Способ генерации плазмы в вчф плазматроне
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1112998
Авторы: Ткаченко, Тоболкин, Шияневский
Текст
СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ 2998 А и .Ы 2 ЕСПУБЛИК 5 Х 1 5 Н 05 В 7/18 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИПРИ ГКНТ СССР ОПИСАНК АВТОРСКОМ Е ИЗОБРЕТЕНИДЕТЕЛ ЬСТВУ с:1 ОДгг 3А 21) 3505685/0722) 25.10.8246) 07.09.92, Бюл. ЬЬ ЗЗ71) Институт оптики атмосферы Н И.А. и др. Вопросы конструаэработки высокочастотных змотронов, - Сб, Материалы ой конференции по генератоературной плазмы, Алма-Ата, А.М. и др. Высокочастотные стройства. Известия СО АН ехнических наук, М 10, вып,З,Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано при эксплуатации ВЧ установки с нагрузкой в виде ВЧ факельного плазмотрона.Известна установка для получения ВЧ разряда, собранная на двухтактном ВЧ генераторе с короткозамкнутой четвертьволновой линией, При эксплуатации данной ВЧ установки устанавливаются постоянные значения емкости и индуктивности колебательного контура, что ограничивает пределы регулирования параметров разряда.Наиболее близким техническим решением является способ генерации плазмы в ВЧФ плазмотроне, при котором возбуждают в разрядной камере плазмотрона ВЧ генератором, снабженным нагрузочным контуром, колебания электромагнитного по(72) А.С.Тобол кневский(56) Тихомировирования и рфакельных плак УП Всесоюзнрам низкотемп1977, с.140.Донскойплазменные уСССР, серия т1966, с.73,н, А.Г.Ткаченко и А.А,ШияР 4 Р 7) СПоеоБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ В ВЧф ПЛАЗМОТРОНЕ, при котором возбуждают в разрядной камере плазмотрона ВЧ генератором, снабжен н ым на грузочны м контуром, колебания электромагнитного поля, подают в разрядную камеру плазмообразующий газ, инициируют разряд и изменяют реактивную мощность нагрузочного контура, отл и ча ю щи й с я тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона и повышения стабильности разряда, одновременно с изменением реактивной мощности нагрузочного контура изменяют скорость подачи газа в разрядную камеру плазмотрона до достижения равенства реактивных мощностей нагрузочного контура и плазмотрона, после чего нагруэочный контур от- Я ключ а ют. ля, подают в разрядную камеру плазмообразующий газ, инициируют разряд и изменяют реактивную мощность нагрузочного контуНедостатком этого способа является неустойчивость горения разряда и большие потери энергии в нагрузочном контуре ВЧ генератора.Целью изобретения является увеличение КПД плазмотрона и повышение стабильности разряда.Для достижения этой цели в известном способе генерации плазмы в ВЧФ плазмотроне, при котором возбуждают в разрядной камере плазмотрона ВЧ генератором, снабженным нагрузочным контуром, колебания электромагнитного поля, подают в разрядную камеру плазмообразующий газ, иници 1112998ируют разряд и изменяют реактивную мощность нагруэочного контура, одновременно с изменением реактивной мощности нагрузочного контура изменяют скорость подачи газа в разрядную камеру плазмотрона до достижения равенства реактивных мощностей нагруэочного контура и плаэмотрона, после чего нагрузочный контур отключают,На фиг,1 показана ВЧ установка с ВЧФ плаэмотроном; на фиг.2- схема ВЧ установки с нагрузкой в виде ВЧФ плазмотрона, позволяющая реализовать данный способ.ВЧ установка содержит источник питания,1, генераторную лампу 2, параллельный нагрузочный контур 3 и ВЧФ плазмотрон 4, содержащий электрод 5 и разрядную камеру 6, ВЧФ плазмотрон представляет собой коаксиальную линию с индуктивностью . и емкостью С, внутренним проводником которой является токоведущий канал ВЧФ разряда с электродом, . а наружным проводником коаксиальной линии является металлическая разрядная камера плазмотрона.Способ генерации плазмы в ВЧФ плаз.- мотроне реализуется следующим образом, Возбуждают в нагруэочном контуре 3 автоколебания с установленной частотой, с помощью системы поджига инициируют ВЧ факельный разряд в разрядной камере 6 плаэмотрона, тем самым создавая дополни тельный нагруэочный контур с собственнойиндуктивностьюи емкостью С, Изменяя скорость подачи газа в разрядную камеру плазмотрона, изменяют его геометрические размеры и мощность факела, т,е. изменяют 10 (увеличивают) 1. и С плазмотрона. Одновременно соответственно изменяют (уменьшают) параметры нагрузочного контура 3.При равенстве индуктивности и емкостинагруэочного контура автогенератора с ин дуктивностью и емкостью ВЧ факельногоплазмотрона нагрузочный контур автогенератора полностью отключается с передачей его функций контуру в виде ВЧФ плазмотрона.20 Данный способ характеризуется повышенной надежностью, простотой эксплуатации, постоянством подаваемой мощности при изменениях сопротивления нагрузке.Ресурс работы ВЧ установки, испольэу ющей этот способ, и его КПД повышаются,т.к. отпадает необходимость в нагрузочном контуре автогенератора.1112998Составительедактор Е. Гиринская Техред М,Моргентал Корректор Е. Папп Заказ 4052 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ ССС113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5зводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 10
СмотретьЗаявка
3505685, 25.10.1982
ИНСТИТУТ ОПТИКИ АТМОСФЕРЫ СО АН СССР
ТОБОЛКИН А. С, ТКАЧЕНКО А. Г, ШИЯНЕВСКИЙ А. А
МПК / Метки
Метки: вчф, генерации, плазматроне, плазмы
Опубликовано: 07.09.1992
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1112998-sposob-generacii-plazmy-v-vchf-plazmatrone.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ генерации плазмы в вчф плазматроне</a>
Предыдущий патент: Лазер на парах меди
Следующий патент: Полимерная композиция для получения фрикционных резин
Случайный патент: Захват для полых изделий