Кабламбаев

Номер патента: 1501899

Опубликовано: 27.06.2010

Авторы: Кабламбаев, Посконин

МПК: H05H 1/40

Метки: оболочки, плазменной, цилиндрической

Способ получения цилиндрической плазменной оболочки по авт. св. 1116968, отличающийся тем, что, с целью увеличения плотности плазмы оболочки путем увеличения уноса массы с электродов, после инициирования разряда по периферии катода зажигают вспомогательные разряды между катодом и поджигными электродами с плотностью тока, достаточной для испарения материала электродов.

Номер патента: 1116968

Опубликовано: 07.06.1986

Авторы: Бакшт, Кабламбаев, Ратахин

МПК: H05H 1/40

Метки: оболочки, плазменной, цилиндрической

...М,3 (где 1 - расстояние от форсунки до противоположного электрода,0 - диаметр оболочки вблизи форсунок) диаметрально расположенные струи сливаются и образуется не пдлая оболочка,а сплошной газовый цилиндр. По существующему спосбуневозможно получитьцилиндрические плазменные оболочкис величиной ь, меньшей 0,6-0,7. Дляфизических экспериментов, сопоставимых с теоретическим расчетом, и дляэффективного применения в технологических установках необходимы оболочки с о(0,2,Целью изобретения является уменьшение толщины цилиндрической плазменной оболочки и улучшение ее однородностиУкаэанная цель достигается тем,что в известном способе полученияцилиндрической плазменной оболочки,заключающемся в инжекции рабочегогаза в вакуумный межэлектродный...