H05B 7/18 — нагрев дуговым разрядом
Свч плазмотрон
Номер патента: 1061690
Опубликовано: 28.02.1991
МПК: H05B 7/18, H05H 1/18
Метки: плазмотрон, свч
...также ляющийся ближайшимразрядная камера расупомянутой оси на сторо противолежащей вводустенки выполнен кольцевым со средним, диаметром Ввыбранным из условия 0 =2/ ф где- длина волны вср бввволноводе, а разрядная камера расположена на упомянутой оси на стороне волновода, противолежащей вводу энергии.На фиг,1 представлено схематичное изображение плазмотрона; на фиг,2 плазмотрон в изометрии.Корпус 1 выполнен в виде кольцевого волновода, лежащего в плоскости широкой стенки. Ввод энергии 2 представляет собой симметричный 15 Н-тройник, т,е. тройник, плечи которого развернуты относительно другодруга на угол 120 в плоскости, совпа. дающей с широкими стенками волновода. Разрядная камера 3 расположена перпендикулярно широкой стенке...
Источник питания электродуговой установки
Номер патента: 1697284
Опубликовано: 07.12.1991
Авторы: Дрючин, Жиляков, Коцемир
МПК: G05F 3/06, H05B 7/144, H05B 7/18 ...
Метки: источник, питания, установки, электродуговой
...1 работает в режиме короткого замыкания. Нагрузка 9 обесточена, Если Озг изменить, та изменится угол регулирования тиристорон 7 и па нагрузке 9 будет протекать ток =-о(1- соз аг), где о =- максимальное значение выпрямленного ока н нагрузке, определяемое соотн:шением числа витков обмотки 3 и обмотки 4 дро "селя инруктивно-емксстнаго преобразователя 1.При подаче с блока 12 задания Оу = 1 (условная единица) системе 13 импульсно- фазового управления обеспечивает замкнутое состояние коммутатора 10 и одновременное замыкание ключевого элемента 16 и оазмыкание ключевого элемента 17. Замыкание коммутатора 10 приведет к тому, что обмотки 3 дросселей индуктинно-емкостного преобразователя 1 соединяются "звездой" и шунтируютс я конденсаторами 2....
Вакуумная газоразрядная печь
Номер патента: 1709557
Опубликовано: 30.01.1992
Авторы: Коринец, Кручинин, Лактионов, Ларкин, Литвинчук, Мянник, Преснов
МПК: H05B 7/18
Метки: вакуумная, газоразрядная, печь
...их смеси. Известным способом посредством пробоя х разрядного промежутка зажигают разряд 10 между катодом 2 и анодом 8. При этом источник 3 электропитания постоянного тока обеспечивает протекание тока разряда в диапазоне до нескольких килоампер, Электронц разряда бомбардируют поверхность металла и нагревают ее, Включают 40 45 50 55 источник 6 электропитания переменного тока и пропускают ток через дефлектор 4. При этом дефлектор 4 создает изменяющееся во времени и по знаку магнитное поле прямолинейного проводника с током. Величина этого поля максимальная вблизи поверхности дефлектора 4 и уменьшается при удалении от него. Так как магнитное поле искривляет разряд 10, то величина этой деформации разряда будет максимальна у поверхности...
Способ нагрева вращающихся деталей электрическими разрядами
Номер патента: 1750070
Опубликовано: 23.07.1992
Автор: Липатов
МПК: H05B 7/18
Метки: вращающихся, нагрева, разрядами, электрическими
...фиг.1 изображена схема устройства для осуществлеНия предлагаемого способа; на фиг,2 - относительное расположение дискового электрода и нагреваемой детали с обозначением минимального и максимального зазоров, а также зоны их расположения в процессе обработки,Устройство для осуществления способа ,нагрева вращающихся деталей содержит генератор 1 импульсов электрического тока, дисковый электрод 2, шинопроводы 3 и 4, 2 электродвигатель 5, щеткодержателй 6 и 7, меднографитовые щетки 8 и 9, приспособление 10 для базирования нагреваемой детали 11, подключаемую в процессе обработки к положительному полюсу генератора 1. Диск 2 устанавливают на валу электродвигателя 5, Меднографитовые щетки 9 посредством шинопровода 3 соединены с...
Способ электродугового нагрева
Номер патента: 1760660
Опубликовано: 07.09.1992
Авторы: Панфилов, Соколов, Фетисов
МПК: H05B 7/18
Метки: нагрева, электродугового
...220 В, сила тока выбиралась равной 60 А и в процессе эксперимента не изменилась. Обмотки электро магнитов 1 соединены последовательно и питались постоянным импульсным током силой 30 А при напряжении 40 В, частота следования импульсов задавалась в диапазоне 30.500 Гц путем плавного изменения 10 частоты в сторону нарастания, В качестве электродов 2 применялись угольные электроды диаметром 9 мм, Термопара 7 при эксперименте размещалась на удалениях 7, 10 и 15 мм от оси электродов, После возбуж дения дуги между электродами 2 путем их замыкания и последующего разведения осуществляется воздействие на дугу импульсным магнитным полем, создаваемым электромагнитами 1, Вследствие того, что 20 электромагниты 1 питаются постоянным током в...
Высокочастотный факельный плазмотрон, для нагрева дисперсного материала
Номер патента: 1094569
Опубликовано: 07.09.1992
Автор: Теплоухов
МПК: H05B 7/18, H05H 1/18
Метки: высокочастотный, дисперсного, нагрева, плазмотрон, факельный
...ние теплового КПД плазмотрона и повышение его надежности,Для достижения указанной цели в ВЧфакельном плазмотроне для нагрева дисперсных материалов, содержащем цилиндрический корпус, в один из торцов которогочерез изолятор введен центральный трубчатый высоковольтный электрод, подсоединенный к выступающему из корпуса концуэлектрода. трубопровод подачи дисперсного материала и патрубок ввода плазмообразного газа, изолятор выполнен в видесоединенной с корпусом большим основанием конической камеры. патрубок вводагаза расположен на боковой поверхностиуказанной камеры, а трубопровод подачидисперсного материала выполнен в виденавитого из металлической трубы дросселядлиной А/4, гдето -длина волны питающегоВЧ генератора.На чертеже изображен...
Способ генерации плазмы в вчф плазматроне
Номер патента: 1112998
Опубликовано: 07.09.1992
Авторы: Ткаченко, Тоболкин, Шияневский
МПК: H05B 7/18, H05H 1/18
Метки: вчф, генерации, плазматроне, плазмы
...мощность нагрузочного контуНедостатком этого способа является неустойчивость горения разряда и большие потери энергии в нагрузочном контуре ВЧ генератора.Целью изобретения является увеличение КПД плазмотрона и повышение стабильности разряда.Для достижения этой цели в известном способе генерации плазмы в ВЧФ плазмотроне, при котором возбуждают в разрядной камере плазмотрона ВЧ генератором, снабженным нагрузочным контуром, колебания электромагнитного поля, подают в разрядную камеру плазмообразующий газ, иници 1112998ируют разряд и изменяют реактивную мощность нагруэочного контура, одновременно с изменением реактивной мощности нагрузочного контура изменяют скорость подачи газа в разрядную камеру плазмотрона до достижения равенства...
Электродуговой плазмотрон
Номер патента: 764598
Опубликовано: 30.10.1992
МПК: B23K 9/16, H05B 7/18
Метки: плазмотрон, электродуговой
...втулке с эксцентриситетом относительно ее продольной оси и возможностью плоскопараллельного перемещения в плос" кости, перпендикулярной этой оси, а плазмотрон снаожен шлангом из элек" троизоляционного упругого материала, один конец которого соединен со шту"7 бй 98 цером отвода воды от электрододержателя, а другой " со штуцером подво, да воды к соплу.ИзоЬретение поясняется цертежами,На фиг, 1 изображен плазмотрон в разрезе.На фиг. 2 изображена схема перемещения катода относительно отверстия сопла. 10Плазмотрон содержит корпус 1, в отверстии которого свободно при врацении установлена втулка 2 с эксцентричным относительно наружной поверхности отверстием (эксцентриситет "е"),15 в котором своЬодно при вращении установлен...
Устройство для электродуговой обработки деталей в вакууме
Номер патента: 978474
Опубликовано: 30.10.1992
Авторы: Арустамов, Булат, Жуматаев, Кельберт, Нагайбеков, Эстерлис
МПК: B23K 9/16, H01J 37/30, H05B 7/18 ...
Метки: вакууме, электродуговой
...линейный угол 40-80На чертеже схематично показано уст"40ройство для электродуговой обработкидеталей. Устройство содержит кольцевой анод 1, внутри которого установлена обрабатываемая деталь 2 цилиндрической формы, являюцаяся катодом.ОЬрабатываемая деталь 2 вне зоны обраЬотки охвачена электроизолированнымэкраном 3 Между обрабатываемой деталью 2 и кольцевым анодом 1 установлено электроизолированное кольцо 4.Сечение кольцевого анода 1 выполненов виде трапеции, основание которой параллельно оси обрабатываемой детали2, а боковые поверхности образуют суказанной осью линейный угол 40-80К кольцевому аноду 1 подсоединенытокоподводы 5. В зазор электроизолированного экрана 3 введен поджигающий электрод 6. Устройство работает следующим образом.В...
Вакуумная газоразрядная установка
Номер патента: 1815813
Опубликовано: 15.05.1993
Авторы: Коринец, Кручинин, Лактионов, Литвинчук, Преснов
МПК: H05B 7/18
Метки: вакуумная, газоразрядная
...плазмотронов 15, выход которого соединен с усилителем 16, сумматор 17, входы которого соединены с выходами задатчика 14 и усилителя 16, а выход соединен с управляющим входом источнИка питания солеиоида 13,На фиг. 2 показан поперечный разрез вакуумной газоразрядной установки с шестью плазмотронами 2, установленными центрально симметрично, и показаны траектории 19, по которым перемещаются анодные пятна разрядных столбов 18.На фиг, 3 показан секционированный по оси и радиусу соленоид с секциями 20, которые с помощью коммутационной панели 21 соединены последовательно и согласно для включения в фазу "А" питающей сети источника питания плазмотронов 12,На фиг. 4 показан секционированный по оси и радиусу соленоид с секциями 20, которые с...
Высокочастотный плазмотрон
Номер патента: 639389
Опубликовано: 15.10.1993
Автор: Кузьмин
МПК: H05B 7/18, H05H 1/26
Метки: высокочастотный, плазмотрон
...и приводит кнеобходимости кОнструирования . сложныхводоохлаждаемых камер.Известны также ВЧ-плазмотроны с емкостным разрядом дугового типа, содержащие разрядную камеру и кольцевыеэлектроды, охватывающие концевые участки камеры и подсоединенные к ВЧ генератору.Однако, в цепи питания плазмотронапоявляется реактивная составляющая мощ ности, обусловленная наличием емкости,образованной внешними электродами, Этоухудшает соэт цепи и уменьшает КПД плазмотрона,Целью изобретения является увеличение соэ 1 устройства и повышение КПД ВЧ- плазмотрона, Это достигается тем, что плазмотрон снабжен индуктором, размещенным на камере между электродами и подсоединенным к ВЧ-генератору. На чертеже показано предлагаемое устройство,На разрядной камере 1...
Свч-плазменный реактор для проведения химических процессов
Номер патента: 1602376
Опубликовано: 15.04.1994
Автор: Лысов
МПК: H05B 7/18
Метки: проведения, процессов, реактор, свч-плазменный, химических
СВЧ-ПЛАЗМЕННЫЙ РЕАКТОР ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ, содержащий металлическую разрядную камеру в виде цилиндра с торцовыми днищами к боковой поверхности которой через равномерно расположенные по периметру окна подсоединено не менее двух прямоугольных волноводов, формирователь ввода - закрученного потока газа, установленный у одного из днищ, и приходящие сквозь второе днище выходные сопла, отличающийся тем, что, с целью расширения диапазона использования реактора путем создания неравновесной плазмы при атмосферном давлении, широкие стенки волноводов расположены параллельно оси камеры, количество сопел выбрано не менее четырех, одно из сопел расположено по оси камеры, а остальные - по периферии равномерно на расстоянии от оси, равном...
Свч-плазмотрон для обработки дисперсных материалов
Номер патента: 1618261
Опубликовано: 15.04.1994
Автор: Чебаньков
МПК: H05B 7/18
Метки: дисперсных, свч-плазмотрон
1. СВЧ-ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ ОБРАБОТКИ ДИСПЕРСНЫХ МАТЕРИАЛОВ, содержащий прямоугольный волновод с соосными отверстиями в широких стенках, в которых установлена разрядная камера, выполненная в виде соосно установленных с равномерным зазором кольцевых сопл и охватывающих каждое из них коллекторов с патрубками подачи плазмообразующего газа, узел подачи дисперсного материала, установленный на торце камеры, к которому обращены выходные отверстия кольцевых сопл, и выходное сопло, расположенное на противоположном указанному торце камеры, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса работы и улучшения качества обработки материала путем газодинамического оттеснения его от стенок разрядной камеры, коллекторы выполнены в виде полых металлических...
Способ регулирования параметров газа в электродуговом подогревателе
Номер патента: 1757428
Опубликовано: 30.05.1994
Авторы: Жилин, Симанженков, Шамшурин
МПК: H05B 7/18
Метки: газа, параметров, подогревателе, электродуговом
СПОСОБ РЕГУЛИРОВАНИЯ ПАРАМЕТРОВ ГАЗА В ЭЛЕКТРОДУГОВОМ ПОДОГРЕВАТЕЛЕ, при котором поджигают дугу, измеряют давление и температуру газа, сравнивают с заданными, определяют рассогласования и изменяют ток, расход газа и длину дуги, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности работы подогревателя и точности регулирования, регулирование осуществляют циклически, причем в каждом цикле сначала определяют рассогласование по температуре и уменьшают его, изменяя длину дуги, затем определяют рассогласование по давлению и уменьшают его, изменяя расход газа, в течение всего цикла измеряют ток дуги, сравнивают с заданным для измеренных значений давления и температуры, определяют рассогласование и уменьшают его, изменяя параметры источника...
Способ управления режимом лучевой установки
Номер патента: 1308163
Опубликовано: 30.09.1994
Авторы: Алексеев, Димитров, Завьялов, Лисин, Михин, Переводчиков, Покровский, Тарасенков, Хасанов, Хомский
МПК: H01J 37/304, H05B 7/18
Метки: лучевой, режимом, установки
1. СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ РЕЖИМОМ ЛУЧЕВОЙ УСТАНОВКИ, содержащей электронную пушку, технологическую камеру, источник питания и блок управления режимом работы, при котором стабилизируют мощность электронной пушки, контролируют параметры электронного пучка и плазмы и профилактически отключают пушку по достижении параметрами плазмы критических значений, отличающийся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей установки путем управления переходными процессами в критических режимах, фиксируют контролируемые параметры в момент развития пучково-плазменного разряда в технологической камере и осуществляют плавное гашение ускоряющего поля в электронной пушке с одновременным плавным переводом источника питания из режима источника напряжения в...
Электродуговой генератор плазмы
Номер патента: 571174
Опубликовано: 30.12.1994
Авторы: Захаркин, Пустогаров, Халбошин
МПК: H05B 7/18, H05H 1/24
Метки: генератор, плазмы, электродуговой
ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ГЕНЕРАТОР ПЛАЗМЫ, содержащий основной плазматрон, выполненный в виде стержневых катодов и анода, и вспомогательный плазматрон, выполненный в виде соосно расположенных в корпусе стержневого катода и кольцевого анода, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД и срока службы генератора плазмы путем разогрева катодов основного плазматрона столбом разряда вспомогательного плазматрона, выходной торец катода вспомогательного плазматрона установлен в одной плоскости с выходной торцовой поверхностью кольцевого анода, катоды основного плазматрона размещены в корпусе вспомогательного плазматрона параллельно его оси и по периметру окружности, проходящей через середину его межэлектродного зазора, а их рабочие торцы заведены в рабочую...
Способ электродугового нагрева газа
Номер патента: 1828371
Опубликовано: 27.03.1995
Авторы: Клишин, Оленович, Поденок, Шараховский
МПК: H05B 7/18
Метки: газа, нагрева, электродугового
...на. два. пульсирующих 81 и 62, причем 61 вводится в плазмотрон, а 62 сбрасывается в атмосферу(а). Оба пульсирующих потока вводятся в плазмотрон в разных сечениях, например, через вихревую камеру и канал в торце плазмотрона(б) или через вихревые камеры,. расположенФормула изобретенияСПОСОБ ЗЛЕКТРОДУГОВОГО НАГРЕВА ГАЗА, при котором вводятпоток в разрядную камеру плазмотрона, придавая ему возвратно-поступательное движение, отличающийся тем, . что, с целью повышения эффективности управления длиной пути опорного пятна дуные по обе стороны одного из электродов (в) или диафрагмы (г), Поток делится на два непрерывных (д), причем один иэ них.вводится в плазмотрон, а второй делится на два 5 пульсирующих, один из которых вводится...
Вакуумное электроразрядное устройство
Номер патента: 1116967
Опубликовано: 27.05.1995
Авторы: Иванов, Свирин, Селифанов, Точицкий
МПК: H05B 7/18, H05H 1/24
Метки: вакуумное, электроразрядное
ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО по авт. св. N 950167, отличающееся тем, что, с целью улучшения его пусковых характеристик в диапазоне низких разрядных напряжений, оно снабжено дросселем и импульсными высоковольтными трансформатором и конденсатором, первичная обмотка трансформатора включена между отрицательным полюсом вспомогательного источника питания и плазмообразующим электродом системы поджига, первый вывод его вторичной обмотки соединен с плазмообразующим катодом электроразрядной системы, второй с первой обкладкой конденсатора и первым выводом дросселя, второй вывод дросселя соединен с отрицательным полюсом основного источника питания, а вторая обкладка конденсатора с анодом электроразрядной системы.
Плазмотрон
Номер патента: 1827154
Опубликовано: 10.12.1995
Автор: Хорошанский
МПК: H05B 7/18
Метки: плазмотрон
ПЛАЗМОТРОН, содержащий корпус с установленными в нем соплом, завихрителем газа из изоляционного материала и опирающимся на него открытой частью глухим полым цилиндрическим электродом, размещенным с зазором внутри токоподводящей спирали, один конец которой соединен с открытой частью электрода, а другой с токоподводом над глухой его частью, отличающийся тем, что, с целью повышения ресурса его работы, часть витков токоподводящей спирали в нерабочей зоне электрода со стороны открытой части навита в противоположном направлении относительно остальных ее витков.
Трансформаторный плазмотрон
Номер патента: 957744
Опубликовано: 10.02.1996
Авторы: Глуханов, Дашкевич, Захаров, Сукнотова, Эйленкриг
МПК: H05B 7/18, H05H 1/24
Метки: плазмотрон, трансформаторный
ТРАНСФОРМАТОРНЫЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий замкнутый магнитопровод, первичную обмотку с выводами для подключения к источнику переменного напряжения и вторичную обмотку в виде замкнутого тора, служащую разрядной камерой, отличающийся тем, что, с целью повышения стабильности разряда, первичная обмотка выполнена в виде разомкнутого тора, а разрядная камера установлена соосно внутри него.
Высокочастотный индукционный плазмотрон для спектрального анализа
Номер патента: 1595316
Опубликовано: 20.03.1996
Авторы: Белов, Княжевская, Крупенникова, Лебедева, Манасевич, Портной, Эйленкриг
МПК: H05B 7/18
Метки: анализа, высокочастотный, индукционный, плазмотрон, спектрального
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ СПЕКТРАЛЬНОГО АНАЛИЗА, содержащий водоохлаждаемую диэлектрическую разрядную камеру, на одном из торцов которой закреплены коллектор с патрубком подачи плазмообразующего газа и введенная внутрь камеры осевая трубка для подачи анализируемого вещества, охватывающий камеру индуктор и расположенное со стороны коллектора кольцо закрутки газа, отличающийся тем, что, с целью повышения точности анализа путем создания устойчивого соосного разрядной камере образования рециркуляции плазмы в зоне индуктора, кольцо закрутки газоплотно установлено в разрядной камере между ее стенкой и осевой трубкой и удалено от индуктора по оси камеры на расстояние H, определяемое из соотношения
Сверхвысокочастотное разрядное устройство
Номер патента: 1829879
Опубликовано: 27.08.1996
Авторы: Вашкевич, Грушецкий, Достанко
МПК: H05B 7/18, H05H 1/46
Метки: разрядное, сверхвысокочастотное
...(на чертеже не показаны), Внутри резонатора 1 на его оси установлен реактор 8, он загерметизирован задним фланцем 9, установленным на задней стенке 3 резонатора, на оси реактора и на задней стенке 3 резонатора выполнено отверстие 10 и установлен фланец 11 для соединения с вакуумной системой (на чертеже не показана). Реактор 8 с другой стороны закрывается крышкой 12, которая установлена на дверце 5. В крышке 12 имеется патрубок 13, через который подается Сверхвысокочастотное разрядное устройство, содержащее систему возбуждения электромагнитного поля, выполненную в виде резонатора и двух излучающих элементов, подключенных к системе генерации СВЧ 829879 4 рабочий газ, Данное устройство разработано для получения разрядов с большим...
Способ нагрева газа в электродуговом нагревателе
Номер патента: 1828373
Опубликовано: 10.12.1996
МПК: H05B 7/18
Метки: газа, нагрева, нагревателе, электродуговом
...заподлицо с наружной поверхностью внутреннего электрода 3 (фиг. 2, узел 1),В устройстве (см, фиг. 3) на поверхности внешнего 1 и внутреннего 3 электродов нагревателя в зоне горения разряда 7 нанесено покрытие 11 из вещества, содержащего материал с низким потенциалом ионизации,Предлагаемый способ нагрева газа в электродуговом нагревателе при использоваСпособ нагрева газа в электродуговом нагревателе, при котором между коаксиально установленными электродами нагревателя в осевом магнитном поле зажигают радиальный дуговой разряд, пропускают нагреваемый газ через зону разряда и подают в зону нии устройств (фиг. 1 и 2) реализуется следующим образом,Через канал б в разрядную камеру 2 подают рабочий газ и зажигают дуговой разряд. Дуга горит...
Способ нагрева металла плазменной дугой постоянного тока
Номер патента: 1828372
Опубликовано: 27.12.1996
МПК: H05B 7/18
Метки: дугой, металла, нагрева, плазменной, постоянного
...током от выпрямителей, а электроды 10 подсоединены к нулевой точке вторичной обмотки трансформатора,Предлагаемый способ осуществляется следующим образом: после зажигания дуги переключающим устройством 2 добиваются,Способ нагрева металла плазменной дугой постоянного тока, при котором осуществляют резонансное совпадение частоты питающего тока с частотой колебаний частиц плазмы, отпличаюшийся тем, что, с целью чтобы ток на электроды 9 подавался в зависимости от технологических условий, Затем потенциометром 8 регулируют ток в обмотке подмагничивания б до тех пор пока не добьются той формы, при которой требуется наименьшее напряжение для поддержания рабочего тока в электродах, Амплитуду и частоту колебания тока в дуге определяют...
Высокочастотный факельный плазмотрон
Номер патента: 882393
Опубликовано: 27.01.2000
Авторы: Кичигин, Копылов, Тихомиров, Тоболкин
МПК: H05B 7/18, H05H 1/34
Метки: высокочастотный, плазмотрон, факельный
Высокочастотный факельный плазмотрон, содержащий цилиндрический экранирующий кожух с коаксиально расположенным в нем электродом, реактор, пристыкованный к кожуху со стороны рабочего торца электрода, расположенный в кожухе на нерабочем торце электрода завихритель с патрубком ввода газового потока и узел поджига разряда, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей плазмотрона, электрод выполнен из двух коаксиальных труб длиной не менее одного калибра, соединенных между собой со стороны рабочего торца диффузором с углом 30-60o, а с другой стороны - упомянутым завихрителем, внутренний диаметр которого равен внутреннему диаметру внутренней трубы электрода,...
Вч-факельный плазмотрон
Номер патента: 878173
Опубликовано: 10.02.2000
Авторы: Крохин, Тихомиров, Шумский
МПК: H05B 7/18, H05H 1/24
Метки: вч-факельный, плазмотрон
ВЧ-факельный плазмотрон, содержащий корпус, внутри которого коаксиально с зазором установлена разрядная камера с центральным стержневым электродом, выполненная из кольцевых чередующихся металлических и диэлектрических секций, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД плазмотрона при расширении диапазона регулирования параметров разряда, он снабжен установленными в упомянутом зазоре конденсаторами переменной емкости в количестве, равном количеству металлических секций разрядной камеры, каждый из которых подключен между соответствующей металлической секцией разрядной камеры и корпусом.
Электродный узел плазмотрона
Номер патента: 701488
Опубликовано: 20.05.2003
Авторы: Аверьянов, Молдавер, Харламов, Чумаков
МПК: H05B 7/18, H05H 1/24
Метки: плазмотрона, узел, электродный
1. Электродный узел плазмотрона, содержащий корпус с установленной внутри него цангой, один приторцевой участок которой соединен с корпусом по резьбе, а на втором выполнены лепестки, разделенные прорезями, служащими каналами для прохождения рабочего тела, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса плазмотрона путем повышения стойкости и токовой нагрузки электрода, узел снабжен установленной внутри корпуса в зоне расположения лепестков цанги цилиндрической втулкой, внутренняя поверхность которой выполнена в виде сходящегося в направлении ко второму торцу цанги конуса со сквозными пазами, направленными от поверхности конуса к противоположной торцевой поверхности, причем количество...
Способ контроля режима работы плазмотрона с самоустанавливающейся длиной дуги
Номер патента: 477674
Опубликовано: 20.05.2003
Авторы: Бортничук, Молдавер, Чумаков
МПК: H05B 7/18, H05H 1/00
Метки: длиной, дуги, плазмотрона, работы, режима, самоустанавливающейся
Способ контроля режима работы плазмотрона с самоустанавливающейся длиной дуги, содержащего соосно установленные полый водоохлаждаемый цилиндрический и стержневой электроды, путем контроля положения эродирующего рабочего торца стержневого электрода, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса эксплуатации, положение рабочего торца контролируют по величине тепловых потерь в полом электроде.
Катодный узел вакуумного электродугового плазмотрона
Номер патента: 793330
Опубликовано: 10.11.2009
Авторы: Галкин, Косинов, Чередниченко
МПК: H05B 7/18, H05H 1/24
Метки: вакуумного, катодный, плазмотрона, узел, электродугового
Катодный узел вакуумного электродугового плазмотрона, содержащий полый цилиндрический катод, нерабочий торец которого закреплен в катододержателе, отличающийся тем, что, с целью увеличения мощности и срока службы плазмотрона, внутренняя полость катода выполнена в виде сужающегося к рабочему торцу конуса.
Плазменная горелка для напыления
Номер патента: 1371410
Опубликовано: 27.05.2012
Автор: Кадников
МПК: H05B 7/18, H05H 1/26
Метки: горелка, напыления, плазменная
Плазменная горелка для напыления, содержащая корпус, вдоль оси которого установлены катод, охватывающая его цилиндрическая камера вихреобразования с каналом для подачи плазмообразующего газа, расположенным по касательной к камере, и сопло-анод с каналом для подачи порошкового материала, выполненным со смещением относительно оси сопла-анода в сторону, противоположную расположению канала для подачи плазмообразующего газа, отличающаяся тем, что, с целью повышения коэффициента использования порошкового материала, дополнительно введен канал для подачи газа, размещенный параллельно оси канала подачи порошка.