H05H 1/18 — со сверхвысокочастотными полями, например в диапазоне сантиметровых волн

Номер патента: 168344

Опубликовано: 01.01.1965

МПК: H05H 1/18

Метки: 168344

...плотностях электронов.На чертеже изображена блок-схема устройтва.Сигнал, излучаемый антенной 1 от генераора 2 через исследуемую плазму поступаетприемную антенну 3. Приемник состоит из кристаллического смесителя 4, гетеродпна а, усилителя промежуточной частоты 6, каскадов 7 ограничения амплитуды сигнала и частотного дискриминатора 8.По мере нарастания плотности электроновизменяется фаза прошедшей через плазму электромагнитной волны, а следовательно, и частота прошедшего сигнала 1,В этом случае промежуточная частота равна: р = (, +ЛО - ,1 где Ь - приращение частоты сигнала, вызванное изменением электронной плотности плазмы. С выхода УПЧ б сигнал поступает в дискриминатор 8, который вырабатывает напряжение, пропор ццональное изменению...

Номер патента: 231037

Опубликовано: 01.01.1968

Авторы: Блинов, Володько, Гонтарев, Заморенов, Лысов, Трухин

МПК: H05H 1/18

Метки: волну, свч-плазматрон

...и устройстводляподжига разряда. Устройство представляетсобой стержень, вводимый в зону разряда нажатием пальца, На выходе камеры установлено водоохлакдаемое сопло 4. Камера пересекает два волновода б, имеющих на входефланцы б подключения к источникам СВЧэнергии, и согласовапныс водяные нагрузки 7на концах, Волноводы разделены вкладышем 8,Работает данное устройство следующимобразом. Включают систему охлаждения и подачу рабочего газа в форсунке 2. Далее включают СВЧ-генераторы, и нажатием пусковой кнопки устройства д поджигают разряд в кварцевой камере. 1. СВ 1-,плазматрон на волну Нпь содержащий цилиндрическую газоразрядную камеру, выполненную из диэлектрика, например из кварца, с форсункой подачи газа и пусковьг;ч устройством на входе...

Номер патента: 270139

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Дев, Зусмановский, Иванов, Сазонов, Силин, Цейтлин, Цемко

МПК: H05H 1/18, H05H 1/24

Метки: высокочастотны, л.м, плазмотронп, сверх, т-1, хн5еэдбмблиотена

...поответвцтелсй к торцам нутри которого вдоль зрядная трубка ц длина проходимому плдзмеццериод работы одного Изобретение относится к элсктрордзр 51,В 1,иисточникам газообразной плазмы.Известны сверхвысокочастотные плазмотроны, в которых, плазма образуется в диэлектрической разрядной трубке, пронизывающей 5Волновод, Их недостатком является малоевремя пребывания обрабатываемого всщсствдв плазме.Предлагаемый плазмотрон отличается темчто он содеркит двхд источника питания, схс. 10ма вклОчения которых предусматривает ихпопеременную работу. Источники питания по 1 соединены с помощью направленных ответвителсй к торцам отрезка волновода, Внутрикоторого вдоль его оси размещена разрядная 15трубка. Длина отрезка волновода равна пути,проходимому...

Номер патента: 304714

Опубликовано: 01.01.1971

Автор: Лысов

МПК: H05H 1/18

Метки: 1ио-рка, бис, плазматрон, сверхвысокочастотный

...ма трон, состоящий нз отрсзк круглого волновода с соосно расположенной 5)нутрп нсч о диэлектрической газоразряд 5 гой трубкой, отл 5 сис 05 цйс) тем, то, с целью и)в.Ишсни 5 Оди)роднос) и стснсни понизацнн нл 3)5 ы и 530 разр 55 днон 1 руОкс, вдоль оси трубки устновлсна замедляющая система, нтрп;55 ср, в вндс ребристого стержня. с присоединением заявкиПриоритет 1130 брстсние Относитс 5 к источник 55 м плазмы со свсрквысокочастотным электрическим разрядом.Известны сверквысокочастотные плазматроны, состояниие из круглого металлического 5волновода с расположенной внутри него вдольоси диэлектрической газоразрядной трубкой.Ик недостатком является существенная неоднородность степени ионизации плазмы врадиальном напраьлении. Это обуслсм 5 ги но...

Номер патента: 333889

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Капица

МПК: G21B 1/00, H05H 1/18

Метки: высокотелпературпойплазмы

...1 например, типа магнптной ловушк 11.С целью дополнительного нагрева плазмы,особенно ионов, в рабочей среде возбуждают магнитно-акустичес 1 сие волны.Высокотемпературную плазму получают,воздеиствием высокочастотного поля, созда:ваемого в объемном резанаторе, рабочая среда которого представляет собой газ под давле Ь вием, достаточным для его вязкостного тече,1 и 1 я, предпочтителы 1 о около нормалы 1 ого и выше. При этом термопзоляция плазмы обеспечивается за счет того, что разряд оторван от стенок и свободина подвешен в ценпралыной 25 части резонатора, где оконце 11 т 1 рирована энергия электрического поля, Воплывание этого разряда, обусловленное арх 1 имедовымл сила;ми, предотвращают вращательной циркуляцией газа.30 Ь,ак показыва 1 от...

Номер патента: 333890

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Капица

МПК: G21B 1/00, H05H 1/18

Метки: 333890

...энвргии. Мощность подводится по высокочастопному тракту 3, например по коаксиальной лпии. Бсплывание разряда, обуяловлевное действием архимедовых сил, првдотвращается вращательной циркуляцией газа, возкающей при подаче его по соплам 4 в резонатор. Вращение газа вокруг оси разряда обеспечивается тангенциальной ориентацией сопел. Поток газа выходит через отводы б. Постоянное мачтпое поле внупри резонатора создается солеисидами б, Изменяющуюся составляющую поля создает катушка 7,В раз 1 рядах благодаря тому, что они совсем не касаются стенок резонатора, получается полностью ионизированная плазма. Даже прн малых размерах разряда температура достаточно высока, чтобы в смеси газа происходил синтез, например, в смеси кислорода и азота или...

Номер патента: 425229

Опубликовано: 25.04.1974

Авторы: Евграфов, Иванчиков, Маколкин, Старостин

МПК: G01J 3/32, H01H 1/00, H01J 23/24 ...

Метки: концентрации, плазме, электронов

...частота зондирующей радиово герцах. ет недостаточрений в магниах и ударных двух параметлиы в дмет изобретения Способ изм в плазме, вкл 20 плазмы зонди менении его ч что с целью п измерений, ф фаза отражен 25 и по этой час тронов.юв ерения концентрации электр ючающий прием отраженног рующего СВЧ-излучения пр астоты, отличающийся овышения точности и упрощ иксируют частоту, при кот ного СВЧ-излучения равна тоте судят о концентрации э и изтем,енияорой90,лекИзобретение относится к электротехнике и может быть использовано для диагностики плазмы в магнитогазодинамических устройствах и ударных трубах.Известен способ измерения концэлектронов в плазме по отсечке СВЧвключающий прием отраженного от зондирующего СВЧ-излучения при иего частоты,Однако...

Номер патента: 397139

Опубликовано: 05.03.1975

Автор: Лонгинов

МПК: H05H 1/18

Метки: возбуждения, волн, плазме, электромагнитных

...схематически показано предлагаемое устройство в двух проекциях; на фиг.2 - аналогичное устройство с резонатором, выполненным в виде набора колец; на фиг. 3 приведен общий вид резонатора, выполненного в виде сегмента трубы.Резонатор запитывают от источника 1 высокочастотной энергии через коаксиальные кабели 2 и систему вибраторов 3, Число вибраторов выбирают из условия согласования входных импедансов коаксиальных кабелей.Вибраторы представляют собой отрезки проводников, расположенные в теле резонатора по его периметру.15 В случае выполнения резонатора в виде набора колец (фиг. 2) зазоры между кольцами выбирают из условия обеспечения необходимого аксиального периода собственных колебаний резонатора.2 О В предлагаемом устройстве при...

Номер патента: 434891

Опубликовано: 05.11.1975

Автор: Лонгинов

МПК: H05H 1/18

Метки: возбуждения, волн, плазме, электромагнитных

...график распределения азимутальной компоненты электрического поля вблизи поверхности плазменного шнура (в плоскости АА на фиг, 1); на фиг. 4 - устройство в варианте с использованием диэлектрических колец; на фиг. 5 - поперечное сечение устройства, показанного на фиг. 4.В плазменном шнуре 1 электромагнитная волна возбуждается с помощью волновода 2, выполненного в виде диэлектрической трубы. Параметры волновода (диэлектрическая про434891 А с ницаемость и толщина стенки) выбирают так, чтобы рабочая частота была близка к частоте отсечки вол,повода, Волновод 2 возбуждается с помощью диэлектрического резонатора 3, расположенного соосно с волноводом и имеющего более, высокую диэлектрическую проницаемость. Аксиальная длинна волны собственных...

Номер патента: 430801

Опубликовано: 25.05.1976

Авторы: Жуков, Стороженко, Сухинин

МПК: H05H 1/18

Метки: вставкой, межэлектродной, плазматрон

...расоцессе работы беэ отключения4308013вод 7, коллектор 8, отверстия для подачирабьего газа 9; закруточное кольцо 10.Все электроды охлаждаются водой. Герметизация стыка между обечайкой 3 ч подвижной частью 4 осуществляется с помощью 5уплотняющих колец, Подвижная часть перемещается электрическим, пневматическимили гидравлическим приводом 7,Плазмвтрон выводится на рабочий режимследующим образом. С помощью " привода 1 вподвижная часть выходного электрода.вдвигается внутрь обечайки 3 до соприкосновения с промежуточным электродом 2,В разрядную камеру через коллектор 8 итангенциальные отверстия 9 подается рабочий газ, Поступает рабочий газ и в промежуточный электрод через тангенциальныеотверстия звкруточного кольца 10, так,что направления...

Номер патента: 440999

Опубликовано: 25.08.1976

Авторы: Звягинцев, Митин, Прядкин

МПК: H05H 1/18

Метки: возбуждения, газового, диэлектрической, камере, разряда, тороидальной

...потребл сокочастотной мощности,генератору, причем между электродами включена стабилизирующая индуктивность.Устройство содержит высокочастотныйгенератор 1, к которому через высокочастотный трансформатор 2 подключены возбуждающие электроды 3, выполненные ввиде колец и размещенные в диаметральнопротивоположных местах снаружи тороидальной диэлектрической камеры 4, Между электродами включена стабилизирующая индуктивность 5,В опытном образце устройства используюВЧ-генератор с рабочей частотой 150 мгци стационарной мощностью 1-5 квт, Генератор нагружают на медный виток, являющийся первичной обмоткой повышающегоВЧ-трансформатора. К концам двухвитковойвторичной обмотки присоединяют кольцевыеэлектроды, между которыми включена стаО билизирующая...

Номер патента: 546127

Опубликовано: 05.02.1977

Авторы: Мартынюк, Моторненко, Усиков

МПК: H05H 1/18

Метки: газовый, паяльник, плазменный

...и патрубки для подачи газовой 10 смеси. Однако при пользовании этим паяльником режимом пайки управляют только механически.Цель изобретения - управление репайки при автоматизированном монтадиосхем.Для этого в паяльник введен канакачки СВЧ-сигнала в виде волноводнсиального перехода, соединяющего гени сопло.На чертеже приведена схема паяльника.Паяльник содержит сопло 1, формирующее ламинарный газовый поток, патрубок 2 для подачи газовой смеси, канал подкачки СВЧ-сигнала в виде волноводно-коаксиально го перехода 3, соединяющего генератор СВЧ- колебаний 4 и сопло 1, Волноводно-коаксиальный переход содержит согласующие элементы 5, обеспечивающие максимальное поглощение электромагнитной энергии плазмен- ЗО ным стержнем б, диэлектрические...

Номер патента: 568414

Опубликовано: 05.08.1977

Авторы: Терензио, Шижео

МПК: H05H 1/18

Метки: высокочастотного, камера, нагрева, среды, электропроводящей

...енн ного нагрева эпектропр имущественно плазмы, кой оболочки из диэлек риала которой проложен кпючения к источнику т выполненная в виде спи дящей катушки, сооснойВ этой конструкции водящей среды происх проницаемую дпя, высок этом. электропроводяш ся разлагающимся под бомбардировки изопяцио 2) Заявлено 21.11.72 (2 чнику тока высокой частоты, выпопв виде токопроводяшей катушки. проводящей средой и катушкой орто,.;аппо к последней установлены стержни :,с в чпо выполненные из металла. Уст:,ойство работает следующим обра. .ета:;к ические стсржни, образующие учас.,зр: - .,.с,;., представляют собой попые тру:. чсрез которые пропускают электры;сскпй ток: охлаждающую жидкость, эпек, с .:".с соединении металлических трубчто ск котопый...

Номер патента: 700935

Опубликовано: 30.11.1979

Авторы: Рабинович, Рудяк, Тул

МПК: H05H 1/18

Метки: жидкостной, плазмотрон

...что в межэлектродном/ l 700935 Формула изобретения зазоре на указанном изоляторе установлена охватывающая стержень внутреннего электрода с равномерным зазором трубка из жаростойкого материала, диаметр которой меньше диаметрарабочей головки, а длина меньшедлины части стержня, находящейся вмежэлектродном зазоре,Ла чертеже показан предложенныйплазматрон,Плазматрон имеет наружный 1 ивнутренний 2, снабженный каналомсоплом 3 медные электроды и межэлектродный изолятор 4.Интенсивное перемещение электрической дуги 5 осуществляется поддействием магнитного поля, создаваемого электромагнитом 6. Плазматронснабжен трубкой 7. Электрод 1 инижняя часть электрода 2 имеют водяное охлаждение, Жидкое рабочеетело подается по выполненным в теле электрода 2...

Номер патента: 594866

Опубликовано: 15.06.1980

Авторы: Гончар, Звягинцева, Митин

МПК: H05H 1/18

Метки: возбуждения, газового, диэлектрической, камере, разряда, тороидальной

...нечетное число зт, В соответствии сэтим чисЛо К должно быть нечетным. С другой стороны, для устранения подэлектродныхзон разряда с пониженной ионизацией, необхо.димо, чтобы в каждый период ВЧ поля подкаждым электродом создавалось электрическоеполе двумя соседними электродами, лежащими.по разные стороны от него. При этом каждыйподэлектродпый участок с пониженной иониза.цией будет перекрываться разрядом, возбужда.емым двумя соседними электродами, Дляполучения этого эффекта сдвиг фаз междупоследними не должен быть равен 2 Лп, гдеи - целое число.Это условие запишется как2% -2 ХпКкоткуда - ф П, т. е, к не кратно М,На фиг. 1 изображен один из возможныхвариантов предлагаемого устройства; на фиг, 2 -второй вариант,На фиг. 1 тороидальная...

Номер патента: 455715

Опубликовано: 23.12.1980

Авторы: Демирханов, Киров, Стотланд, Ходатаев

МПК: H05H 1/18

Метки: замкнутых, ловушках, магнитных, нагрева, плазмы

...поле сканирует.ся вплазме в окрестности слоя уд - М,расположенного в глубине плазменного шнура.55для стационарных и квазистационарных замкнутых магнитных ловушек характерно спадающее с расстОяниемотмагнитной оси ловушки распределениеплотности плазмы )3 . Этому соответствует увеличение с расстояниемальфеновской скорости МА в плазме,Например, для параболического рас(рЕ 21пределения плотности =9 о(1-." /С(где а - расстояние от магйитной осидо поверхности раздела плазма-вакуум,Формула изобретенияСпособ нагрева плазмы в замкнутыхмагнитных ловушках с вращательным преобразованием магнитных силовых е 0 линий возбуждением высокочастотноготока, протекающего в скин-слое плазмы, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью уменьшения...

Номер патента: 786835

Опубликовано: 07.01.1982

Автор: Лонгинов

МПК: H05H 1/18

Метки: высокочастотного, нагрева, плазмы

...786835буждает колебания в резонансной системе, образованной полюсами 3, пластинами 4, шинами 6 и конденсаторами 5. Характерное распределение высокочастотных токов в фиксированный момент времени показано на фиг. 2, где сплошной линией обозначен путь основного тока, штриховой линией - токи рассеивания, имеющие меньшее значение, чем основной ток. Благодаря протеканию тока в азимутальном направлении на поверхности плазменного шнура создается высокочастотное продольное магнитное поле, которое является источником возбуждения в плазме быстрых электромагнитных волн.Конденсаторы не сосредоточены в одном месте, а распределены равномерно в азимутальном направлении (в данном примере выполнения шесть точек включения конденсаторов), поэтому...

Номер патента: 841567

Опубликовано: 15.04.1982

Автор: Лонгинов

МПК: H05H 1/18

Метки: возбуждения, волн, медленных, плазме

...высокочастотной энергии 1 через волноводный тракт 2 подключен к патрубку-волноводу 3, яв ляющемуся частью металлической вакуумной камеры 4 магнитной ловушки. Диэлек 1 рическое окно 5 в патрубке-волноводе 3 служит для разделения вакуумной части ловушки от объема, совдиненнаго с атмос ферой. В области подключения патрубкаволновода 3 к вакуумной камере 4 расположен волновод-излучатель, образованный стенкой вакуумной камеры 4 и экраном 6, Экран 6 выполнен в виде сектора, края ко торного соединены с вакуумной камерой 4,причем в экране 6 имеется несколько рядов азимутальных щелей 7. Ширина каждой щели 7 значительно меньше длины щели, а расстояние между соседними щелями 20 примерно равно ширине щели.Устройство (фиг. 1) работает...

Номер патента: 845743

Опубликовано: 15.04.1982

Авторы: Лонгинов, Степанов

МПК: H05H 1/18

Метки: возбуждения, волн, плазме, электромагнитных

...винтобмотки,С целью возбуждения в плазмещих в одном направлении вдоль плазного шнура электромагнитных волн,дольная длина пластин-секторов врается больше длины затухания вораспространяющейся в области мпластинамп-сскторами ц металличекамерой, а источник высокочастоэнергии подключек к пластинам-сектВб,ц:з;. одно-.о 1 з сго концов.Благодаря та 1;Ому Вы 110 лцсц 1 ю устства в пространстве между пластисектором и мсталлпческОЙ 1 ЗмсрОЙ цтц ескц будет существовать только В .бегущая от места тотлючсцтя 11 сточк другому. концу пластин-секторов,как из-за превышения длины системы 1длиной затухания амплитуда отражеволны, бегущей в противоположномправ;тепнц, оудет нсзцачцтельна. Несдимая длина затухания может бытьгечена либо за стст излучения...

Номер патента: 1061690

Опубликовано: 28.02.1991

Авторы: Лысов, Чебаньков

МПК: H05B 7/18, H05H 1/18

Метки: плазмотрон, свч

...также ляющийся ближайшимразрядная камера расупомянутой оси на сторо противолежащей вводустенки выполнен кольцевым со средним, диаметром Ввыбранным из условия 0 =2/ ф где- длина волны вср бввволноводе, а разрядная камера расположена на упомянутой оси на стороне волновода, противолежащей вводу энергии.На фиг,1 представлено схематичное изображение плазмотрона; на фиг,2 плазмотрон в изометрии.Корпус 1 выполнен в виде кольцевого волновода, лежащего в плоскости широкой стенки. Ввод энергии 2 представляет собой симметричный 15 Н-тройник, т,е. тройник, плечи которого развернуты относительно другодруга на угол 120 в плоскости, совпа. дающей с широкими стенками волновода. Разрядная камера 3 расположена перпендикулярно широкой стенке...

Номер патента: 1106434

Опубликовано: 23.12.1991

Авторы: Лысов, Чебаньков

МПК: H05H 1/18

Метки: поддержания, свч-разряда

...ф ,ного перехода коаксиальные волны Н т двух падающих с противоположных торон,равных по величине амплитуды, и одинаковых по Фазе волн, взаимно уничтожаются.В случае, когда энергия суммирует- й ся непосредственно на разряде, который поддерживается в камере, распо" ложенной в волноводе, перпендикулярно к его широким стенкам, можно го" ворить о симметрии подвола энергиидписноеоткрытиям при ГКНТ СССд /5 венного 113035,1 роизводственно"издательский комбинат "Патент", г. У ул. Гагарина,10 относительно плоскости, перпендикулярной сечению волновода. Однако, как показывает опыт, разряд в этом случае остается строго симметричным и относительно оси разрядной камеры, если он согласован с трактом подвода энергии.В варианте, когда разрядная камера...

Номер патента: 1094569

Опубликовано: 07.09.1992

Автор: Теплоухов

МПК: H05B 7/18, H05H 1/18

Метки: высокочастотный, дисперсного, нагрева, плазмотрон, факельный

...ние теплового КПД плазмотрона и повышение его надежности,Для достижения указанной цели в ВЧфакельном плазмотроне для нагрева дисперсных материалов, содержащем цилиндрический корпус, в один из торцов которогочерез изолятор введен центральный трубчатый высоковольтный электрод, подсоединенный к выступающему из корпуса концуэлектрода. трубопровод подачи дисперсного материала и патрубок ввода плазмообразного газа, изолятор выполнен в видесоединенной с корпусом большим основанием конической камеры. патрубок вводагаза расположен на боковой поверхностиуказанной камеры, а трубопровод подачидисперсного материала выполнен в виденавитого из металлической трубы дросселядлиной А/4, гдето -длина волны питающегоВЧ генератора.На чертеже изображен...

Номер патента: 1112998

Опубликовано: 07.09.1992

Авторы: Ткаченко, Тоболкин, Шияневский

МПК: H05B 7/18, H05H 1/18

Метки: вчф, генерации, плазматроне, плазмы

...мощность нагрузочного контуНедостатком этого способа является неустойчивость горения разряда и большие потери энергии в нагрузочном контуре ВЧ генератора.Целью изобретения является увеличение КПД плазмотрона и повышение стабильности разряда.Для достижения этой цели в известном способе генерации плазмы в ВЧФ плазмотроне, при котором возбуждают в разрядной камере плазмотрона ВЧ генератором, снабженным нагрузочным контуром, колебания электромагнитного поля, подают в разрядную камеру плазмообразующий газ, иници 1112998ируют разряд и изменяют реактивную мощность нагруэочного контура, одновременно с изменением реактивной мощности нагрузочного контура изменяют скорость подачи газа в разрядную камеру плазмотрона до достижения равенства...