Патенты с меткой «плазматроне»

Номер патента: 906037

Опубликовано: 15.02.1982

Авторы: Конотоп, Линчик

МПК: H05B 7/00

Метки: вращения, дуги, плазматроне, скорости

...относительно оси наружного электрода, а измерительная схема содержит светолучевой осциллограф 4 с вибратором 5 и добавочное сопротивление б. Другим примером может служить плазмотрон, у которого наружный электрод выполнен цилиндрическим, а центральный электрод нецилнндрическим, например, эллиптическим.Плазмотрон работает следующим образом.Дуга, вращаясь в кольцевом межэлектродном зазоре под воздействием магнитного поля катушки 3, в процессе совершения одного оборота вдоль переменного по величине зазора меняет свою длину. Соответствующим образом меняется и напряжение на дуге, так как напряжение пропорционально длине дуги. Закончив один оборот, дуга возвращается в исходное положение и на следующем обороте цикл пов" торяется. В...

Номер патента: 949852

Опубликовано: 07.08.1982

Авторы: Гугняк, Сорокин

МПК: H05H 1/00

Метки: мощности, плазматроне, разряда, электрического

...в одной из нихВЧИ плазменного разряда; на фиг. 3 -схема с ВЧЕ плазменным разрядом; нафиг, 4 - схема с СВЧ плазменным раз" 20 рядбм; на фиг. 5 - схема с электродуговым разрядом; на фиг. б - чертежВЧ плазмотрона с датчиками статического давления; на фиг, 7 - графикизменения разности давлений й Р приизменении мощности разряда для двухразличных расходов газа.Способ осуществляется следующимобразом.Если через завихритель ввести газв камеру плазмотрона с расходом Я,то его расход установится одинаковым949852 Формула изобретения г по Я/2, если условия течения газа вних одинаковые (фиг. 1),Но если на одну из труб поместитьйндуктор и зажечь разряд, то условияистечения .газа изменяются (фиг. 2) ив свободную от разряда часть трубыувеличивается...

Номер патента: 1112998

Опубликовано: 07.09.1992

Авторы: Ткаченко, Тоболкин, Шияневский

МПК: H05B 7/18, H05H 1/18

Метки: вчф, генерации, плазматроне, плазмы

...мощность нагрузочного контуНедостатком этого способа является неустойчивость горения разряда и большие потери энергии в нагрузочном контуре ВЧ генератора.Целью изобретения является увеличение КПД плазмотрона и повышение стабильности разряда.Для достижения этой цели в известном способе генерации плазмы в ВЧФ плазмотроне, при котором возбуждают в разрядной камере плазмотрона ВЧ генератором, снабженным нагрузочным контуром, колебания электромагнитного поля, подают в разрядную камеру плазмообразующий газ, иници 1112998ируют разряд и изменяют реактивную мощность нагруэочного контура, одновременно с изменением реактивной мощности нагрузочного контура изменяют скорость подачи газа в разрядную камеру плазмотрона до достижения равенства...