Патенты с меткой «вакуумно-плазменного»

Номер патента: 1834911

Опубликовано: 15.08.1993

Авторы: Андреев, Григорьев, Саблев

МПК: C23C 14/00

Метки: вакуумно-плазменного, нанесения, покрытий, установках

...ным траекториям, Разряд возбуждается между катодом 2 и анодом 5. На изделие для проведения процесса химико-термической обработки подают отрицательный потенциал от иСточника 10. Ионы азота ускоряются под воздействием потенциала к поверхности изделия, бомбардируют ее, очйщая поверхность и одновременно прогревая иэделие. Рри температуре иэделия свыае 400 С становится существенным процесс диффузии азота в изделие с образованием упрочнеыного поверхностного слоя. 8 процессе работы возможно образование дуговых пробоев на поверхности изделия, особенно в местах ззгрязнений на поверхности. При образовании дугового пробоя происходит скачок тока в цепи вйпрямителя 12, срабатывает токовое реле 3, отключая контактами Р 1 и Р 2 высоковольтный...

Номер патента: 1373230

Опубликовано: 27.05.2012

Авторы: Готлиб, Григоров, Гурский, Зеленин

МПК: H01L 21/00, H05H 1/00

Метки: вакуумно-плазменного, травления

Устройство для вакуумно-плазменного травления, содержащее вакуумную камеру с размещенными в ней механизмом перемещения подложкодержателей и планарной системой электродов, подключенных к источнику ВЧ-мощности, систему газообеспечения, отличающееся тем, что, с целью повышения качества и производительности травления путем устранения загрязнения камеры продуктами износа трущихся частей, механизм перемещения подложкодержателей выполнен в виде магнитопровода с разноименными полюсами, охваченными электромагнитными катушками, образующими магнитную подвеску, включающую подъемные обмотки и обмотку бегущего магнитного поля, подключенные к источникам питания, а подложкодержатели и катод установлены...

Номер патента: 1289308

Опубликовано: 27.06.2012

Авторы: Готлиб, Гурский, Дударчик, Зеленин, Паничев, Рубцевич

МПК: H01L 21/302

Метки: вакуумно-плазменного, немагнитных, пластин, травления

Устройство для вакуумно-плазменного травления пластин из немагнитных материалов, включающее планарный реактор с расположенной в нем парой электродов, соединенных с высокочастотным генератором, систему газоснабжения, вакуумную систему и систему формирования магнитного поля, выполненную в виде переменнополюсной комбинации постоянных магнитов, отличающееся тем, что, с целью локализации областей травления и увеличения скорости их травления путем повышения концентрации ионов над заданными областями пластин, система формирования магнитного поля снабжена полюсными накладками, выполненными в виде свободных масок, и установлена между парой электродов на одном из них.