номер патента: 1090245
Опубликовано: 27.05.2012
Авторы: Вейник, Покровский, Присекин, Резванов, Соколов, Степанков, Хлибко
Метки: плазматрона, узел, электродный
1. Электродный узел плазматрона, содержащий охлаждаемый электрододержатель и закрепленный в нем нерабочим торцом стержневой электрод с центральным отверстием для подачи защитного газа, отличающийся тем, что, с целью увеличения срока службы электрода, отверстие в электроде выполнено ступенчато сужающимся в направлении рабочего торца, а в боковой стенке электрода на каждой из ступеней выполнено по меньшей мере по два одноразмерных, одинаковых по форме и эксцентричных относительно оси электрода круговых канала, соединяющих центральное отверстие с боковой поверхностью электрода, причем плоскость, в которой расположен каждый из каналов, наклонена под острым углом к оси электрода в направлении...
Электродуговой плазмотрон
Номер патента: 1066443
Опубликовано: 27.05.2012
Авторы: Вейник, Присекин, Степанков
Метки: плазмотрон, электродуговой
Электродуговой плазмотрон, содержащий корпус, внутри которого по продольной оси установлены снабженный возвратной пружиной катододержатель с закрепленным в нем большим основанием катодом переменного профиля, и сопло переменного сечения, выполненное в виде обращенного к катоду большим основанием усеченного конического участка, переходящего в цилиндрический, отличающийся тем, что, с целью продления срока его службы, в коническом участке сопла установлена графитовая вставка с равномерно расположенными по ее поверхности радиальными канавками, а катод в продольном сечении выполнен составным из сопряженных дугообразной поверхностью конического и цилиндрического участков, причем конусность...
Электродуговой плазмотрон
Номер патента: 1313327
Опубликовано: 20.06.2012
Автор: Присекин
Метки: плазмотрон, электродуговой
Электродуговой плазмотрон, содержащий соосно установленные катододержатель с катодом, выходное сопло-анод, межэлектродный изолятор, в котором выполнены продольные каналы, соединяющие патрубок подачи плазмообразующего газа с рязрядной камерой, и элемент поджига дуги, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности поджига, сопло-анод со стороны катода снабжено электропроводящим кольцевым выступом, внутренний диаметр которого равен внутреннему диаметру сопла-анода, охватывающая выступ внутренняя поверхность изолятора выполнена в виде расширяющегося к катододержателю конуса, а элемент поджига выполнен в виде кольца с радиальными канавками на торцах, установленного в зазоре между...