H05H — Плазменная техника
Импульсный генератор нейтронов
Номер патента: 1820945
Опубликовано: 07.06.1993
Авторы: Козловский, Новиков
Метки: генератор, импульсный, нейтронов
...либо, как в заявленном предложении, для генерирования нейтронного потока.Нейтронный поток образуется благодаря ядерным реакциям Ве й, и/Во, Т/б, и/Не или Д/о, и/Нез под воздействием соответствующих ускоренных ионов на ней тронообрззующей мишени 34; установленной нз пути ускоренных ионов. Эта схема генерирования нейтронов в общем реализо. вана в известном генераторе.Существенно отличающим заявленное техническое решение от известного фактором является применение в предязгаемом генераторе системы лазерных ооострителей фронтов импульсов ускоряющего напряжения и электронного пучка, Это стало возможным благодаря введение е генератор второй зоны с дополнительныМэлектродом 13 и.катодным электродом 10, отделенных. друг от друга газовйм...
Импульсный генератор нейтронов
Номер патента: 1820946
Опубликовано: 07.06.1993
Авторы: Козловский, Новиков
Метки: генератор, импульсный, нейтронов
...попадает в вакуумную камеру через оптическое окно 11, Процессы зарядкиимпульсного разрядника, включение магнитной системы и лазерного облучениястрого синхронизированы с помощью пульта 18 управления с заданными временамизадержки,При лазерном облучении мишени 8 возникает ионно-электронное образование -плазма. Чтобы получить требуемую ионнуюсоставляющую плазмы мишени насыщаютсоответствующими атомами или их соединениями (для бомбардировки нейтронообразующей мишени, например, Ве 9 Т 0, ЕгО,С 02), Распространяясь в вакуумной камерес соответствующим контуром фронта распространения (см.фиг.1, поз,10), плазма какбы создает эффект расширяющегося анода,благодаря чему она выступает в роли спу 18209465 10 15 портировки при значительном...
Способ стабилизации несамостоятельного тлеющего разряда высокого давления
Номер патента: 1823160
Опубликовано: 23.06.1993
Метки: высокого, давления, несамостоятельного, разряда, стабилизации, тлеющего
...к молекулам примеси с увеличением напряженности электрического поля между электродами газоразрядного устройства. 1 ил,резко уменьшить проводимость среды засчет увеличения в области усиленного поля фчастоты прилипания к молекулам электроорицательной примеси, при этом концент- .рация молекул должна быть достаточномалой, а именно, чтобы примесь не влияла рбы на параметры разряда в большей частиобъема промежутка, Подбирая род газа иего парциальное давление, можно управлятьразвитием шнуров, и порысить предельный ффэнерговклад,Устройство работает следующим образом. Электронный пучо, сформированный вэлектронной пушке 8 поступает в разрядноеустройство и иойизует поток газа. в которыйподмешивается электроотрицательная примесь, При подаче...
Устройство для получения шаровой молнии
Номер патента: 1823161
Опубликовано: 23.06.1993
Авторы: Верцинский, Горобцов, Насонов, Шичалина
МПК: H01T 23/00, H05H 1/24
...электромагниты13 на шаровых шарнирах 14. Предлагаемое устроиство работает следующим образом. Наружный воздух вентилятором 7 подается через патрубок б и фильтр 8 в нижнюю часть камеры 1, где он увлажняется путем впрыскивания в него воды через воздухоувлажнитель 9, Количество нпрыскиваемой воды регулируют при помощи клапана 10.Увлажненный воздух через теплообменник 12 поступает в верхнюю часть камеры 1 и через сетчатый верх 2 выходит наружу.Теплообменник 12 может служить либо воздухонагревателем при подаче в него теплоносителя, либо воздухоохладителем при подаче в него хладоагента.Степень нагрева или охлаждения воздуха регулируют с помощью изменения температуры и расхода теплоносителя. Направление и величину магнитного поля внутри...
Способ генерирования направленных пучков электромагнитного излучения
Номер патента: 1823162
Опубликовано: 23.06.1993
Автор: Варфоломеев
МПК: H05H 7/00
Метки: генерирования, излучения, направленных, пучков, электромагнитного
...зоне где и - частота излучения; 401 =- а й/с - волновой вектор;и - единичный вектор, задающий напрввление излучения;Р - скорость электрона в единицах скорости света;45р - расстояние от ондулятора до точки наблюдения;ЙТ - полное время пролета электрона через ондулятор.В соответствии с (5) поле излучения, ге нерирувмое электроном в результате прохождения через ондулятор, можно представить как сумму полей излучения элементарныхых излучателей, расположенных вдоль траектории электрона. Суммирова ние должно проводиться с учетом эффекта запаздывания, т,е. с учетом относительного сдвига фаз излучателей, зависящего от скорости электрона и координат излучателя. Отсюда видно. что в итоге спектральное и угловое распределение суммарного...
Устройство для формирования ондуляторного излучения
Номер патента: 1824677
Опубликовано: 30.06.1993
Автор: Сороко
МПК: H05H 13/04
Метки: излучения, ондуляторного, формирования
...ондуляторах используют широкий спектр синхронного из-ГЪ лучения с длиной волны 5-30 нм, то ф положительную линзу 2 и меэооптический 4 элемент с кольцевым откликом 4 необхо димо изготовить в виде фазовых зонных пластин соптинеслим рельефом. Высота оп., ) тического рельефа на белнх участках отличается от высоты оптического рельефа на черных участках двух фазовых зонных пластин 2 и 4 на величину А/2.Повышение пространственного разрешения в заявленном устройстве достигается благодаря тому, что диаметр пропускающего кольца в кольцевой диафрагме 3 в 5 раз больше диаметра пропуаметр отверстия в гочечной диафрагме равен 6 виЭО мкм. ЯСоставитель Г, РассмотроваТехред М,Моргентал Корректор М, Петрова Редактор Л Павлова Заказ 2228 Тираж...
Способ плазменного покрытия электропроводных материалов
Номер патента: 1493078
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Волокитин, Дедюхин, Старченко, Чибирков, Шишковский
МПК: H05H 1/00
Метки: плазменного, покрытия, электропроводных
...условия Г 7,)/21 уосси вр охлаждеууия материала до темпе плавления (крисалли 3 ау)ии ). Для большинства металлов ве 1 уичина частоты сканирования дуги по поверхности лежит в диапазоне )0-20 Гц,з.п. матер зла изделия пу"ем сканирования по поверхности плазменной дуги с частс;той )0-200 Гц, а частицы покрытия внедряют в зону расплава плазмотроном косвенного действия,Сканирование плазменной дуги по поверхности электропроводноуо изделия вызывает ее расплавление и поддержание необходимой температуры расплава. Обеспечивая куирокую зону расплава поверхисусти, а также необходимый запас кинетическсуй эуус ргии час лицам напьууунслссгсу матс риала за с чет гил вязкости и линвлсуучс.с уссу с 1 усвпорв плазменного уусу 1 ока у с усс р гс рсу когвс...
Плазменный генератор для обработки материалов
Номер патента: 950165
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Аньшаков, Волокитин, Дедюхин, Филиппов, Чибирков
МПК: H05H 1/00
Метки: генератор, плазменный
...изобретения является иние производительности обработктериалов,(54)(57) ПЛАЗИЕННЫИ Г РАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ по о т л и ч а ю щ и й с целью повышения произ обработки материалов, ком наполнителе выпол отверстия вдоль образ ческого цилиндра, рав ложенные по эллипсу. Цель достигается тем, что в плазменном генераторе для обработки материалов, содержащем коаксиально расположенные анод, катод, выполненные ввиде эллиптических цилиндров, разде"ляющий их диэлектрический наполнительи соленоид, в диэлектрическом наполнителе выполнены сквозные отверстиявдоль образующей эллиптического цилиндра, равномерно расположенные поэллипсу,На чертеже изображен плазменныйгенератор для обработки материалов,Генератор катод 1, анод 2, диэлектрический...
Плазменный генератор для обработки материалов
Номер патента: 749355
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Венедиктов, Волокитин, Петров, Филиппов, Шиманович
МПК: H05H 1/00
Метки: генератор, плазменный
...а ю щ и й с я тем, что, с цельюобеспечения равномерности обработки,электроды выполнены в виде эллиптических цилиндров и разделень 1 междусобой диэлектрическим наполнителем,осуществляется с низкоительностью,Известен плазменныйдержащий. коаксиально ра. анод, катод и окружающиПри работе наблюдаютсягового разряда с рабочиэлектродов,Целью изобретения явчение равномерности обрЦель достигается темменном генераторе для обтериалов, содержащем коположенные катод, анодих соленоид, электродывиде эллиптических цилиУЙ 9355 дакто Нефедо 1 оргентал Корректор Т,Вашков ех ж Подписноеитета по изобретениям и открытиям сква, И, Раушская наб., д. Ц/5 аказ 2830; ТираНИИПИ Государственного ком113035, Ио ГКНТ СССР Производственно-издательский комбинат "Патент",...
Система высокочастотного питания ускорителя заряженных частиц
Номер патента: 1826147
Опубликовано: 07.07.1993
МПК: H05H 7/02
Метки: высокочастотного, заряженных, питания, ускорителя, частиц
...элементов 7. В элементах 7 ВЧ волна движется в том же направлении, что и частицыЭто обеспечивает ускорение пучка. В правом выходном плече моста 4 ВЧ мощность отсутствует, поэтому через высокочастотный мост 6 энергия к ускоряющим элементам 7 не поступает. При необходимости ускорения частиц справа налево фазовый сдвиг фазовращателей 2 изменяется на л/2 па сравнению с исходным положением. При этом если один иэ фаэовращателей изменяет фазовый сдвиг на л /2, то другой - на л /2. Мощность уси 1826147лителей 3 в этом случае суммируется в правом плече моста 4. ВЧ волна сдвинута по фазе на й /2 по Отношению к волне, которая поступала в левое плечо в предыдущем случае. Компенсация этого фазового набега может быть обеспечена с помощью подбора...
Устройство для управления перемещением дугового разряда
Номер патента: 1400461
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Волокитин, Дедюхин, Шишковский
МПК: H05H 1/00
Метки: дугового, перемещением, разряда
...столбом дуги, что облегчает процесс шунтирования "дуга - выступ винтовой нарезки электрода" и исключает переброс с одного выступа на другой. При горизонтальном расположении электродов выступ Вицтовой царезки, на которспривязана дуга, предварительно подогреваетсл дуговым разрядом, что об"легчает переброс Огг)рного пятна повыступу 13 сторону п 1)ОтипоноложуюВ 1 эап 1 ееиО 32 ектрОда. Существ РцнОс вл 1япе на напряжение нробол оказываетградиент температуры в промежуткемежду дугой и вьступом витовой царезки электрода,. С его увеличениемзто напряжение уменьшается,Скорость врацепя электродов задается при помощи электропривода 3,Дуговой разряд возбуждаетсл междупарой выступов винтовых нарезок одцм из Способов; заО)ачизацием.осциллятором и т,п,...
Рельсовый плазматрон для обработки поверхностей
Номер патента: 1109027
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Волокитин, Гаращук, Дедюхин, Коробов, Черенко
Метки: плазматрон, поверхностей, рельсовый
....,щий два основных одинаковых стержневых параллельных электрода, каждыйиз которых имеет вывод для подсоединения к источнику питания постоянного тока, снабжен дополнительнымстержневым электродом, длиной равнымуказанным, установленным между электродами на равном растоянии от них иснабженным выводом для подсоединения к одному из полюсов источникапитания выводы крайних электродоврасположены на противоположных ихконцах и предназначены для подсоедине"ния к другому полюсу источника, а поторцам стержневых электродов установлены отражатели из диэлектрическогоогнеупорного материала, причем отражатели в поперечном сечении выполнены дугообразной формы, высотой, равной высоте крайних электродов, и ус"тановлены симметрично относительноних,...
Устройство для получения импульсного пучка поляризованных электронов
Номер патента: 1827725
Опубликовано: 15.07.1993
Авторы: Ефимов, Закутин, Ильичев, Покас, Ромасько, Сафронов, Шендерович
МПК: H05H 7/08
Метки: импульсного, поляризованных, пучка, электронов
...Сечение о, см, ионизации атомарного водорода быстрыми электронами определяется, как известно, формулой 1 З 10д=п(6,1 е), (3) где е - энергия электронов, электронвол ьт.Вероятность Р ионизации атома водорода электроном, прошедшим путьсм,рав- на 13 10 п 10 р=п д =п(6,1е) (4)При амплитуде импульса тока пучка электронов , А и его длительности т, с, полный заряд поляризованных электронов, образованный при ионизации атомов водорода на длине , равен 13 10птцв= Рт п(6,1 е ),(5) Если электроны выводятся за время Ь, с, то импульсный ток пучка поляризованных электронов равен25 Величина тока ионизирующего пучкаограничивается двумя факторами; эмиссионной способностью катода и критическим током пучка в трубе 1), который в нерелятивистком случае можно...
Вытягивающий электрод пуллер
Номер патента: 1835615
Опубликовано: 23.08.1993
Авторы: Василенко, Подкладкин
МПК: H05H 7/08
Метки: вытягивающий, пуллер, электрод
...в виде трубчатой рамки позволяет осуществить хороший тепловой контакт пуллера с рамкой, например, через паяный шов, что является существенным отличительным признаком, так как при этом достигается высокая эффективность охлаждения водою, пропускаемой по трубке рамки. Данный признак нельзя реализовать, если не применить уплотнители для герметизации на вакуум концов трубчатых направляющих рамки. Применять для этой цели сильфоны не всегда возможно из-за чрезмерно больших габаритов узла уплотнения при ходе рамки порядка 30-35 мм, Жесткость и прочность рамки позволяют не только подвести воду к пуллеру, но и перемещать его вдоль ускоряющей кромки дуанта. При использовании кинематической пары винт - шестерня для перемещения пуллера достигается...
Циклический ускоритель заряженных частиц
Номер патента: 1435133
Опубликовано: 15.10.1993
Автор: Панасюк
МПК: H05H 13/00
Метки: заряженных, ускоритель, циклический, частиц
...поля для релятивистской частицы; С2 лг"(3) 30где г- радиус релятивистской орбиты частицы (показанный для наглядности на фиг.1 пунктирной линией совместно с огибающей пучка заряженных частиц, имеющей место в 35 прототипе).Сравнивая (2) и (3), получим; г = 0,543 В.Это соотношение ограничивает энергию частиц при заданной геометрической конфигурации электромагнита ведущего 40 магнитного поля. Понижение, согласнопредложению, собственно частоты резонатора с помощью диэлектрических цилиндров 5 и б, автоматически увеличивает радиус релятивистской орбиты да величины, опре деляемой степенью частотной перестройкирезонатора, связанной с величиной вводимого объема диэлектрика, При этом диэлектрические цилиндры 5 и б с диэлектрической...
Межэлектродная вставка электродугового плазмотрона
Номер патента: 999942
Опубликовано: 15.10.1993
Метки: вставка, межэлектродная, плазмотрона, электродугового
...корпуса с указанными пазами ипристыкаеэннога к нему через уплотнительнце элементы С-образного сменного сопла.Кроме того, внутри сопла установлены дваС-образных пристыкоеанных друг к другуперфорированных полукольца, образующихкольцевой канал для охлаждающей жидкоти,Нэ фиг. 1 показам злектродуговой плазмотрон с межэлектрадной вставкой; на фиг.2 - разрез А-А на фиг. 1; на фиг, 3 - разрезБ-Б на фиг. 2. Межэлектродная вставка 1, размещенная между электродными узлами 2 и 3, состоит иэ набора секций, имеющих корпус 4, сменное С-Образное сопла 5, гаэараспределительное кольцо 6 и два С-образных полукольца 7 и 8, установленных е наружную кольцевую проточку сопла,5 10 15 20Э25 30 35 45 50 Гер етизация еадоахлаждаемай полости секций от...
Высокочастотный плазмотрон
Номер патента: 639389
Опубликовано: 15.10.1993
Автор: Кузьмин
Метки: высокочастотный, плазмотрон
...и приводит кнеобходимости кОнструирования . сложныхводоохлаждаемых камер.Известны также ВЧ-плазмотроны с емкостным разрядом дугового типа, содержащие разрядную камеру и кольцевыеэлектроды, охватывающие концевые участки камеры и подсоединенные к ВЧ генератору.Однако, в цепи питания плазмотронапоявляется реактивная составляющая мощ ности, обусловленная наличием емкости,образованной внешними электродами, Этоухудшает соэт цепи и уменьшает КПД плазмотрона,Целью изобретения является увеличение соэ 1 устройства и повышение КПД ВЧ- плазмотрона, Это достигается тем, что плазмотрон снабжен индуктором, размещенным на камере между электродами и подсоединенным к ВЧ-генератору. На чертеже показано предлагаемое устройство,На разрядной камере 1...
Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой
Номер патента: 1407384
Опубликовано: 15.10.1993
Авторы: Ляшенко, Скворцов, Церевитинов
МПК: H05H 1/00
Метки: импульсной, металлических, плазмой
...Электроды 1запитываются от импульсного источникаэнергии, например конденсаторной батареи.Обработка металлических деталей производится следующим образом.Через сквозное отверстие 3 с помощьюзакимных элементов обрабатываемую деталь 4 помещают в полость изолятора 2,Откачку воздуха прекращают и через отверстие 5 напускают рабочий газ, напримерводород, азот, гелий, Производят зарядку Формула изобретения Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой, заключающийся в размещение детали в полости изоляционного цилиндрического корпуса, в торцах которого установлены электроды, вакуумировании объема полости с последующим напуском газа и подачей напряжения на электроды, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что,источника питания электродов...
Способ накопления пучка ускоренных заряженных частиц
Номер патента: 1632348
Опубликовано: 30.10.1993
Автор: Панасюк
МПК: H05H 13/00
Метки: заряженных, накопления, пучка, ускоренных, частиц
...одновременно орбитойнакопления пучка, что соответствует моменту времени и значению магнитного поля Б . Для уменьшения радиально-фазовых колебаний на орбите 6 данной порции частиц, необходимого для подготовки приема нз орбиту следующей порции частиц при их накоплении, осуществляют в интервалеВРЕМЕНИ Ф 2-11 ВОЗДЕйСтвиЕ на порциЮ чаС- тиц дополнительным ведущим магнитнымполем Вк(т) (фиг, З,б), возбуждаемым с момента времени 11 кольцевым электромагнитом 2. При этом в интервале времени т 2-О поле Вс(т) сплошного электромагнита 1уменьшают до значения Во и одновременно увеличивают поле Вк(т) кольцевого электромагнита 2, причем в интервале т 2 ц суммарное поле Я Вк+Вс) (фиг. З,в) на орбите накопления не падает ниже уровня В 1, а в момент...
Рельсотрон
Номер патента: 2003241
Опубликовано: 15.11.1993
Авторы: Верес, Зайцев, Старшинин
МПК: H05H 1/54
Метки: рельсотрон
...глатериапов (цезий, калий) це пригзодит к снижению температуры плазмы. Гри двухстадийном процессе подвода энергии начальная стадия может осуществляться при значительно более низких значениях тока. а использование легко ианизирукзщихся ще 5 10 15 20 лочных материалов становится эффективным и позволяет получить требуемую электропрооодность плазмгы уже при значениях температуры порядка 12000 - 15000 К, Более низкий уровень температуры на рабочей стадии поддержиоается также за счет абляции дополнительной пластины из легкоиспаряющегося металла (щелочного или какого-то другого),На фиг,1 показан рельсотрон; на фиг.2 - разрез рельсотрона с ударником,Рельсотрон содержит два электрода 1 и 2, подктноченных к основному 3 и вспомогательному 4...
Способ получения импульсного электронного пучка
Номер патента: 2003242
Опубликовано: 15.11.1993
Автор: Чекрыгин
МПК: H05H 5/00
Метки: импульсного, пучка, электронного
...способа; на фиг.2 - зависимости тока электронного пучка высоковольтного вакуумного разряда от числа импульсов напрякения предлагаемого способа и способа-прототипа; на фиг,З - зависимость тока электронного пучка высоковольтного вакуумного разряда парциального давления ос- таточных газов Рс, в межэлектродном промекутке,Регенерация электронного пучка проводилась по схеме, изображенной на фиг,1, На электрод 1, являющийся катодом подавалось высокое импульсное напряжение квазипрямоугольной формы, Анодом являлась сетка 2 отделения от электрода 1 изолятором 3 и закрывающая собой фольговое окно 4. Вакуум в обьеме межэлектродного расстояния создавался насосом 5, а подача элегаза осуществлялась натекателем 6, Электронный ток высоковольтного...
Наносекундный ускоритель
Номер патента: 2003243
Опубликовано: 15.11.1993
Автор: Фурман
МПК: H05H 5/00
Метки: наносекундный, ускоритель
...линий при их разряде45 и перезаряде уравновешивается на индуктивности кабеля, и к виткам, образованнымсоседними, прикладывается напряжение,равное зарядному напряжению Оо,однойполосковой линии. Гсли емкости линий идлины кабелей-витков 9-11 равны, то четные емкости к моменту времени ц полностью перезаряжаются, Нечетные емкости разряжаются током перемагничивания сердечника, и напряжение на нечетных емкостях 27 уменьшается незначительно, В момент времени 12 ЭДС всех емкостей линий С 1-С 7 складывается и набор полосковых линий можно представить как одинарную коаксиальную линию с внешним электродом 8 и внутренним 1, подклю2003243 ценную через обостряющий разрядник 18 и катод-анодному промежутке, В момент времени 11 к обостряющему разряднику...
Управляемый газонаполненный разрядник
Номер патента: 893113
Опубликовано: 30.11.1993
Авторы: Багин, Гусева, Киселев, Меркулов
МПК: H05H 1/00
Метки: газонаполненный, разрядник, управляемый
...разЦель изобретения - повышение ста. происходит направленная диффузия эарябильности срабатывания в широком диапа-. 20 женных частиц из этого разряда через казане управляющих напряжений и навки б в основной промежуток и в уменьшение времени запаздывания срвба- промежуток катод 5 - управляющий электрод 2, Диффузия заряженных частиц и излуПоставленная цель достигается тем, что чение разряда способствует накоплени в управляемом газонаполненном раэрядни зарядов в промежутке катод 5 - управляюке,содержащеманод,катодиуправляющий щий электрод 2, которые снижают время злектродмеждуними,вводкоторогоразме- запаздывания зажигания и необходимую щен внутри диэлектрической втулки катода, величину управляющего напряжения.а между управляющим электродом...
Способ плазмоимпульсной обработки металлических цилиндрических деталей
Номер патента: 1672919
Опубликовано: 30.11.1993
Авторы: Ляшенко, Скворцов, Церевитинов
МПК: H05H 1/10
Метки: металлических, плазмоимпульсной, цилиндрических
...проводящего кожуха б, расположенного на наружной поверхности изоляционного корпуса 1, и, например, коаксиальных кабелей 7.г о =10 7 г и2(2) Изоляционный корпус выполнен из фарфора, Электроды 2 запитываются от импульсного источника питания, например 10 конденсаторной батареи (на чертеже не указана), посредством указанных тоководов.Обработка металлических деталей импульсной плазмой производится следующим образом, 15Через одно из технологических отверстий 3 с помощью зажимных элементов обрабатываемая деталь 5 устанавливается во внутреннюю полость корпуса 1, Указанное отверстие 3 вакуум-плотно закрывается и 20 производится откачка воздуха из полости корпуса 1 через другое технологическое отверстие 3 до достижения как минимум форвакуума,...
Управляемый газонаполненный разрядник
Номер патента: 713506
Опубликовано: 30.11.1993
Авторы: Багин, Киселев, Меркулов
МПК: H05H 1/00
Метки: газонаполненный, разрядник, управляемый
...в отверстии катода,Недостатком этого разрядника является сравнительно невысокое напряжение самопробоя иэ-эа влияния цепи управленияразрядника на распределение электрического поля между его электродами, что ограничивает диапазон рабочих напряжений,Цель изобретения - расширение диапаэона рабочих напряжений. Указанная цель достигается тем. что между управляющим электродом и его выводом выполнен зазор.Управляемый гаэонаполненный разрядник изображен на чертеже.Он содержит анод 1, катод 2 с центральным отверстием, управляющий электрод 3, вывод 4 которого отделен от катода изоляционной втулкой , Между управляющим электродом и его выводом выполнен зазор 6.Разрядник работает следующим образом. Между анодом 1 и катодом 2 прикладывается...
Источник быстрых тяжелых атомов
Номер патента: 2004081
Опубликовано: 30.11.1993
Автор: Волосов
МПК: H05H 3/00
Метки: атомов, быстрых, источник, тяжелых
...образовавшиеся вблизи анода, ускоряются радиальным электрическим полем и движутся по циклоидальным траекториям, достигая максимальной энергии вблизи катода. Падающие нэ катод ионы образуют за счет процесс самораспыления поток нейтральных атомов, поддерживающих баланс частиц в разряде. Перезарядив-. шиеся вблизи катода ионы уходят в виде нейтральных атомов в радиальном направлении (веерный поток). Плазма в атом разряде имеет вид плоского диска шириной 2-5 см, радиальный размер плазмы совпадает с размером наружного лайнера, поэтому уходящие атомы движутся перпендикулярно оси ловушки с очень небольшой угловой расходимостью. Полный ток этих атомов(эквивалентный ток) порядка 100 А в импульсах длительностью 2 - 5 10 с. Энергия этих...
Генератор ускоряющего напряжения линейного индукционного ускорителя
Номер патента: 2004082
Опубликовано: 30.11.1993
МПК: H05H 11/00
Метки: генератор, индукционного, линейного, ускорителя, ускоряющего
...тока 15 выполняющего логического функцию И. По соединенысблоком 27 сравнения,выполця- достижении сигналом от датчика 13 тока ющего логическую функцию И. Блоки синх- величины, соответствующей началу формирониэации 14 и сравнения 27 являются рования плоской части импульса, за счет типовыми устройствами, применяемыми в установленной величины опорного напря- Л ИУ. 20 кения в блоке 27 сравнения от блока 27Предлагаемый генератор работает сле- снимается запускающий импульс на тири- дующим образом, сторный коммутатор 20 блока 19 импульсноПри включении генератора осуществля- го размагничивания обмотки 17 ется резонансный заряд конденсаторов 5 и цасыщающегося дросселя 11 и после фор до двойного напряжения источцика 1 пи мирования плоской части...
Бетатрон
Номер патента: 1333214
Опубликовано: 30.12.1993
Авторы: Буров, Романов, Чахлов
МПК: H05H 7/00
Метки: бетатрон
...И В,Ь)яГгЪ":Га 1)згНЛ 8 НИИ ДЛВ ОГО Обрат 1.)ОГ)Г гОКа Вел)1 К 1 Наг реЗИСТОра 9 ЗнаЧЛТ 8 ЛЬго МОНЬШ 8 ИНДУКТИВНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯвитков 3- б.устоойство рс,Оотае"г следую 1 ц)1 г ОбргЗОМ,г.О)денсатор 11 ггоедварительного заряжен От 11 сточника питания. За 2-3 с доНаЧала ИНЖ 8 К.гиг ЭЛЕКТроНОВ 111 п В МОМ 8 НТаРЕМЕНИ Ь ОТКРЦВа)ОТ .ОММУТИРУЮЩИЙ ГТР- боса 1 д, и конДенсгггор1 разряжаетст) черезсгитки 3 б возникает слмГ),льс Гока,)братНЬа) ИМПУЛЬС гока ПЕРЕХВатыааЕтСЯ ВЕНТИлам 3 и 81 О могц)ост рассег)сваегся на Форлуг); изобретения)всс 1 г г;с сГ)г с 1 Гюч:1)в)г гггсг 1 )г 15 20 25 30 3,.) 40 45 резисторе , Во время прохождения им пульсоь тока по виткам 3 б импульсные МаГНИтНЫЕ ПОТОКИ Фг) И Фс)2 будут ЗаМЫкаться, как показано на...
Мишенное устройство
Номер патента: 1639405
Опубликовано: 30.12.1993
Авторы: Авдеев, Дорохович, Худаско
Метки: мишенное
...мишени на 5 10 15 20 25 30 подачи газообразного рабочего вещесгва мишени, и недорасширенное сопло 2 Лаваля, Внешняя спрофилированная оболочка 3 поверхности сопла соединена с корпусом, а между центральным телом 4 и внешней оболочкой 3 сопла 2 образован канал 5 для ввода газового потока, С целью снижения (или полного устранения) утечки газа в канал ускорителя центральное тело 4 сопла выполнено в виде прямого полого цилиндра с внутренним кольцевым каналом 6 в стенке,являющимся непосредственным продолжением кольцевой проточки 7 на наружной поверхности тела у выходной кромки, причем длина центрального тела 1 выбрана в пределахГ .,где- длина профилированного сопла,м,Г - длина радиального (непрофилированного) сопла, м. Величину Г определяли из...
Имитатор нагрузки индуктора ускоряемым пучком
Номер патента: 852150
Опубликовано: 15.01.1994
Авторы: Бухаров, Герасимов, Павловский
МПК: H05H 7/00
Метки: имитатор, индуктора, нагрузки, пучком, ускоряемым
ИМИТАТОР НАГРУЗКИ ИНДУКТОРА УСКОРЯЕМЫМ ПУЧКОМ, содержащий в области ускорения индуктора активное сопротивление и проводники в виде дисков, соединяющих активное сопротивление с заземленными торцовыми электродами индуктора, отличающийся тем, что, с целью упрощения имитатора и повышения оперативности измерений выходных характеристик индуктора, вокруг оси области ускорения симметрично размещены автономные жидкостные резисторы, электроды которых соединены с дисками, при этом каждый резистор снабжен своим герметичным диэлектрическим корпусом, заполненным электролитом с равной двусторонней проводимостью и диаметром меньше глубины скин-слоя на частоте генерируемого индуктором напряжения, а по меньшей мере в одном из электродов каждого резистора...