Патенты с меткой «плазмотрона»
Устройство для отворота плазмотрона
Номер патента: 376646
Опубликовано: 01.01.1973
Авторы: Беленький, Давыдов, Занцев, Шилин
МПК: C22B 9/22
Метки: отворота, плазмотрона
...тело рукава.На фиг. 1 представлено предложенное устройство в разрезе; на фиг. 2 - то же, вид сверху; на фиг. 3 - узел 1 на фиг, 1; на 3 положения рукава 1 относустановлено стопор;-: ое уройство, закрепленное к ребрам 21 стойки 9. Стопорное устройство состоит из пневмоцилиндра 22, штока 23, на конце которого имеется коническая насадка 24, Насадка 24 поджимается пружиной 25, Усилие пружины 25 регулируется с помощью гайки 2 б.Устройство для отворота плазмотрона работает следующим образом.Нормально при работе, печи давление воздуха в пневмоцилиндрах 1 б и 22 отсутствует. Коническая насадка 24 находится в теле плигы 7, благодаря чему исключается возможность поворота рукава 1 относительно стойки 9.При необходимости замены вышедшего из строя...
Способ контроля режима работы плазмотрона с межэлектродной вставкой
Номер патента: 493938
Опубликовано: 30.11.1975
Автор: Галкин
МПК: H05B 7/18
Метки: вставкой, межэлектродной, плазмотрона, работы, режима
...2. Подавая сигнал на исполнительный механизм 7, можно регулиро вать положение эрозирующего электрода,Способ контроля режима работы плазмотро на с межэлектродной вставкой, например коаксиального, путем определения положения рабочего торца эрозирующего стержневого электрода, отличающийся тем, что, с целью упрощения эксплуатации, положение указан него электрода контролируют по величине напряжения между пим и межэлектродной вставкой. Изобретение относится к дуговым генераторам низкотемпературной плазмы, в частности к способу контроля режима их работы в процессе эксплуатации.Известный способ контроля работы плазмотрона с межэлектродной вставкой путем определения положения рабочего торца эрозирующего стержневого электрода сложен и...
Устройство для регулирования расстояния от плазмотрона до поверхности изделия
Номер патента: 506004
Опубликовано: 05.03.1976
Авторы: Мосехин, Панов, Рычкова, Хлапов
МПК: G05D 3/00
Метки: изделия, плазмотрона, поверхности, расстояния
...блок сравнения 10, блок формирования контурной скорости 11, дополнительный источник опорного напряжения 12.Блок программного управления 1, связанный с приводом горизонтального перемещения плазмотрона 2, управляет движением плазмотрона 3 над поверхностью изделия 13 по заданному контуру. Плазменная дуга между илазмотроном и изделием поддерживается энергией от источника питания 4. Напряжение, питающее плазматрон, сравнивается в3блоке сравнения 6 с напряжением источника опорного напряжения 5.Когда плазмотрон находится на заданном уровне относительно изделия, выходное напряжение блока сравнения равно нулю, При отклонении плазмотрона от заданного уровня на выходе блока сравнения 6 появляется напряжение ошибки, которое через сумматор 7...
Электрод многоэлектродного плазмотрона
Номер патента: 527843
Опубликовано: 05.09.1976
Авторы: Гаврюшенко, Пустогаров
МПК: H05H 1/24
Метки: многоэлектродного, плазмотрона, электрод
...температуры 10 вследствие интенсивного теплоотвода через тело электрода к охлаждаемому основанию. Это принсез дит к контрагированию дугового потока и увелйче. нию удельной эрозии электрода.Известен чногоэлектродный плазмотрон, у ко торого электрод выполнен в виде стержня из тугоплавкого металла переменного по длине сечения с участком меньшего сечения, расположенного между рабочим концом и основанием электрода 31.Недостатком этого решения является то, что 20 выбранное соотношение размеров не оптимально с точки зрения удельной эрозии электрода.С целью уменьшения эроэ и и увеличения срока службы электрода при разрядном токе не более 800 а размер. электрода определяются следующи ми соотношениями: диаметр участка м чения с= (1 3+2 410...
Элекрод плазмотрона переменного тока
Номер патента: 540417
Опубликовано: 25.12.1976
Авторы: Бортничук, Кобря, Крутянский, Малиновский
МПК: H05B 7/18
Метки: переменного, плазмотрона, элекрод
...глубина которой меньшедлины стержня.5 2. Электрод плазмотрона по п. 1, отличаю щ и й с я тем, что проточка выполнена профилированной,метр м обмает олярИзобретение относится к генераторам низкотемпературной плазмы.Известны электроды, содержащие стержень из тугоплавкого металла, например вольфрама, закрепленный в центральном отверстии медной водоохлаждаемой втулки так, что торец стержня не выступает за торец втулки.Однако у известных электродов небольшой ресурс работы при переходе на большие мощности переменного тока.С целью увеличения ресурса работы пр гаемого электрода на внутренней поверх втулки со стороны рабочего торца выпо кольцевая проточка, глубина которой м длины тугоплавкого стержня.Кроме того, проточка выполнена...
Способ запуска плазмотрона
Номер патента: 565789
Опубликовано: 25.07.1977
Авторы: Борисенко, Лоладзе, Ментешашвили, Мцхетадзе
МПК: B23K 9/06
Метки: запуска, плазмотрона
...На чертеже изображена установка для : зайед Йо оси сопла, Кроме тогопри веры ф реализации,предлагаемого способа. Ье, запальной проволоки запуск плаэмов: щОна, имвЬт высокочастотный осцнлляройа происходит не всегда, и тогда все Фор 1, корпус 2:вспомогательного газо.операпии по подготовке электрода повто- вого плаэмотрона;.сопло 3 вспомот ательряют заново., ного плазмотрон, анод 4 вспомогательногозапуска плаз- плаэмотрона, корпус 5 плаэмотрона со стамотроиа, при кото буждвют дежурбилиэапионной частью, работающей на ьодв;разрезную деталь 6, квтод 7 основного цлазмотрона, балластный резистор 8 и источник 9 питания.Для запуска плаэмотрона с йомошью высокочастотного осциллятора 1 возбуждают дежурную дугу во вспомогательном плаэмотроне,...
Устройство для регулирования режима плазмотрона постоянного тока
Номер патента: 587653
Опубликовано: 05.01.1978
Авторы: Айзенштейн, Кириченко
МПК: H05B 7/18
Метки: плазмотрона, постоянного, режима
...сумматором,включенным между корректирующим звеном и тиристорным преобразователем,и дифференцирующим звеном, выход которого подключен ко второму входусумматора, а вход - к датчику напряжения.На чегтеже дана блок-схема предла"гаемого устройства.Устройство содержит тнристорныйпреобразователь 1, подключенный черезсглаживающий реактор 2 к плазмотрону 3, датчик тока 4, выход которогочерез Формирователь сигнала рассогла587653 Составитель ОТехпедА Ллаа в в в т ей в ВТираж 991венного комитета Совпо делам изобретений и о113035 Иосквас ЖРаушская набилиал ППП фПатентф, гв ужгород акПодписноеМинистров СССРтнй тыр т к д, 4/5с ектная,сования 5 и корректирующее звено 6 соединен с сумматором 7. Датчик напряжения 8 через дифференцирующее звено 9...
Устройство для запуска плазмотрона с не менее чем двухсекционной межэлектронной вставкой
Номер патента: 635629
Опубликовано: 30.11.1978
Авторы: Лукашев, Поздняков, Смышляев, Фокин
МПК: H05B 7/18
Метки: вставкой, двухсекционной, запуска, межэлектронной, менее, плазмотрона, чем
...рующей аппаратуры и зарядных лений по числу вставок. С целью упрощения и повы дежности работы устройства межд выволом цепочки и секцией встав чен диод, а вторые выводы всех ц единены и подключены к олному дов зарялного сопротивления. В 5 зарядного сопротивления пспольз ластный реостат. На фиг. 1 приве, чена э,ма устройства; на фиг. 2 зованием в качестве заря ЗО ния балластного реостата.Устройство для зажигания электрической дули,в,плазмотроне содержит:конденсаторы 1, шунтирующие сопротивления 2, диоды 3, зарядное сопротивление 4. Каждая цепочка, содержащая конденсатор, шунтирующее сопротивление и диод, подклнучена одним концом,к одной из секций 5 плазмотрона, а другим через общее зарядное сопротивление 4 - к,положительному полюсу...
Устройство для пуска плазмотрона постоянного тока
Номер патента: 647897
Опубликовано: 15.02.1979
Авторы: Аньшаков, Горовой, Исай, Прокопенко, Сазонов
МПК: H05B 7/18
Метки: плазмотрона, постоянного, пуска
...подачи рабочего газа установлен регулятор 10его расхода, Дпя поджига дуги ппазмотрона применяется осциппятор 11, под-ключаемый через коммутирующий элемент 12 к аноду 2 и межэлектроднойвставке 4. В цепь межэлектродной вставки включено также балластное сопротивление 13.Работает устройство следуюшим образом,На уставке ,регулятора 7 устанавливается значение пускового тока, Потрубопроводу 8 в плазмотрон подают зшитный газ, Регулятором 10 устанавливают пусковой расход рабочего газа.Коммутируюший элемент 12 находитсяво включенном положении (осциллятор11 и балластное сопротивление 13 нодкпючены к межэлектродной вставке 4).Для пуска плазмотрона включают осциллятор 11, в результате между катодом3 и межэлектродной вставкой 4 зажигается...
Электродный узел плазмотрона
Номер патента: 576871
Опубликовано: 25.10.1979
Авторы: Горхов, Григоренко, Лакомский, Мельник, Несмих
МПК: H05B 7/18
Метки: плазмотрона, узел, электродный
...которой меньше диаметра, а ее диаметр меньше диаметра электрододержателя, к которому она приварена. Промежуточный слой 7 содержит вольфрам, медь и титан и расположен на торцовой поверхности электрододержателя.Плазматрон работает следующим образом.Плазмообразующий газ, подаваемый в корпус 3 плазматрона, омывает центральный электрод 1 у сопла 5, Между центральным электродом 1 и расплавляемым металлом возбуждаетВаап Филиал ППП "Патент", . Ужгород, ул, Проектная 3,.571ся плазменная дуга. Горец центрэльйого элект-,. рода при этом разогревается;:аго боковая поверхность остается холодной, так как промежу. точный слой 7 и малая толщина электрода обеспечивают интенсивный теплоотвод от электрода 1.Взаимодействие боковой поверхности центрального...
Разрядная камера вче плазмотрона
Номер патента: 739756
Опубликовано: 05.06.1980
Авторы: Гончар, Звягинцев, Митин
МПК: H05B 7/18
Метки: вче, камера, плазмотрона, разрядная
...в томчисле активных и требующих особо чистыхусловий обработки, Это обьясняется возмож.ностью создания и поддеракания газовой атмосферы строго контролируемого состава в рабо 15 чей камере,Кроме того, повышено качество получаемого материала благодаря тому, что в немсодержится в 5 - 6 раз меньше необработанныхчастиц, чем при использовании известных кон.20 струкций,Разрядная камера ВЧЕ плазматрона для обработки дисперсного материала, содержащая патрубки ввода и вывода плазмообразующего газа и материала, установленные в торцовых крышках камеры, и штуцеры ввода и вывода транспортирующего газа, просоединенные тангенциально к стенке камеры, о т л и ч а ющ а я с я тем, что, с целью повышения качества материала путем уменьшения содержания в нем...
Электродный узел плазмотрона
Номер патента: 871351
Опубликовано: 07.10.1981
Авторы: Бобылев, Васильев, Гаранов, Крутянский, Малиновский, Меерсон, Харламов
МПК: H05B 7/18
Метки: плазмотрона, узел, электродный
...превышает величину зазорав минимальном сечении и меньше0,25 наружного диаметра электрододержателя,Источники информации,принятые во внимание при экспертизе15 1. Патент США Р 3106633,кл. 313-161, 1963.2. Жуков М.ф. и др. Электродуговые нагреватели газа, М.,фНаука,1973, с. 188. формула изобретения Оставительехред А.Ач тор Г. Петров Подписно аж 89 каз 8489/31 комитета СССРи открытийая наб., д, 4/5 ВНИИПИ Государственног по делам изобретени3035, Москва, Ж, Рауш лиал ЙПП "Патент", г. Ужгород, Ул. Проектная,4 щую роль распределительного коллектора, и из нее проходит через узкий кольцевой зазор 5, образованный электродом 2 и электрододержателем 1, и поступает в дугу.Преимущество данной конструкции состоит в том, что из-за малой величины...
Способ защиты электрода плазмотрона от окисления
Номер патента: 877802
Опубликовано: 30.10.1981
Автор: Галкин
МПК: H05B 7/22
Метки: защиты, окисления, плазмотрона, электрода
...атомное соотношение между кислородом в примеси и углеродом определяют необходимый расход органического соединения или природного газаОрганическое соединение или природный газ для улучшения смешения с защитным газом подают на линию 9, преимущественно в смеситель 10 на линии 5, и с помощью расходомера 11 устанавливают необходимый расход. Предварительное смешение газов предотвращает разложение добавок с выделением углерода в виде сажи, вызывающее пяд нежелательных эффектов. Далее на электроды 2 и 12 подают напряжение от источника 13 питания и возбуждают электрическую дугу 14. Защитный газ с добавками органического соединения или природного газа попадает в зону нагрева. При высокой температуре углеродная добавка взаимодействует с примесями и...
Устройство для управления электрическим режимом плазмотрона
Номер патента: 1066049
Опубликовано: 07.01.1984
Авторы: Коцюбинский, Шейна
МПК: H05B 7/18
Метки: плазмотрона, режимом, электрическим
...выходом блока формирования законанарастания тока, снабжено датчикамтока, двумя релейными элементами иблоком сравнения, а анодная группавентилей мостового выпрямителя выполнена управляемой, датчик токавключен в цепь литания плаэмотрона,его выход соединен с вяодами обоихрелейных элементов и одним из вхо.дов блока сравнения, включенногомежду входом блока импульсно-Фазового управления и выходом блока формирования закона нарастания, тока,выход первого из релейных элементовсвязан с управляющими электродамианадной группы вентилей мостбвоговыпрямителя, а выход второго релейного элемента. соединен с входом бло-.ка формирования закона нарастаниятока,На чертеже приведена принципиальная электрическая схема предлагаемого устройства.устройство...
Устройство для перемещения плазмотрона в процессе плазменно механической обработки
Номер патента: 1207631
Опубликовано: 30.01.1986
МПК: B23B 1/00
Метки: механической, перемещения, плазменно, плазмотрона, процессе
...каждый из которых связан электрически с регулируемым генератором 4 частоты. 631мещения в конструкции манипулятора,который как минимум должен обеспечивать три рабочих движения плазмо-,трона относительно изделия.В исходном положении штоки 7пневмоцилиндров прижаты возвратными. пружинами 6 в исходное положение,собачки 9 выведены из зацепления схраповым колесом 1 благодаря скосуна собачке, которым она опираетсяна корпус 2 механизма, Положениехрапового колеса зафиксировано фиксатором 11.Устройство работает, следующимобразом,При радиальном резании цилиндрической заготовки, т,е, когда необходимо осуществить рабочее перемещение плазмотрона в радиальном направлении, плазмотрон 16 устанавливается на необходимом расстоянииот поверхности заготовки...
Устройство для перемещения плазмотрона в процессе плазменно механической обработки
Номер патента: 1449238
Опубликовано: 07.01.1989
МПК: B23B 1/00
Метки: механической, перемещения, плазменно, плазмотрона, процессе
...устройства для перемещения плазмотрона в процесс плазменно-механической обработки, 15Устройство сопержит храповое колесо 1 установлРниое в подшипникахкорпуса 2, С обеих сторон крановогоколесадиамегральнг размещены со-.бачки 3, закрепле пые на штоках 4пневмоцилиндюв 5, каждый из которыхпредназначен дпя г сук;ветвления перемещения плазмотоона 6 и одном из направлений, 1 невмоципиндры 5 посредством воздушных магистралей связаны с 25источником 1 сжатого воздуха независимо друг от друга через злектропневматический распределитель 8,Каждый из раслределителей 8 с:чязанэлектрически с р:гулируемым г .нератором 9 частоты, Червячный редуктор Ои пара 11 винт - гайка последовательно связаны между собой и осьюхрапового колеса 1, На айке...
Защитное покрытие электрода плазмотрона
Номер патента: 1622348
Опубликовано: 23.01.1991
Авторы: Вербицкий, Горин, Свидунович, Якимов
МПК: C04B 35/84
Метки: защитное, плазмотрона, покрытие, электрода
...48 20 0,50,51 5,3 5,1 4,9 эмиссионная способность которого намного выше, чем у графита.Кроме того, в предлагаемом составе соотношения жидкого стекла и воды, а также порошка и связующего таковы, что во время сушки обмазки на ее поверхности не образуется плот" ный слой высохшего жидкого стекла, затрудняющий испарение влаги из ниж них слоев (как это происходит при использовании известного состава).Обмазка предлагаемого состава во время сушки сохраняет сквозные поры, через которые легко испаряется вла га. Это происходит потому, что силикат натрия располагается преимущественно на поверхности твердых частиц шликерного слоя и не заполняет все пространство между ними. 20П р и и е р. Дпя получения покрытия используют порошки диборида титана и...
Устройство для управления работой плазмотрона постоянного тока
Номер патента: 1668073
Опубликовано: 07.08.1991
Авторы: Безделов, Горбачев, Довбня, Скаженюк
МПК: B23K 10/02
Метки: плазмотрона, постоянного, работой
...либо дополнительно применяемым осциллятором. Благодаря наличию дросселя 9 и ограничительного резистора 15 возрастание тока дуги происходит плавно, с постоянной времени, равной отношению индуктивности дросселя 9 к активному сопротивлению 15. Значение тока ограничивается ограничительным резистором 15 и равно минимально устойчивому току плазменной дуги, Плазмообразующий газ выдувает возникшую между электродом 7 и соплом 14 дугу до касания ее обрабатываемого изделия 5. Так как на вентили 2 катодной группы подаются отпирающие импульсы, соответствующие большим углам открытия (минимально-устойчивый ток дуги),10 устойчивый ток дуги на 10 - 15%, срабатывает первый релейный элемент 17. снимая сигнал управленил с вентилей 13 дополнительной...
Способ измерения падения напряжения на закрытом участке столба сжатой дуги плазмотрона прямого действия
Номер патента: 1669657
Опубликовано: 15.08.1991
Метки: действия, дуги, закрытом, падения, плазмотрона, прямого, сжатой, столба, участке
...относительно плазмы отрицательно и в данномслучае происходит сложение потенциаловдуги и потенциала ег, После сложения выражений получаютОз + 00 =20 с).О+Оа.ОткудаОс =ОзР + Оэз Р-(О+Оа)/2Б формуле отсутствует величина ег, т. е,устранено ее влияние на величину Ос.Точность измерения повышается аналогичным измерением падения напряженияна откры гом участке дуги. Для этого на прямой и обратной полярности измеряют потенциал между зондом иэлектродом-деталью, Значения Ок и Оа выбираются для материала детали, Если материал детали и электрода одинаков, товыполняется условиеОГ +Ос+О+Оа+ОцПоследнее выражение позволяет уточнить эна ение О и 00, так как они проверяются точным измерением напряжениядуги О.П р и м е р, Производилось измерениепадения...
Сопло плазмотрона
Номер патента: 1710248
Опубликовано: 07.02.1992
МПК: B23K 10/00
Метки: плазмотрона, сопло
...потоком, не допускает электропробой дуга-стенка, крупномасштабноешунтирование, что повышает стабильностьв работе. Формула изобретения 1, Сопло плазмотрона, выполненное ввиде цилиндрической втулки, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышениянадежности в работе и увеличение ресурса работы плазмотрона, втулка выполнена с переменным удельным электросопротивлением, составляющим соответственно на 45 участке, прилегающем к входному отверстию,(0,5 - 1,2) 10 Ом см, насреднемучастке - (0,5-5) 10 Ом см, на участке, прилегаютем к выходному отверстию, - 1,0 (10 - 10 о) Ом см, при этом длина участ ков соответственно равна (0,5-5,0) б, (1 - 2) би (0,01 - 1,0) б, где с 3 - диаметр выходногоотверстия сопла.2. Сопло по п.1, о т л и ч а ю щ е е с...
Способ возбуждения электрической дуги двуструйного плазмотрона
Номер патента: 1374581
Опубликовано: 30.05.1992
Авторы: Антропов, Ермохин, Кулик, Синягин, Токмулин
МПК: B23K 9/067, B23K 9/167
Метки: возбуждения, двуструйного, дуги, плазмотрона, электрической
...дуга 6 при возрастании токаимеет падающую вольт-амперную характеристику и стабильно зажигается.Значение индукции внешнего магнитного поля, при котором обеспечивается стабильное возбуждение электрической дуги, зависит от параметров плаэмотрона, расстояния между электродными узлами, угла а, величины тока возбуждаемой электрической дуги, скоростиплазмообразующего газа, и определяется в каждом конкретном случае следующим образом. Зажигают электрическую дугу любым известным способом и устанавливают требуемые параметры плазмотрона; затем привизуальном наблюдении увеличивают индукцию магнитного поля до значения, при ко.тором плазменные струи сходятся под углом боьшим или равным 20. Последующие запуски плазмотрона проводятпри...
Сопловой узел плазмотрона
Номер патента: 1764886
Опубликовано: 30.09.1992
МПК: B23K 10/00
Метки: плазмотрона, сопловой, узел
...что приводит к уменьшению ресурса плазмотрона.Целью изобретения является повышение ресурса плазмотрона путем снижения вероятности электрического пробоя между столбом дуги и стенкой канала сопла.Это достигается тем, что в сопловом узле плазмотрона, содержащем внутреннее и наружное сопла, а также завихритель в виде тангенциальных каналов, образованных сопряженными поверхностями сопел, выходной канал соплового узла, выполненный в зоне входного отверстия с конусообразной поверхностью, переходящей в цилиндрическую поверхность, согласно изобретению выходной канал выполнен расширяющейся к рабочему торцу конической поверхностью в зоне выходного отверстия, а выходные отверстия тангенциальных каналов расположены на упомянутой конической...
Способ возбуждения дуги плазмотрона
Номер патента: 1773635
Опубликовано: 07.11.1992
Авторы: Бухтин, Мясников, Новыш, Пилипенко, Ружанский
МПК: B23K 10/00
Метки: возбуждения, дуги, плазмотрона
...дуги в процессе возбуждения амплитуда максимальных бросков стартового напряжения тока уменьшается еще больше,В то же время снижение постояннойсоставляющей напряжения Чохх в области (2) не приводит к снижению устойчивости возбуждения, так как амплитудное значение напряжения остается неизменным за счет увеличения переменной составляющей в виде шестой и кратных ей гармони.Для пояснения функционирования устройства раскрыта одна из возможностей ре 1773635ализации устройства 3 управления, содержащего датчик 7 управляющего сигнала, блок 8 фазового регулирования, электронный переключатель 9, задатчик 10 сигнала фазы холостого хода, реле 11 сигнала тока, программатор 12 нарастания тока.Устройство работает следующим образом, Напряжение...
Анод электродугового плазмотрона
Номер патента: 1786692
Опубликовано: 07.01.1993
Авторы: Гнатенко, Ефименко, Ливитан, Меркин
МПК: H05B 7/22
Метки: анод, плазмотрона, электродугового
...Конфигурация проточек и их взаимное расположение способствует образованию вдоль стенок анодной части дугового канала, самой теплонапряженной его части, своевременной динамической газовой завесы, отстраняющей центральный высокотемпературный поток от стенок анода, в связи с чем снижаются тепловые потери в одной из самых ответственных конструктивных частей плазмотрона, снижается уровень эрозии стенок анода. Кроме того, привязка дуги в таком аноде осущестизвестных плазмотронах, Это способствует стабилизации длины дуги и условий ее горешению стабильности горения дуги и как следствие - повышению стабильности генерируемого газоплазменного потока вают оптимальные условия для достижения поставленной в изобретении цели,Действительно, если...
Межэлектродная вставка электродугового плазмотрона
Номер патента: 999942
Опубликовано: 15.10.1993
Метки: вставка, межэлектродная, плазмотрона, электродугового
...корпуса с указанными пазами ипристыкаеэннога к нему через уплотнительнце элементы С-образного сменного сопла.Кроме того, внутри сопла установлены дваС-образных пристыкоеанных друг к другуперфорированных полукольца, образующихкольцевой канал для охлаждающей жидкоти,Нэ фиг. 1 показам злектродуговой плазмотрон с межэлектрадной вставкой; на фиг.2 - разрез А-А на фиг. 1; на фиг, 3 - разрезБ-Б на фиг. 2. Межэлектродная вставка 1, размещенная между электродными узлами 2 и 3, состоит иэ набора секций, имеющих корпус 4, сменное С-Образное сопла 5, гаэараспределительное кольцо 6 и два С-образных полукольца 7 и 8, установленных е наружную кольцевую проточку сопла,5 10 15 20Э25 30 35 45 50 Гер етизация еадоахлаждаемай полости секций от...
Сопловый наконечник плазмотрона для нанесения материалов с низкой температурой плавления
Номер патента: 2001695
Опубликовано: 30.10.1993
Авторы: Бондарь, Ефименко, Каика, Шинкаренко
МПК: B05B 7/22
Метки: наконечник, нанесения, низкой, плавления, плазмотрона, сопловый, температурой
...корпуса осуществляется известными в технике способами, например на резьбе, Соосно по центру плаэмотрона 2 в корпусе выполнено ступенчатое сопло 3 для плазменной струи. Снизу к корпусу 1 прикреплена верхняя шайба 4, две составные полушайбы 5 и нижняя шайба 6. Крепление осуществлено обоймой 1, охватывающей корпус и шайбы, С одной стороны корпуса 1 ввернут штуцер 8 для подвода газа по каналам 9, 10, 11 в полость между полушайбами 5. В верхней шайбе 4 выполнен канал 12, по которому плазменная струя попадает в полость 13 между полушайбами 5. Со второй стороны корпуса закреплен с возможно- стьЮ перемещения патрубок 14 канала для подачи напыляемого материала. Патрубок 14 установлен на кронштейне 15, который выполнен с пазом 16, Патрубок 14...
Электродный узел плазмотрона для нагрева водяного пара
Номер патента: 1813309
Опубликовано: 27.03.1995
Авторы: Лукашов, Михайлов, Поздняков, Трунов, Трушников, Черкасов, Янковский
МПК: H05B 7/22
Метки: водяного, нагрева, пара, плазмотрона, узел, электродный
ЭЛЕКТРОДНЫЙ УЗЕЛ ПЛАЗМОТРОНА ДЛЯ НАГРЕВА ВОДЯНОГО ПАРА, содержащий полый цилиндрический электрод с кольцевой полостью охлаждения, выполненной в его стенке, и патрубки ввода и вывода воды в полость, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности работы и увеличения технологичности, элктрод снабжен пристыкованными к его торцам двумя одинаковыми цилиндрическими частями с полостями охлаждения, соединенными с патрубками ввода и вывода водяного пара, причем длина водоохлаждаемой части электрода выбрана равной 1,3 - 1,5 торцовой части.
Анодный узел электродугового плазмотрона
Номер патента: 1748616
Опубликовано: 10.09.1995
Авторы: Ващенко, Дандарон, Жуков, Заятуев
МПК: H05B 7/22
Метки: анодный, плазмотрона, узел, электродугового
АНОДНЫЙ УЗЕЛ ЭЛЕКТРОДУГОВОГО ПЛАЗМОТРОНА, содержащий соосно и последовательно установленные выходное сопло, камеру ввода плазмообразующего газа и водоохлаждаемый анод с торцовой рабочей поверхностью, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса, на рабочей поверхности анода выполнена полость в форме тела вращения, глубина которой выбрана не меньше 0,3 диаметра ее основания, а сечение полости по высоте выполнено не превышающим сечения полости в ее основании.
Способ управления перемещением пятна дуги по внутренней поверхности цилиндрического электрода электродугового плазмотрона
Номер патента: 1641179
Опубликовано: 27.12.1995
Авторы: Балудин, Иохимович, Михайлов
МПК: H05B 7/22
Метки: внутренней, дуги, перемещением, плазмотрона, поверхности, пятна, цилиндрического, электрода, электродугового
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ПЕРЕМЕЩЕНИЕМ ПЯТНА ДУГИ ПО ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ЦИЛИНДРИЧЕСКОГО ЭЛЕКТРОДА ЭЛЕКТРОДУГОВОГО ПЛАЗМОТРОНА, при котором осуществляют вращение пятна дуги аэродинамическим воздействием тангенциально закрученного потока плазмообразующего газа и продольное возвратно-поступательное перемещение пятна дуги воздействием магнитного поля, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса работы электрода, осуществляют магнитное воздействие на пятно дуги пульсирующим однофазным магнитным полем промышленной частоты и поддерживают соотношение параметров магнитного А и аэродинамического Б воздействий в следующих пределах:8 < А / Б < 50,причем параметр магнитного воздействия А определяют по формулеA 106...
Электродный узел плазмотрона
Номер патента: 701488
Опубликовано: 20.05.2003
Авторы: Аверьянов, Молдавер, Харламов, Чумаков
Метки: плазмотрона, узел, электродный
1. Электродный узел плазмотрона, содержащий корпус с установленной внутри него цангой, один приторцевой участок которой соединен с корпусом по резьбе, а на втором выполнены лепестки, разделенные прорезями, служащими каналами для прохождения рабочего тела, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса плазмотрона путем повышения стойкости и токовой нагрузки электрода, узел снабжен установленной внутри корпуса в зоне расположения лепестков цанги цилиндрической втулкой, внутренняя поверхность которой выполнена в виде сходящегося в направлении ко второму торцу цанги конуса со сквозными пазами, направленными от поверхности конуса к противоположной торцевой поверхности, причем количество...