H05H 1/42 — с обеспечением введения материалов в плазму, например порошка, жидкости
Способ закалки продуктов реакции приплазмохимических процессах
Номер патента: 824491
Опубликовано: 23.04.1981
Авторы: Крохин, Тихомиров, Шишковский
МПК: H05H 1/42
Метки: закалки, приплазмохимических, продуктов, процессах, реакции
...резкому снижению подогрева плазмообразующего газа в плазменной струе. Это приводит к увеличению скорости релаксации.газовой температуры газовой; струи. Изменяя концентрацию примесей электрофильных веществ в закалочном устройстве меняют скорость ре" лаксации газовой температуры, тем самим задают канал селективной плазмохимичской реакции.Й р и ме р . Проводилось получение металлов 1 У груПпы переработкой в плазменной струе, генерируемой, например, ВЧ плазмотроном газообразных галогенидов этих металлов. Нагретые в плазменной струе галогеннды металлов 1 У группы диссоциируют при температурах порядка 1000-4000 К на пары металлов и галогены.При введении в закалочное устройство до 30 объемных процентов элект.рофильного газа - фреона 12 (СС 1...
Устройство для проведения плазмохимических процессов
Номер патента: 957746
Опубликовано: 07.04.1988
Авторы: Гущин, Иванов, Медведев, Николаев, Сологуб
МПК: H05H 1/42
Метки: плазмохимических, проведения, процессов
...Известно также уст 15ройство для проведения плаэмохимических процессов, содержащее реакционнуюкамеру, нижний и верхний электроды,систему подачи и отвода реакционныхгазов, источник энергии. Недостаткомэтого устройства является низкая20производительность плаэмохимическихпроцессов и низкий выход годных из. делий.Цель изобретения - повьппение про 25иэводительности плазмохимнческихпроцессов и увеличение выхода годныхизделий.Цель достигается тем, что в устройстве для проведения плазмохимических процессов, содержащем реакционную камеру, нижний электрод, верхний"электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии,устройство для перемещения обрабатываемых пластин, последнее выполнено 35в виде группы вертикально расположенных...