H05H — Плазменная техника

Страница 44

Способ ориентирования монокристаллической мишени

Загрузка...

Номер патента: 1341731

Опубликовано: 30.09.1987

Авторы: Басай, Воробьев, Гриднев, Розум, Хлабутин

МПК: H05H 6/00

Метки: мишени, монокристаллической, ориентирования

...оси с шагом ьу(6 1/4 19 ир 9 гги РегистРиРовать Угловые распределения прошедших черезмишень электронов с угловым разрешением У1/2 1 р 9 , Реально этотдиапазон энергий составляет 0,515 МэВ.Толщина монокристаллической мише-.ни для этого диапазона определяетсявозможностью получения дискретногоанизотропного углового распределенияпрошедшего через мишень пучка электронов и составляет величину 0,520 мкм, Гониометрическое устройствопозволяет изменять угол наклона сТОЧНОСТЬЮ 6 Р1/4 УИрэггд . СИСТЕМарегистрации имеет угловое разрешениеживне меньше У /2 и позволяет досбр 9 ггятаточно быстро фиксировать угловыераспределения,Способ ориентирования осуществляется следующим образом,Монокристаллическую мишень, например, кремния, толщиной 2...

Способ возбуждения ускоряющего высокочастотного поля в периодической структуре линейного ускорителя ионов

Загрузка...

Номер патента: 1343569

Опубликовано: 07.10.1987

Авторы: Иванов, Онищенко

МПК: H05H 9/00

Метки: возбуждения, высокочастотного, ионов, линейного, периодической, поля, структуре, ускорителя, ускоряющего

...и резонансную высокочастотную радиальную фокусировку.Предельный ток ускоряемого пучка в данном случае определяется только его продольной устойчивостью. Ускорение ионов может быть осуществлено на +1-й пространственной гармонике. Напряженность магнитного поля, исходя из соотношения (1), при 0, Б=-1, и=1 создают такой, чтобы в 1-й секции ускорителя происходила генерация ВЧ-поля на +1-й пространственной и -1-й циклотронной гармониках, Генерация сопровождается уменьшением продольных и увеличением поперечных импульсов электронов, в результате чего во 2-ю секцию поступает пучок электронов, закрученных вокруг силовых линий магнитного поля. Во 2-й секции напряженность маг- нитнОГО пОлЯисходЯ из ( 1 )при ч)0 р Б=1, и=-1 создают такой, чтобы...

Импульсный источник нейтронов

Загрузка...

Номер патента: 865110

Опубликовано: 23.10.1987

Авторы: Беспалов, Быковский, Козловский, Цыбин, Шиканов

МПК: H05H 3/00

Метки: импульсный, источник, нейтронов

...с лазерной инейтронообразующей мишенями, лазер,расположенный вне вакуумной камерынапротив входного оптического окна,на трассе луча которого располагается лазерная мишень, источник высоковольтных ускоряющих импульсов, выходы которого подсоединены к электродам ускоряющей системы, и устройствосинхронизации лазерного и ускоряющего напряжений, включенное между лазером и.источником ускоряющих импульсов, лазерная мишень размещена накатоде ускоряющей системы, а анодвыполнен в виде цилиндрической трубки, на внутренней поверхности которой размещена сплошная нейтронообразующая мишень, имеющая форму пологоцилиндра с боковыми стенками из диэлектрика и задним торцом .из металла,при этом на переднем торце трубкиимеется диафрагма.. Сущность конструкции...

Электромагнит бетатрона

Загрузка...

Номер патента: 524478

Опубликовано: 23.10.1987

Авторы: Звонцов, Мынка, Симухин, Филимонов, Чахлов

МПК: H05H 11/00

Метки: бетатрона, электромагнит

...полюсные наконеч.ники, либо располагаться на стойкахобратного магнитопровода. В послед 45нем случае обеспечивается лучший дос-,туп к ускорительной камере. 50 55 1, 524Изобретение относится к ускорительной технике, а именно, к электромагнитам бетатрона.Известны электромагниты бетатронов Ш-образного вида со сменными полюсными наконечниками цилиндрической формы, диаметр которых соответствует наружному диаметру ускорительной камеры и определяет ширину ярма обратного магнитопровода. Сплошные полюсные наконечники известных электромагнитов затрудняют доступ к ускорительной камере и имеют большие габариты, а следовательно, и вес.Наиболее близким техническим решением к предложенному являются электро магниты бетатрона, содержащие возбуждающую...

Электромагнит бетатрона

Загрузка...

Номер патента: 291656

Опубликовано: 23.10.1987

Авторы: Ананьев, Звонцов, Чахлов

МПК: H05H 11/04

Метки: бетатрона, электромагнит

...что чембольше приращение энергии лЕ, тембольшим должно быть изменение магнитного потока л Ф , охватываемого орбитой. Увеличение 4 ф при неизменном%радиусе равновесной орбиты г требует увеличения В на орбите, Увеличение поля на орбите приводит к ещеболее сильному увеличению поля цент 25 рального сердечника, так как должнобыть выполнено бетатронное соотношение, равное, в случае азимутальносимметрического поля, 2:1. Увеличе,ние поля центрального сердечникаЗ 0 приводит к его насыщению, в резуль-.,тате нарушается бетатронное соотношение. Поэтому в существующих бетатронах поле на орбите составляет3000 - 5000 Гс35Из выражения (2) видно что наУпряжение индукции в некоторой точкеорбиты определяется не изменениемполя, существующего на орбите,...

Способ получения нейтронов

Загрузка...

Номер патента: 545227

Опубликовано: 23.10.1987

Авторы: Ананьин, Беспалов, Быковский, Козырев, Цыбин, Шиканов

МПК: G21D 3/00, H05H 1/24

Метки: нейтронов

...ионов, вытягиваемых внешним полем из плазмы, что определяется образованием при этом объемно 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 го заряда. Аналитическое выражениеэтого ограничения известно как закон,Чайлда-Ленгмюра, определяющего плотность тока насыщения при заданномнапряжении.Расчеты и измерения показывают,что возможный поток дейтонов лазерного источника ионов может существенно, не менее чем на.порядок величины,превосходить способность указанноговнешнего поля (100 кВ), вытягиватьи ускорять поток ионов,Более полное использование ионовлазерной плазмы в этом случае, а следовательно, и больший выход нейтроновможно получить лишь за счет увеличе- .ния размеров самого генератора и размеров ионной мишени. При этом неизбежно уменьшится плотность...

Способ инжекции пучка заряженных частиц в разрезной микротрон

Загрузка...

Номер патента: 1292555

Опубликовано: 30.10.1987

Автор: Туманьян

МПК: H05H 7/08

Метки: заряженных, инжекции, микротрон, пучка, разрезной, частиц

...сохранится. В этом приближении получаем траекторию у (ау./ ) (1) ( )Ч-(у, - (Я у. (")РЖ ) где Ч - полная скорость, у - у компонента начальной скорости, апредполагается не зависящим от у,= х/у. Угол поворота для частицы, влетающей в поле под углом 1/2 -дк экрану и вылетающей, описав петлю в рассеянном поле, если гд- . Посколь ку полный угол поворота вводимых час тиц обычно удобно брать Т/2, то угол д. между экраном и магнитом должен быть равен Х 1/4. Расстояние между точками влета и вылета на экране есть интеграл от (3)уу, , - -- -уу, 4)у,-(Я у /(Ф) Р Жгде- самая удаленная от экрана точка траектории и определяемая из уравнения 30Интеграл (4 ) не имеет строгого решения и поэтому его можно посчитатьтолько численно, то также его...

Способ определения температуры плазмы

Загрузка...

Номер патента: 1358113

Опубликовано: 07.12.1987

Автор: Агаронян

МПК: H05H 1/00

Метки: плазмы, температуры

...точкиЕ =(Е +тс 2) /2,о 30где ш - масса покоя электрона, г;с - скорость света, см/с,Полная ширина эмиссионной линиина половине ее интенсивности равнаде =2 оп 2(тс 2 кт )2, (1)где Те - электронная температураплазмы,а спектр излучения является "голубосмещенным" (относительно шс 2) с максимумом при(2)Из формул (1) и (2) следует соотношение для определения температурыэлектронов. Таким образом, измерениеширины аннигиляционной линии может 45дать непосредственную информацию отемпературе электронов з 23-300 кэВ, доступных для измерения ширины линии дЕ. существующими детекторами мягкого гамма-излучения,Информацию о температуре плазмы дает также измерение энергии Е соответствующей максимуму спектра аннигиляционного излученияЕ -тс...

Вакуумный эрозионный плазменный ускоритель

Загрузка...

Номер патента: 1358114

Опубликовано: 07.12.1987

Авторы: Архипов, Васильев, Завойкин, Исаков, Киселев, Лутц

МПК: H05H 1/24

Метки: вакуумный, плазменный, ускоритель, эрозионный

...экран 4, электрически 20развязанный с катодом изолятором 5,Экран 4 через изоляцию 6 соединен с.анодом 2, На аноде через изоляцию 7установлен пусковой электрод 8, который может быть выполнен в виде кольца 25или им может служить корпус (не показан) вакуумной камеры, который также монтируют через изоляцию 7 на аноде 2.Электрод 8 через источник 9 постоянного тока соединен с катодом 1,В изолятор 5 встроен патрубок 10 дляподвода газа в полость между катодом1 и экраном 4. Электрод 8 подключенк заземлению 11.ЗБУстройство работает следующим образом. ния, после чего источник питания пускового электрода отключается, Повышение надежности запуска обусловленотем, что напряжение между пусковымэлектродом ускорителя и его...

Способ фокусировки и ускорения пучка заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 1358115

Опубликовано: 07.12.1987

Автор: Масунов

МПК: H05H 9/00

Метки: заряженных, пучка, ускорения, фокусировки, частиц

...В, если,ВОй Э и дефокусируются в перпендикулярном направлении, Аналогичная картина имеет место при движении пучка вне оси периодического магнитостатического поля,Специальный выбор плоскости инжекции, который указан (в нашем случае это плоскость УЕ), позволяет получить равновесную траекторию вне оси системы, если выполнено одновременно два условия для поперечных компонент маги е нитных полей Ь = Ь х + Ь УХ оо/Ь" =/Ьп /и - /Ь"/ = -- Ье(И)а а Равновесная траектория будет остае. ваться устойчивой для частиц, инжектируемых при любой начальной фазе поля волны, когда ду Эу / 1,дх дх ). Прирост энергии на длине %0 равен Ъ 2 Ъв - (о)Р Е1 Ь 1 сояЪь 75 угде ю - частота ВЧ-поля,Рассмотрение процесса поперечной фокусировки и ускорения удобно провести...

Устройство для модуляции электронного пучка

Загрузка...

Номер патента: 1363324

Опубликовано: 30.12.1987

Авторы: Бакшаев, Блинов

МПК: H01J 23/16, H05H 7/00

Метки: модуляции, пучка, электронного

...на регулирующем электроде 5 путем изменения знака и величины напряжения, создаваемого дополнительным источником 6 напряжения, приводит к изменению величины провисания потенциала в полости 4, Это приводит к изменению положения точки поворота отраженных от виртуального катода электронов и, следовательно, времени их движения к резонатору 2 и частоты модуляции тока пучка.Инжекция электронного пучка в трубку 1 дрейфа приводит к понижению (провисанию) потенциала на оси устройства, создаваемое соленоидом 3 продольное магнитное поле препятствует выпадению электронов пучка на стенки устройстй, главным образом трубки 1 дрейфа. Провисание потенциала приводит к торможению электронов пучка. Во избежание полной остановки электронов и...

Способ создания плазмы в электромагнитной ловушке

Загрузка...

Номер патента: 1365377

Опубликовано: 07.01.1988

Автор: Саппа

МПК: H05H 1/00

Метки: ловушке, плазмы, создания, электромагнитной

...Н ) . Продольное магнитноедля предварительного воэдействия на инжектируемые электроны создается непосредственно в области расположения эмиттера электронов,На чертеже схематически изображены электромагнитная ловушка и источник электронов.В вакуумную камеру 1 из баллона 2 напускают рабочий газ. Пропускают встречно направленные токи по соленоидам 3 и 4, создающим ограничивающее объем удержания плазмы магнитное поле, а также по соосному им соленоиду 5, создающему в области расположения эмиттера 6 электронов магнитное поле Н о, противоположное по направлению и меньшее чем 1/2 величины поля соленоида 4, Вместо соленоида 5 может быть использован и постоянный магнит с такими же параметрами.Эмиттер б электронов располагается в месте, где...

Линейный резонансный ускоритель электронов

Загрузка...

Номер патента: 1365378

Опубликовано: 07.01.1988

Авторы: Вишняков, Кушнир, Ромасько, Шендерович

МПК: H05H 9/00

Метки: линейный, резонансный, ускоритель, электронов

...частоту Е, близкую к и-й гармонике частоты ускорителя Г , он возбуждает в системе электромагнитные колебания. Частицы пучка тормозятся и теряютэнергию ьГ, равную ЪЕ = еХК;(1) где Е, - энергия частиц без учета10 нагрузки пучком,Эта величина будет стабилизированапри условии, что Подставляя (3) в (4) и пользуясь (1) и (3), получают условие стаби- лизации,пассивной резонанснойсистемы;шунтовое сопротивлениеускоряющей системы,Ом/м;заряд электрона, э;при стабилизации мощности пучка на выходе ускорителя;при стабилизации плотности тока выведенногопучка;при стабилизации поверхностной плотности выведенного пучка;1 - импульсный ток пучка, А;Я - энергия частиц без учетанагрузки пучком, эВ.45 Таким образом из изложенного видно, что механизм...

Устройство для сканирования пучком заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 1263188

Опубликовано: 15.01.1988

Авторы: Камышев, Кан, Пытляк

МПК: H05H 7/04

Метки: заряженных, пучком, сканирования, частиц

...когда П , 7 О, так как напряжение смещения выбрано равным амплитуде модулирующего напряжения П м, Транзисторный ключ 2 отпирается в момент первого, следующего за Со нулевого значения модулирующего напряжения. Ток через обмотку электро магнита протекает от источника 1 через открытые транзисторные ключи 2, Э и нарастает. По мере приближения его величины к текущему опорному значению тока 1 , задаваемому с помощью задающего генератора 11 опорного напряжения, сигнал управления 11, начинает уменьшаться и в момент сравнения с модулирующим напряжением Б , ключ 2 вновь запирается, а ток магнита замыкается через шунтирующий диод 6 и открытый ключ 3, спадая по экспоненте. Синхронно с формированием следующего периода модулирующей частоты...

Устройство для определения поперечной координаты центра тяжести пучка заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 1240329

Опубликовано: 15.01.1988

Авторы: Болотин, Брук, Морозов, Тишин, Щербаков

МПК: H05H 7/00

Метки: заряженных, координаты, поперечной, пучка, тяжести, центра, частиц

...входами другого перемножающего цифроаналогового преобразователя 4,Устройство работает следующим образом.Напряжения с обеих пластин пи кап-электрода 1 детектируются линейными детекторами 2, усиливаются усилителями Э постоянного тока и посту И"Ьых= "вх.оп2 -1 где Бьпп - входное опорное напряжение;И - код на цифровых входах; и - разрядность перемножающего цифроаналогового преобразователя;У ьх - выходное напряжение.Напряжение на входах линейных детекторов, а значит и на опорных входах перемножающих цифроаналоговых преобразователей, можно представить в виде+ лБ 111.= 11 - 011 11 + ота12 111- 11юБ2 Иэ условия равенства напряжений на выходах перемножающих цифроанало лают на опорные. входы перемножающих цифроаналоговых преобразователей 4....

Устройство для создания термоядерной реакции

Загрузка...

Номер патента: 520864

Опубликовано: 07.02.1988

Автор: Малышев

МПК: H05H 1/00

Метки: реакции, создания, термоядерной

...изобретения - увеличение времени достижения температуры, требуемой для реализации управляемой реакции термоядерного синтеза, за счет повышения эффективности использования лазерного излучения.Цель достигается тем, что внутренняя стенка рабочей камеры, за исключением участков расположения окон для ввода лучей, имеет сферическую форму и выполнена из материала с высоким коэффициентом отражения оптического излучения, а оптические системы обеспечивают фокусировку излучения в центр указанной сФеры.На чертеже показано предложенное устройство для создания термоядерной реакции.Рабочая камера 1 окружена кожухом 2 с полостями 3 для нагревания теплоносителя, внутренняя стенка которого имеет форму сферы. В кожухе выполнены узкие окна 4 для...

Выпускное окно ускорителя заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 780815

Опубликовано: 07.02.1988

Авторы: Малышев, Романюк, Сусаров, Токарев, Федотов

МПК: H05H 5/02

Метки: выпускное, заряженных, окно, ускорителя, частиц

...хладагент. Однако призначительной ширине выпускного окна,достигающей нескольких десятков сантиметров, такой способ охлаждения необеспечивает идентичности тепловых"и "мехайических нагрузок на фольгупо всей площади вь 1 водимого Иучка.В связи с тем, что ячейки, образованйые элементами опорной решеткиимеют прямоугольную форму, условиятеплойередачи для отдельных элементов фольги внутри ячейкинеравнозйачны, Поэтому при нагревании фольга расширяется в различных направлениях элементарной, ячейки неодинаково, что приводит к появлению гофрна фольге, повышенных локальных тепловых нагрузок и разрушению фольги.Целью изобретения является увеличение срока службы фольги выпускно,го окна.10 Поставленная цель достигается тем,что в известном выпускном...

Ускоряющая система ускорителя заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 1374454

Опубликовано: 15.02.1988

Авторы: Кузьмин, Милованов, Пучков, Щедрин

МПК: H05H 9/00

Метки: заряженных, ускорителя, ускоряющая, частиц

...5 секции. Выходная секция 5работает в режиме бегущей волны, который обеспечивается поглощающей нагрузкой 8 на конце секции и согласованием входа секции с соответствующим плечом ТТВ. Входная секция 4 пред ставляет собой резонирующую полость,образующуюся при закорачивании секции со стороны входа пучка. Расстояние от середины диафрагмы 1 О связирезонатора до ТТВ, электрическаядлина ВЧ-тракта между трансформатором и генератором и коэффициент связи трансформатора с генератором выбраны таким образом, что при отклонении частоты генератора от номинального значения 1 - 47. выходной СВЧмощности генератора поступает обрат но в генератор в виде соответствующим образом сфазированной обратнойволны обеспечивает стабилизацию частоты генератора -...

Резонансная система для ускорителя

Загрузка...

Номер патента: 1378092

Опубликовано: 28.02.1988

Авторы: Зорина, Смирнов

МПК: H05H 9/00

Метки: резонансная, ускорителя

...к У, в котором амплитуда тока имеет:максимальное значение у закорачивающих проводящих пластин, а минимальную амплитуду - в районе середины резонатора вдоль осевой линии, Резонатор связи, представленный на фиг,10, выполнен в виде разветвленной коаксиальной линии, два ответвления, которой объединяются и к ним подключается дополнительный коаксиальный отрезок 14. Максимальные значения амплитуд токов - у закорачивающих пластин, минимальное - у нагрузочной емкости (фиг.11). Резонаторы связи, представленные на фиг.10, целесообразно устанавливать на резонаторах с фазовой протяженностью меньше единицы, т.е. на резонаторах, предназначенных для группировки заряженных.частиц, так как эти резонаторы имеют меньшие продольные размеры, чем резонаторы...

Устройство для измерения проводимости пучковой плазмы

Загрузка...

Номер патента: 1205745

Опубликовано: 28.02.1988

Авторы: Котляревский, Пак, Сметанин, Тузов, Цветков

МПК: H05H 7/10

Метки: плазмы, проводимости, пучковой

...вне его будет иметь адно и та жезначение и, соответственна концентрация плазмы, образующейся при прохождении РЭП через Газ будет метьтакже одинаковое значение внутри ивне устройства, С момента началаобразования плазмы внутри устройствамежду йольгами 2 и 3 начнет прате=кать так низказнергетич 777 ых плазменных электронов под действием раз но" типотенциаловна выводах заряженного конденсатора 7, соединенногаФольгами 2, 3, Для того., чтобы в процессе измерений величина напряжениямежду Фольгами 2, 3 была постоянной,необходимо выполнение условия БСя 1, где Кп - сопротивление плаэменного канала, С - емкость конденсатара 7; 1 о - длительность импульса ис=.следуемого процесса, Например, для славий ;=(О в О )С;Ом, та С=(О в О ;,Ф, При Фольг 2...

Мишенное устройство для ядерного анализа

Загрузка...

Номер патента: 1301295

Опубликовано: 28.02.1988

Автор: Рыжков

МПК: G01N 23/22, H05H 7/00

Метки: анализа, мишенное, ядерного

...меди и алюминия, Устройство используется для анализа распределения ядер 18 Р, образующихся поядерным реакциям 6,71,; (14 М,рхм)18 Р.Подложка была приготовлена попеременным электролитическим осаждением меди и алюминия иэ растворов натолстую (до 2 мм) медную пластинку,Средняя толщина осажденных слоев меди составляла - 0,5 мг/см , а алюминия 0,3 мг/см , так как при такомсоотношении толщин слои меди и алюминия примерно эквивалентны с точкизрения потерь энергии ядер отдачи8 Р,Тонкие мишени, содержащие исходный элемент - литий, получали осаждением хлористого лития из спиртового раствора на подложку непосредственно перед облучением, Толщина мишеней " 0,1 мг/смИоны азотабыли ускорены до энергии 12 МэВ на циклотроне. Ток ионов на подложке...

Выпускное окно ускорителя электронов

Загрузка...

Номер патента: 852148

Опубликовано: 07.03.1988

Авторы: Аброян, Сусаров, Токарев, Федотов

МПК: H05H 5/02

Метки: выпускное, окно, ускорителя, электронов

...вакуумплотно установленную на решетку, поверхности каналов выполнены наклонными.Пленка одного металла, нанесенная на поверхность другого, начиная с толщин, равных нескольким атомарным слоям, определяет его вторично-эмиссионные свойства. Пленка тяжелого металла с большим атомным номером (А 8, Бп У, РЪ), нанесенная на поверхность каналов медноопорной решетки, ведет к увеличению относительной доли наиболее быстрых неуп-,руго отраженных электронов, т.е. в спектре вторичных частиц увеличивается число частиц с энергией, близкой или равной энергии первичного пучка, пригодных для выводасквозь фольгу.в атмосферу.На фиг. 1 изображено выпускное окно ускорителя электронов; на фиг. 2 - элементы опорной решетки одного из конструктивных...

Линейный ускоритель заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 1119599

Опубликовано: 07.03.1988

Автор: Ьгозин

МПК: H05H 9/02

Метки: заряженных, линейный, ускоритель, частиц

...коэффициентов затухания для волноводов с малыми фазовыми скоростями в несколько раз (3-4) превышают эти значения для волноводов с тф =1,0, Таким образом, из-за относительно больших потерь в группирующей секции, последовательное высокочастотное питание со стороны группирователя, т,е, секции с меньшим значением Вф, приводит к неэффективному использованию мощности генератора. Небольшой уровень мощности в ускоряющей секции приводит к потере темпа ускорения, снижению энергии и КПД ускорителя.Целью изобретения является повышение КПД и темпа ускорения частиц.Поставленная цель достигается тем, что в известном линейном ускорителезаряженных частиц, содержащем высокочастотный генератор, ифазовращателей, расположенные соосно инжектор и и...

Способ юстировки тороидальной магнитной системы для удержания плазмы

Загрузка...

Номер патента: 1322872

Опубликовано: 15.03.1988

Авторы: Перелыгин, Смирнов

МПК: G21B 1/00, H05H 1/00

Метки: магнитной, плазмы, системы, тороидальной, удержания, юстировки

...1 1- с г с в . Таким22 второго чл силовой ли обусловлен дит в осно исхо- кольц а участке обр ни ь сдвие сонезадвига,12 с Ьх = -2полно г обход ермоядернуюовушкой, и и нку 2 х дл лоной линии и смещен 1В =В- - 1+ ф 4 г ггде г = - , г= - ,, 1 - безразмерные величины. В случае использования кольца, повернутого на угол Ы в плоскости (х, г) при несмещенном центре и при малых углах Ы) с с 0,1 рад), можно получить соотношенияаг аЦВ = В - о(г -- г - -Г )к о 2 а дг дг тг ф1 1 В =В 11+ - ( - " -- +) (5)1) г 31, Ь к о2 а дг дг )1 1 а для координаты х искривленной силовой линии, используя уравнения (4)= - ( .(г,) + х(г,) + (6)а1 Основной вклад в сдвиг силовой линии дает член Г,(г,); поведение силовой линиибез учета Г г )иллюстриуется кривой 1,...

Устройство для проведения плазмохимических процессов

Загрузка...

Номер патента: 957746

Опубликовано: 07.04.1988

Авторы: Гущин, Иванов, Медведев, Николаев, Сологуб

МПК: H05H 1/42

Метки: плазмохимических, проведения, процессов

...Известно также уст 15ройство для проведения плаэмохимических процессов, содержащее реакционнуюкамеру, нижний и верхний электроды,систему подачи и отвода реакционныхгазов, источник энергии. Недостаткомэтого устройства является низкая20производительность плаэмохимическихпроцессов и низкий выход годных из. делий.Цель изобретения - повьппение про 25иэводительности плазмохимнческихпроцессов и увеличение выхода годныхизделий.Цель достигается тем, что в устройстве для проведения плазмохимических процессов, содержащем реакционную камеру, нижний электрод, верхний"электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии,устройство для перемещения обрабатываемых пластин, последнее выполнено 35в виде группы вертикально расположенных...

Устройство для измерения тока заряженных частиц

Загрузка...

Номер патента: 784727

Опубликовано: 07.04.1988

Авторы: Рябчиков, Тузов

МПК: H05H 7/10

Метки: заряженных, частиц

...частиц (например цилиндром Фарадея),позволяет определить плазменный ток.Плазменный ток определяется путемсравнения величины тока электронного пучка и полного тока измеренныхразличными устройствами, Это, в своюочередь, увеличивает погрешностьизмерений, усложняет исследования иснижает их оперативность.Целью предлагаемого изобретенияявляется устранение вышеуказанныхнедостатков, те. создание устройства непосредственно измеряющегоплазменный ток, индуцированный релятивистским электронным пучком.Эта цель достигается тем, что наоснованиях полого диэлектрическогоцилиндра укреплены металлическиефольги, одна из которых заземлена,другая подключена к одному концурезистора, второй конец которого заземлен, причем полый диэлектрическийцилиндр и...

Способ определения параметров ионного компонента в электронно-ионных кольцах

Загрузка...

Номер патента: 1220556

Опубликовано: 15.04.1988

Авторы: Тютюнников, Шаляпин

МПК: H05H 7/00

Метки: ионного, кольцах, компонента, параметров, электронно-ионных

...определяется ио пространственному распределению потерянных электронон. Как показывают расчеты, радиальное рас- Япределение плотности ионов в кольце описывается формулойп (г)=1 ехр(-г (а ), (ч)а распределение плотности электроиов кольца формулой ц (г)=ыехр(-г(ае ) (5) ааг а агде аа и -Е,е а 1+агОтсюда получаютггй а ас аг -а г(6) Таким образом, зная радиальный полуразмер распределения вторичныхэлектронов ае н зная этот параметр для основного электронного кольца, находят по формуле (7) соответствующее значение а; для ионного размера. Измерение радиального профиля потерянных электронов может быть проведено с помощью сцинтиллятора 8. Из измерений частоты бетатронных колебаний электронов кольца 11 можно найти суммарный ионный заряд . по1...

Способ измерения параметров ионов в электронных кольцах коллективного ускорителя ионов

Загрузка...

Номер патента: 1163798

Опубликовано: 15.04.1988

Авторы: Тютюнников, Шаляпин

МПК: H05H 11/00

Метки: ионов, коллективного, кольцах, параметров, ускорителя, электронных

...произведения ие х и числа электронов на число ио нов, в котором измеряется выход тормозного излучения электронов, позво- ляет судить лишь о полном числе ионов в кольце и не определяет тип ионов и количество ионов данного типа. Пред О лагаемый способ позволяет измерять одновременно тип, заряд и количество. ионов в кольцеНа Фиг. 1 представлена схема измерения; на фиг.2 - схема электронного кольца.Внутри камеры 1 адгезатора ускорителя удерживается электронное кольцо 2 с ионной компонентой 3. Синхротронное излучение (СИ) 4 электронов направляется по вектору скорости, Рассеянное на ионах СИ 5 выводится через окно 6 и с помощью Оптической системы 7 направляется на спектральный прибор 8. Регистрация спектрального состава излучения...

Ускоряющая система линейного ускорителя ионов

Загрузка...

Номер патента: 656243

Опубликовано: 23.04.1988

Авторы: Мальцев, Тепляков

МПК: H05H 7/00

Метки: ионов, линейного, ускорителя, ускоряющая

...16, установлены на металлических подставках 17 внутривакуумной трубы-контейнера 18, замкнутога с торцом днищами 19 сНад ускоряющими электродами 3 и 4установлен плоский металлический экран 2 О, закрепленный на четных электродах 4 с помощью ножек 2 1 и исклюПри заданных значениях продольнойскорости и угла влета. пучка на входедрейфового промежутка и выбранномзначении продольного магнитного поляамплитуда поперечных колебаний пучкаостается постоянной вдоль длины пролетного пространства, а мгновенноепоперечное отклонение частиц пучка в10 выбранном сечении пролетного пространства при заданной глубине модуляции определяется только фазой модулирующего напряжения и изменяется вовремя по закону модулирующего напря 15 женияДве пластины заданной...

Ускоритель электронов

Загрузка...

Номер патента: 1392643

Опубликовано: 30.04.1988

Авторы: Моисеенко, Протасюк, Уваров

МПК: H05H 5/00

Метки: ускоритель, электронов

...формулойС = (с/2 Ф)Ь е30При положении "1" переключателя БА 1 устройство представляет собой известную схему модулятора с полным разрядом накопительной емкости, принцип работы которого основан на им 35 пульсном разряде формирующей линии ФЛ через тиратрон Л на нагрузку Вя после поступления на сетку тиратрона управляющего сигнала (нход ХЯ 1), 40 В случае применения данной цепи в модуляторе источника электронов ускорителя нагрузкой В является первичная обмотка импульсного повышающего трансформатора, напряжение со вторич ной обмотки которого подается на анод источника, причем из соображений согласования приведенный к первичной обмотке импеданс нагрузки модулятора должен равняться волновому сопротивлению формирующей линии.1При...